一种新型WC基硬质合金材料及其制备方法

    公开(公告)号:CN101892411A

    公开(公告)日:2010-11-24

    申请号:CN201010247918.8

    申请日:2010-08-09

    Abstract: 本发明涉及一种新型高性能WC基硬质合金材料及其制备方法,属于高技术结构陶瓷及其应用领域。所发明的高性能硬质合金材料以质量分数为20~80%的亚微米/纳米WC粉为基质,以2~20%的高温化学稳定性优异的金属Mo、Ni和稀土为粘结剂,并添加0.1~5.0%的晶粒抑制剂、10~80%的高硬材料金刚石或者立方氮化硼微粉为增硬剂和0.5~15%的SiC纳米结构等为增韧剂,并用快速烧结技术——放电等离子体烧结或者中频感应加热烧结制备而成。烧结体晶粒细小,硬度、强度、韧性高,综合耐磨性能好,特别适合制备重载条件下使用的地质钻探机具,也可制作高性能机加工切削刀具、模具等。

    一种高性能掺杂类金刚石膜的制备方法

    公开(公告)号:CN101748381A

    公开(公告)日:2010-06-23

    申请号:CN200910217545.7

    申请日:2009-12-31

    Abstract: 一种高性能掺杂类金刚石膜的制备方法,其特征是该方法首先利用超声波清洗技术去除基体表面污染层;然后利用离子束辅助沉积技术制备梯度过渡层;最后利用离子束沉积+磁控溅射合成多元掺杂DLC膜,在此步骤除了向离子源中通入甲烷、乙炔、苯、乙醇、丙酮等任何一种含碳气体外,还同时通入包括硅烷、硼烷、磷烷、四氟化碳等含非碳元素气体源的任何一种气体,并开启金属溅射源掺杂金属元素。本发明可合成同时掺杂金属元素和非金属元素的多元掺杂DLC膜,充分发挥掺杂金属元素和非金属元素的优势互补,显著改善DLC膜的综合性能。

    一种适合低浪涌电压电器使用的氧化锌压敏电阻材料及制备方法

    公开(公告)号:CN101604566A

    公开(公告)日:2009-12-16

    申请号:CN200910089457.3

    申请日:2009-07-21

    Abstract: 本发明涉及一种适合低浪涌电压电器使用的氧化锌压敏电阻材料及制备方法,属于电子陶瓷制备及应用技术领域。所述材料的组分及含量包括ZnO 70~95mol%、Pr6O110.1~20mol%、氧化钴(Co3O4或CoO)0.01~15mol%、Cr2O30.01~15mol%、TiO20.01~25mol%。所述材料制备方法依次包括“混料、高能球磨、烘干、预烧、研磨过筛、模压成型、烧结和被银”工艺步骤。用上述材料和制备方法所制得的氧化锌压敏电阻片,其电位梯度E(电流密度为1mA/cm2时对应的电位梯度值)为100~380V/mm,非线性系数α[根据公式α=1/log(E10mA/E1mA)计算]为40~90,漏电流IL(75%E所对应的电流密度值)为2.7~6.0μA/cm2,综合性能优良。可用于手机、家用电器等低浪涌电压电器使用。本发明也可用于制作高压避雷器。

    高纯高产率网络状分枝氮化硅单晶纳米结构的制备方法

    公开(公告)号:CN101603207A

    公开(公告)日:2009-12-16

    申请号:CN200910089460.5

    申请日:2009-07-21

    Abstract: 本发明涉及一种网络状分枝氮化硅单晶纳米结构的制备方法,属于材料制备技术领域。所述材料为高纯度的网络状分枝α-氮化硅纳米结构。本发明采用热解有机前驱体方法在镀有金属催化剂的基片上合成网络状分枝氮化硅单晶纳米结构。含有步骤:(1)高含硅氮含量聚硅氮烷在160-300℃下的低温交联固化;(2)交联固化后的非晶固体在高耐磨器具中高能球磨粉碎;(3)高能球磨后得到的前驱体粉末在保护气氛下的快速高温热解、蒸发和在镀有金属催化剂薄膜的基片上的沉积。所述方法,蒸发源组成可控且可调,工艺和设备简单、成本低廉,所得网络状分枝结构产量大、纯度高,可用作高性能纳米复合材料中的增强增韧剂,同时还可于制作纳电子器件。

