公开(公告)号：CN109790302A

公开(公告)日：2019-05-21

申请号：CN201780060253.X

申请日：2017-09-29

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 足立拓海 ,  佐野拓哉 ,  福本天斗 ,  本田尚哉 ,  小林薰平 ,  上田二朗

IPC: C08J3/24 ,  C08L9/00

Abstract: 本发明提供可得到具有高强度的橡胶弹性体，而且能够制造廉价的橡胶组合物的方法和使用该橡胶组合物制造的轮胎。本发明的橡胶组合物的制造方法的特征在于，具有以下工序：将至少含有高饱和共轭二烯系聚合物和交联剂体系的成分混炼的工序(A)，将至少含有上述高饱和共轭二烯系聚合物以外的共轭二烯系聚合物的成分混炼的工序(B)，以及将上述工序(A)中得到的中间体组合物(a)和上述工序(B)中得到的中间体组合物(b)混炼的工序(C)。

公开(公告)号：CN102034908A

公开(公告)日：2011-04-27

申请号：CN201010502435.8

申请日：2010-09-29

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 野边洋平 ,  加藤仁史 ,  小林薰平 ,  宫本智明 ,  住谷孝治 ,  小久保辉一

IPC: H01L33/00 ,  C09D183/04

Abstract: 本发明提供光半导体元件的制造方法、及该元件保护层形成用组合物。提供即使为了除去在形成用于分离元件单元的分离沟槽时产生的附着物而使用酸时，也不会对半导体层造成不良影响，并且耐酸性以及耐断裂性优异的保护层形成用组合物，以及使用该组合物的光半导体元件的制造方法。保护层形成用组合物包含硅氧烷系聚合物和有机溶剂。光半导体元件的制造方法包含以下工序：向在基板(1)上形成的半导体层(2)、(3)的表面涂布保护层形成用组合物，从而形成保护层(4)的工序；从保护层(4)的上方照射激光，形成分离沟槽(6)的工序；以及除去在形成分离沟槽(6)时生成的附着物的工序。