化学机械抛光方法
    91.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102229105A

    公开(公告)日:2011-11-02

    申请号:CN201110178449.3

    申请日:2011-06-28

    Applicant: 清华大学

    Abstract: 本发明公开了一种化学机械抛光方法,所述化学机械抛光方法包括:A)利用抛光头夹持晶圆以在抛光垫上对所述晶圆进行化学机械抛光;B)在所述步骤A)开始之前、之后或同时利用修整器对所述抛光垫进行修整,其中所述修整至少持续至所述化学机械抛光结束。根据本发明实施例的化学机械抛光方法可以大大地提高晶圆表面抛光厚度的均匀性。

    一种抛光头
    92.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102172888A

    公开(公告)日:2011-09-07

    申请号:CN201110039297.9

    申请日:2011-02-16

    Applicant: 清华大学

    Abstract: 本发明公开了一种抛光头,所述抛光头包括盖板;基座,所述基座固定在所述盖板的下表面上;柔性膜,所述柔性膜固定在所述基座的下表面上,其中柔性膜与所述基座限定出与外界连通的下腔室;保持环,所述保持环固定在所述基座的下表面上且所述保持环的下表面上设有容纳孔;和传感器,所述传感器安装在所述容纳孔内用于检测晶圆。根据本发明实施例的抛光头通过在所述保持环内安装所述传感器,从而可以在第一时间检测到被甩出的晶圆,从而可以及时报警停机,避免因晶圆被撞碎而带来的损失。

    用于晶圆的刷洗装置
    93.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102074455A

    公开(公告)日:2011-05-25

    申请号:CN201010272672.X

    申请日:2010-09-03

    Applicant: 清华大学

    Abstract: 本发明公开了一种用于晶圆的刷洗装置,包括机架;支撑部件,所述支撑部件设置在所述机架上以支撑晶圆;清洗液供给单元,所述清洗液供给单元设置在所述机架上用于向晶圆的表面施加清洗液;以及一对刷子,所述一对刷子包括刷子主体和设置于所述刷子主体表面上的多个毛束,且所述一对刷子可旋转地设置在所述机架上以将晶圆夹在它们之间刷洗晶圆表面同时在晶圆上产生驱动所述晶圆转动的扭矩。根据本发明实施例的用于晶圆的刷洗装置,由毛刷对晶圆产生的扭矩驱动晶圆转动,因此不需另设晶圆驱动装置,且结构简单可靠,降低了设备设计制造成本。而且由于刷子旋转、晶圆转动和支撑滚轮转动之间是“柔性”的随动关系,不易发生因转动失衡而碎片的情况。

    一种用于化学机械抛光设备的晶圆交换装置

    公开(公告)号:CN102049730A

    公开(公告)日:2011-05-11

    申请号:CN201010623316.8

    申请日:2010-12-29

    Applicant: 清华大学

    CPC classification number: B24B37/345 H01L21/68742

    Abstract: 本发明为一种用于化学机械抛光设备的晶圆交换装置,属于化学机械抛光设备技术领域,包括一举升架,举升架上部通过中空腔体与举升架下部贯通连接,举升架下部上安装有控制举升架升降的第一气缸和直线轴承,导向轴穿过直线轴承,举升架上部通过弹簧连接盆状的对位环,对位环上安装有控制晶圆托架升降的第二气缸,第二气缸的气缸杆穿过对位环连接到晶圆托架的底部,晶圆托架、第二气缸和对位环轴线重合并且与直线轴承的轴线平行,在抛光过程中,本发明既能与外围机械手配合,完成晶圆送出及取入,又能与抛光头配合,完成晶圆的装载与卸载,在整个装、卸、取、送晶圆的过程中,能够完成晶圆的精确定位,并保证晶圆不被损坏。

    一种抛光垫修整头
    95.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101972988A

    公开(公告)日:2011-02-16

    申请号:CN201010217013.6

    申请日:2010-06-28

    Applicant: 清华大学

    CPC classification number: B24B53/017

    Abstract: 本发明涉及化学机械抛光设备技术领域,特别涉及一种抛光垫修整头。主轴通过两组轴承轴向定位,避免主轴的轴向串动,轴承通过轴承端盖和套筒安装固定在轴承座内;轴承座及轴承端盖设有连通的气孔,并在轴承端盖的气孔上安装快换接头;主轴与轴承座之间的密封,包括迷宫密封和气封;主轴的顶部通过螺钉与同步带固定连接,主轴的底端通过螺钉与法兰及压片固定连接;保护盖、压盘、自适应盘和金刚石盘四者之间通过螺钉连接成一体,将法兰及压片包覆固定;法兰与压盘之间以及法兰与保护盖之间分别通过压紧柔性环连接。本发明结构简单紧凑美观,易于加工制造及装配,运动平稳可靠,具有很高的实用性,可广泛用于抛光设备中。