    一种含铬类金刚石薄膜的制备方法

    公开(公告)号:CN100387754C

    公开(公告)日:2008-05-14

    申请号:CN200510112723.1

    申请日:2005-10-12

    Abstract: 本发明公开了一种含铬类金刚石薄膜及其制备方法,所述薄膜是在基体表面气相沉积的无氢含铬类金刚石薄膜,具有沿基体表面垂直方向自里向外依次为Cr层、CrNx层、CryCz层、Cr层、CrNx层、CryCz层......交替的致密多层梯度结构,膜厚不小于2μm,它具有高硬度、良好膜/基间结合力和良好的耐磨性能。其制备方法是利用磁控溅射系统进行镀膜,磁控靶为1对非平衡磁控Cr靶和1-4对非平衡磁控C靶,靶电源为20-250kHz的中频交流电源;利用单级脉冲直流电源控制在待镀膜基体上施加脉冲基体负偏压;溅射气体为氩气,该制备方法克服了直流反应磁控溅射法合成类金刚石薄膜存在的靶中毒缺陷。

    一种含铬类金刚石薄膜及其制备方法

    公开(公告)号:CN1743503A

    公开(公告)日:2006-03-08

    申请号:CN200510112723.1

    申请日:2005-10-12

    Abstract: 本发明公开了一种含铬类金刚石薄膜及其制备方法,所述薄膜是在基体表面气相沉积的无氢含铬类金刚石薄膜,具有沿基体表面垂直方向自里向外依次为Cr层、CrNx层、CryCz层、Cr层、CrNx层、CryCz层……交替的致密多层梯度结构,膜厚不小于2μm,它具有高硬度、良好膜/基间结合力和良好的耐磨性能。其制备方法是利用磁控溅射系统进行镀膜,磁控靶为1对非平衡磁控Cr靶和1-4对非平衡磁控C靶,靶电源为20-250kHz的中频交流电源;利用单级脉冲直流电源控制在待镀膜基体上施加脉冲基体负偏压;溅射气体为氩气,该制备方法克服了直流反应磁控溅射法合成类金刚石薄膜存在的靶中毒缺陷。

    一种硬质耐磨保护薄膜及其制备方法

    公开(公告)号:CN1740394A

    公开(公告)日:2006-03-01

    申请号:CN200510104988.7

    申请日:2005-09-26

    Abstract: 本发明公开了一种硬质耐磨薄膜制品,包括基体和薄膜,所述薄膜为至少两层的多层结构的Ti基薄膜或Cr基薄膜,Ti基薄膜为Ti层、TiN层、Ti层、TiN层依次交错构成,Cr基薄膜为Cr层、CrN层、Cr层、CrN层依次交错构成。它是利用磁控溅射方法成膜的,磁控靶为2~5对非平衡磁控Ti或Cr对靶,靶电流为中频电源的恒定电流;在待镀基体上施加脉冲基体负偏压;沉积Ti或Cr附着层和间隔层期间仅通入氩气,沉积TiN或CrN层期间通入氩气和氮气,它具有高硬度、良好膜基间结合力和很少的表面缺陷,可作为高质量耐磨部件保护涂层而广泛用于机械加工行业的刀具和模具、机械制造行业的精密部件、微电子行业和装饰行业等。

    一种简易式机械内割刀
    98.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113319935A

    公开(公告)日:2021-08-31

    申请号:CN202110567163.8

    申请日:2021-05-24

    Abstract: 本发明公开了一种简易式机械内割刀,包括筒体、支撑杆、割刀组件和推杆,筒体的一端设有上接头,筒体设有第二内孔;筒体的侧壁设有多个第一通孔,每个第一通孔均与第二内孔连通;支撑杆设置在筒体内,支撑杆位于第二内孔的轴线上;割刀组件包括涨刀体和多个刀头,涨刀体滑动连接在支撑杆上,多个刀头均滑动连接在涨刀体上,每个刀头均正对一个第一通孔设置;推杆的一端与涨刀体的底部抵接,使用时,推杆推动涨刀体沿支撑杆移动将刀头从第一通孔中伸出。本发明达到的技术效果为:使用过程中刀头伸出筒体外的长度可调,使用操作简单便捷,整体结构简单,加工方便,生产制造成本低。

    一种碳纤维改性聚四氟乙烯耐磨疏水复合涂层制备方法

    公开(公告)号:CN108864841B

    公开(公告)日:2021-03-23

    申请号:CN201810486555.X

    申请日:2018-05-21

    Abstract: 本发明公开一种碳纤维改性聚四氟乙烯耐磨疏水复合涂层制备方法。所述方法对钻头钢基体进行喷砂处理以去除表面氧化层,使基体表面获得一定的清洁度和粗糙度,改善机械性能并提高与涂层之间的附着力;将10‑40份磨碎碳纤维和占碳纤维份数1%的硅烷偶联剂加入到60‑90份聚四氟乙烯乳液中,利用表面工程技术在PDC钻头的钢体表面制备耐磨性和疏水性优异的聚四氟乙烯/碳纤维复合涂层。本发明制备出的聚四氟乙烯复合涂层具有较大的接触角和较低的磨损率,具有优良的疏水性和耐磨性,可以有效解决钻头泥包问题和服役持久性问题。

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