公开(公告)号：CN105541716B

公开(公告)日：2024-02-23

申请号：CN201610065607.7

申请日：2016-01-29

Applicant: AGC株式会社

Inventor： 石桥雄一郎 ,  凢洋辅 ,  三宅德显 ,  山崎祐辅 ,  清水翔太

IPC: C07D231/12 ,  C07D231/14 ,  C07C251/30 ,  C07C221/00 ,  C07C225/14 ,  C07C49/255 ,  C07D295/125

Abstract: 相同含义。)本发明提供吡唑衍生物的制造方法，具体来说，提供作为药物、农药的中间体有用的吡唑衍生物的新型制造方法、以及前述方法中的新型中间体化合物。一种下式所示的吡唑衍生物(6)的制造方法，使化合物(5)和氧化剂反应。(其中，R1、R2、R3、X1、X2和Z1与专利权利要求和说明书为

公开(公告)号：CN110461821A

公开(公告)日：2019-11-15

申请号：CN201880021903.4

申请日：2018-03-23

Applicant: AGC株式会社

Inventor： 清水翔太 ,  泽口正纪

IPC: C07D231/14

Abstract: 本发明提供一种可以更为简便高效地制造作为医农药中间体有用的含卤素吡唑羧酸的、工业上优异的制造方法。本发明涉及一种式(b)所示化合物的制造方法，其中，在包含过渡金属原子的化合物的存在下，使式(a)所示化合物与氧气反应而得到式(b)所示化合物。(式中的各符号如说明书所述。)