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公开(公告)号：CN105733611A
公开(公告)日：2016-07-06
申请号：CN201510933760.2
申请日：2015-12-15
Applicant: JSR株式会社
IPC: C09K19/56 , G02F1/1337 , C07D213/30 , C07D213/55 , C07D471/04 , C07C275/10 , C07C335/08 , C07C69/86 , C07D233/56 , C07D233/48 , C07C271/16 , C07D231/12 , C07D303/36 , C07D303/16 , C07D303/20 , C07D491/18 , C07C279/14
Abstract: 本发明提供一种能够获得残像特性良好，而且ODF不均少的液晶元件的液晶取向剂、液晶元件的制造方法、液晶取向膜、液晶元件及化合物。本发明的液晶取向剂含有：(A)成分：选自由聚酰亚胺、聚酰胺酸、聚酰胺酸酯、聚有机硅氧烷及具有聚合性不饱和键的单体的聚合物所组成的组群中的至少一种聚合物。(B)成分：具有下述(C)结构及(D)结构的至少任一个的光聚合性化合物。(C)结构：在与(A)成分所具有的官能基之间以及(B)成分间的至少任一个中形成较共价键更弱的分子间力或者可逆的共价键的部分结构。(D)结构：在与(A)成分所具有的官能基之间以及(B)成分间的至少任一个中，通过加热而形成共价键的部分结构。
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公开(公告)号：CN104007615A
公开(公告)日：2014-08-27
申请号：CN201410064730.8
申请日：2014-02-25
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明涉及着色组合物、着色固化膜和显示元件。该着色组合物适合形成兼得耐热性和耐溶剂性、且抑制了移染性的着色固化膜且具有染料。该着色组合物含有（A）着色剂和（C）聚合性化合物，上述着色剂含有具有下述式（1）表示的结构单元的聚合物。〔在式（1）中，R0表示氢原子或甲基，X表示卤素基团、卤代烃基、或者在卤代烃基的C-C键间具有含除碳原子、氢原子或卤素原子以外的原子的连结基的基团，Y表示单键或者2价的有机基团，Z+表示选自特定结构的三芳基甲烷系、次甲基系、偶氮系、二芳基甲烷系、醌亚胺系、蒽醌系、酞菁系及呫吨系中的至少1种阳离子性生色团。〕
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公开(公告)号：CN112534353A
公开(公告)日：2021-03-19
申请号：CN201980051934.9
申请日：2019-06-14
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/039 , C08F220/12 , G03F7/20 , G03F7/40 , H01L21/60
Abstract: 本发明的目的在于提供一种可形成分辨性优异、且能够应对铜镀敷及镍镀敷的抗蚀剂图案的感光性树脂组合物、使用所述感光性树脂组合物的抗蚀剂图案的形成方法、使用所述抗蚀剂图案的镀敷造形物的制造方法、具有镀敷造形物的半导体装置，本组合物含有聚合物(A)及光酸产生剂(B)，所述聚合物(A)具有下述式(a1)所表示的结构单元(a1)、下述式(a2)所表示的结构单元(a2)、及下述式(a3)所表示的结构单元(a3)。式(a3)中，R33表示羟基芳基。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105733611B
公开(公告)日：2020-03-13
申请号：CN201510933760.2
申请日：2015-12-15
Applicant: JSR株式会社
IPC: C09K19/56 , G02F1/1337 , C07D213/30 , C07D213/55 , C07D471/04 , C07C275/10 , C07C335/08 , C07C69/86 , C07D233/56 , C07D233/48 , C07C271/16 , C07D231/12 , C07D303/36 , C07D303/16 , C07D303/20 , C07D491/18 , C07C279/14
Abstract: 本发明提供一种能够获得残像特性良好，而且ODF不均少的液晶元件的液晶取向剂、液晶元件的制造方法、液晶取向膜及液晶元件。本发明的液晶取向剂含有：(A)成分：选自由聚酰亚胺、聚酰胺酸、聚酰胺酸酯、聚有机硅氧烷及具有聚合性不饱和键的单体的聚合物所组成的组群中的至少一种聚合物。(B)成分：具有下述(C)结构及(D)结构的至少任一个的光聚合性化合物。(C)结构：在与(A)成分所具有的官能基之间以及(B)成分间的至少任一个中形成较共价键更弱的分子间力或者可逆的共价键的部分结构。(D)结构：在与(A)成分所具有的官能基之间以及(B)成分间的至少任一个中，通过加热而形成共价键的部分结构。
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公开(公告)号：CN104122752A
公开(公告)日：2014-10-29
申请号：CN201410165783.9
申请日：2014-04-23
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明提供一种适于形成具有高耐热性的着色层的着色组合物。所述着色组合物含有(A)着色剂、(B)粘结剂树脂和(C)聚合性化合物，上述着色剂含有具有下述式(1)表示的结构的化合物。式(1)中，X1～X9相互独立地表示氢原子、卤素原子、取代或非取代的杂环基、-NR2R3、-OR4、-CO2R5、-SR6、-R7、-COR8或者-SO2R9。Z1～Z3相互独立地表示-O-或者-NR1-。R1～R6相互独立地表示氢原子或者取代或非取代的烃基。R7～R9相互独立地表示取代或者非取代的烃基。
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公开(公告)号：CN112534353B
公开(公告)日：2024-12-24
申请号：CN201980051934.9
申请日：2019-06-14
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/039 , C08F220/12 , G03F7/20 , G03F7/40 , H01L21/60
Abstract: 本发明的目的在于提供一种可形成分辨性优异、且能够应对铜镀敷及镍镀敷的抗蚀剂图案的感光性树脂组合物、使用所述感光性树脂组合物的抗蚀剂图案的形成方法、使用所述抗蚀剂图案的镀敷造形物的制造方法、具有镀敷造形物的半导体装置，本组合物含有聚合物(A)及光酸产生剂(B)，所述聚合物(A)具有下述式(a1)所表示的结构单元(a1)、下述式(a2)所表示的结构单元(a2)、及下述式(a3)所表示的结构单元(a3)。式(a3)中，R33表示羟基芳基。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN112534352A
公开(公告)日：2021-03-19
申请号：CN201980051416.7
申请日：2019-07-01
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/039 , C08F220/28 , C08F220/30 , G03F7/20 , G03F7/40
Abstract: 本发明的目的在于提供一种形成作为镀覆处理的掩模而有用的抗蚀剂图案的感光性树脂组合物、使用了所述感光性树脂组合物的抗蚀剂图案的形成方法、使用了通过所述形成方法所形成的抗蚀剂图案的镀覆成形物的制造方法、以及具有所述镀覆成形物的半导体装置，感光性树脂组合物含有：聚合体(A)，具有下述式(a1)所示的结构单元(a1)、下述式(a2)所示的结构单元(a2)、及下述式(a3)所示的结构单元(a3)；以及光酸产生剂(B)。式(a3)中，R33表示羟基芳基。
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