公开(公告)号：CN113930163A

公开(公告)日：2022-01-14

申请号：CN202110720022.5

申请日：2021-06-28

Applicant: AGC株式会社

Inventor： 冈村有造

IPC: C09G1/02 ,  H01L21/3105 ,  H01L21/762

Abstract: 本发明提供一种硅面的研磨速度得到抑制的研磨剂。该研磨剂含有磨粒和下式(1)表示的化合物。式(1)：R－O－(AO)n－H，其中，R为包含共轭体系的有机基团，在碳骨架中可以具有杂原子，在将构成该碳骨架的原子中的构成共轭体系的原子的数量设为C1、将不构成共轭体系的原子的数量设为C2时，C1/(C1+C2)≥0.4，AO表示氧化亚烷基，多个存在的AO彼此可以相同，也可以不同，n为2～200的整数。

公开(公告)号：CN119768483A

公开(公告)日：2025-04-04

申请号：CN202380060788.2

申请日：2023-08-22

Applicant: AGC株式会社

Inventor： 中岛秀喜 ,  加藤知夫 ,  赤时正敏 ,  冈村有造 ,  岩本纮明

IPC: C09K3/14 ,  B24B1/00 ,  B24B37/015 ,  B24B53/017 ,  C09G1/02 ,  H01L21/304

Abstract: 本发明提供能够高速且高平坦地研磨包含树脂的被研磨面的研磨剂、研磨剂用添加液和研磨方法。一种研磨剂，用于对包含树脂的被研磨面进行研磨，含有磨粒、水溶性含氮化合物和水，上述水溶性含氮化合物包含下述式(1)～(3)表示的化合物或其盐。其中，各符号如说明书中记载。#imgabs0#