感放射线性树脂组合物
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101533224A

    公开(公告)日:2009-09-16

    申请号:CN200910126173.7

    申请日:2003-10-23

    Abstract: 本发明提供一种感放射线性树脂组合物,该树脂组合物在使用如KrF准分子激光、ArF准分子激光等远紫外线之类的各种放射线的微细加工中可以用作为化学增幅型抗蚀剂。本发明的感放射线性树脂组合物含有〔A〕含有由通式(I-1)表示的重复单元(1-1)、以及、由通式(I-2)表示的重复单元(1-2)或由通式(I-5)表示的重复单元(1-5),为碱难溶性或不溶性的、通过酸的作用而变成碱易溶性的树脂、以及〔B〕感放射线性酸发生剂;其中,上述树脂中没有内酯环,在构成上述树脂的总重复单元的合计量为100摩尔%的情况下,上述重复单元(1-1)的含有比例为40~90摩尔%。

    感放射线性树脂组合物
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1708728A

    公开(公告)日:2005-12-14

    申请号:CN200380102382.9

    申请日:2003-10-23

    Abstract: 本发明提供一种感放射线性树脂组合物,该树脂组合物在使用如KrF准分子激光、ArF准分子激光等远紫外线之类的各种放射线的微细加工中可以用作为化学增幅型抗蚀剂。本发明的感放射线性树脂组合物含有〔A〕含有由下述通式(I-1)表示的重复单元(1-1)的树脂、〔B〕感放射线性酸发生剂(1-(4-正丁氧基萘基)四氢噻吩鎓九氟-正丁磺酸酯等)。进而,还可以含有〔C〕酸扩散控制剂(苯基苯并咪唑等)。

    辐射线敏感树脂组合物
    3.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1288499C

    公开(公告)日:2006-12-06

    申请号:CN03125520.5

    申请日:2003-08-29

    CPC classification number: G03F7/0397 Y10S430/122

    Abstract: 一种辐射线敏感树脂组合物,包含:(A)含有至少两种式(1)-(6)的重复单元的树脂,总量5-70mol%,但每一种的量为1-49mol%,该树脂不溶于或几乎不溶于碱,但在酸的作用下易溶于碱,和(B)光酸发生剂。其中,R1表示氢原子或甲基R2表示具有1-4个碳原子的取代或未取代烷基。该树脂组合物用作化学放大保护层,该保护层对辐射线具有高透射率,感光度,分辨率,抗干蚀刻性以及保护层图案。

    感放射线性树脂组合物
    7.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1708728B

    公开(公告)日:2011-03-16

    申请号:CN200380102382.9

    申请日:2003-10-23

    Abstract: 本发明提供一种感放射线性树脂组合物,该树脂组合物在使用如KrF准分子激光、ArF准分子激光等远紫外线之类的各种放射线的微细加工中可以用作为化学增幅型抗蚀剂。本发明的感放射线性树脂组合物含有〔A〕含有由下述通式(I-1)表示的重复单元(1-1)的树脂、〔B〕感放射线性酸发生剂(1-(4-正丁氧基萘基)四氢噻吩鎓九氟-正丁磺酸酯等)。进而,还可以含有〔C〕酸扩散控制剂(苯基苯并咪唑等)。

    辐射线敏感树脂组合物
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1501166A

    公开(公告)日:2004-06-02

    申请号:CN03125520.5

    申请日:2003-08-29

    CPC classification number: G03F7/0397 Y10S430/122

    Abstract: 一种辐射线敏感树脂组合物,包含:(A)含有至少两种式(1)-(6)的重复单元的树脂,总量5-70mol%,但每一种的量为1-49mol%,该树脂不溶于或几乎不溶于碱。但在酸的作用下易溶于碱。和(B)光酸发生剂。其中,R1表示氢原子或甲基,R2表示具有1-4个碳原子的取代或未取代烷基。该树脂组合物用作化学放大保护层,该保护层对辐射线具有高透射率,感光度,分辨率,抗干蚀刻性以及保护层图案。

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