    轮毂电机调磁结构及轮毂电机总成

    公开(公告)号:CN119742969A

    公开(公告)日:2025-04-01

    申请号:CN202411662679.0

    申请日:2024-11-20

    Applicant: 清华大学

    Abstract: 本发明涉及电机领域,提供一种轮毂电机调磁结构及轮毂电机总成。轮毂电机调磁结构包括定子铁芯;转子铁芯,嵌套于定子铁芯,转子铁芯包括外侧铁芯以及嵌套于外侧铁芯内部的内侧铁芯;驱动件以及复位件,驱动件以及复位件连接于外侧铁芯和内侧铁芯之间,在轮毂电机的反电势高于直流母线电压的情况下,驱动件适于带动内侧铁芯向出线端运动,定转子有效接触面积降低,在轮毂电机降速时,复位件适于带动内侧铁芯相对定子铁芯复位。该铁芯总成有助于降低铁芯损耗,提高能源利用率,有助于在不同的工况下实现更理想的电机性能,如提高转速输出能力、降低高速运行时电机温升等;大幅度提升了轮毂电机的运行效率,还显著增强了轮毂电机的输出性能。

    圆形凹坑织构化表面及其优化方法和摩擦副

    公开(公告)号:CN116975942A

    公开(公告)日:2023-10-31

    申请号:CN202311012614.7

    申请日:2023-08-11

    Applicant: 清华大学

    Abstract: 本发明公开了一种圆形凹坑织构化表面及其优化方法和摩擦副,包括表面以及凹设于表面的多个圆形凹坑织构,表面能绕一旋转中心沿一旋转方向转动,多个圆形凹坑织构间隔排布形成有间隔设置的至少一内侧凹坑列以及至少一外侧凹坑列,内侧凹坑列中的多个圆形凹坑织构沿旋转方向自表面的内侧区域向其中间区域逐渐靠近地间隔排布设置,外侧凹坑列中的多个圆形凹坑织构沿旋转方向自表面的外侧区域向其中间区域逐渐靠近地间隔排布设置。本发明通过对表面上多个圆形凹坑织构的分布方式进行优化设计,润滑油流出的附近区域能产生一个高压区,且能避免表面的两侧区域处圆形凹坑织构内产生的低压区对高压区和压力峰值造成影响,显著提升摩擦副间油膜承载力。

    复合织构化配流盘及正反转轴向柱塞泵

    公开(公告)号:CN116838561A

    公开(公告)日:2023-10-03

    申请号:CN202311012612.8

    申请日:2023-08-11

    Applicant: 清华大学

    Abstract: 本发明公开了一种复合织构化配流盘及正反转轴向柱塞泵,包括:盘体,压油窗口和吸油窗口对称分布于中心通孔的两侧,压油窗口的两端和吸油窗口的两端之间形成第一死点区域和第二死点区域;复合织构,包括凹设于盘面上的多个第一织构和多个第二织构,第一织构和第二织构均包括一尖头部以及两侧边部,两侧边部相对于彼此逐渐靠近地延伸至尖头部;其中,多个第一织构沿盘体的周向间隔排布于第一死点区域且第一织构的尖头部朝向顺时针方向设置;多个第二织构沿盘体的周向间隔排布于第二死点区域且第二织构的尖头部朝向逆时针方向设置。本发明能使柱塞泵不论是正向旋转还是反向旋转,都能提升油膜承载力,并且平衡掉一部分偏载力矩,减小配流盘的偏磨。

    一种石墨烯涂料的制备方法、自修复涂层及应用

    公开(公告)号:CN115873469A

    公开(公告)日:2023-03-31

    申请号:CN202111126699.2

    申请日:2021-09-26

    Applicant: 清华大学

    Abstract: 本发明属于涂料技术领域,具体而言涉及一种石墨烯涂料的制备方法、自修复涂层及应用。其中,高缓蚀剂负载量由制备超高比表面积石墨烯和聚多巴胺共吸附来实现。制备方法由催化剥离、高温刻蚀以及共吸附组成。具体包括:将氧化石墨烯加入过氧化氢溶液进行水热反应;向悬浮液中加入氢氧化钾,通过过氧化氢的催化分解对氧化石墨烯进行剥离;利用残留的氢氧化钾对氧化石墨烯进行低温刻蚀,得到超高比表面积石墨烯;通过聚多巴胺和缓蚀剂在石墨烯上共吸附,并将其分散在环氧树脂中,得到具有高缓蚀剂负载量的石墨烯涂料。该石墨烯涂料的制备方法便捷、环保,由其形成的自修复防腐涂层展现出优异的长期防腐效果。

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