纳米铜立方体颗粒的制备方法

    公开(公告)号:CN103088371B

    公开(公告)日:2015-03-11

    申请号:CN201310030322.6

    申请日:2013-01-25

    Applicant: 重庆大学

    Abstract: 纳米铜立方体颗粒的制备方法,包括:提供金属基底作为阴极并提供紫铜片作为阳极;配制电镀液,所述电镀液中Cu2+含量为0.02~0.10mol/L、有机弱酸含量为0.2~0.4mol/L、表面活性剂含量为电镀液总质量的1%~4%,电镀液pH值为5.0~7.5;以及利用所述电镀液、所述阴极和所述阳极,采用电沉积法在所述金属基底上制备纳米铜立方体颗粒。根据本发明方法所制备的纳米铜立方体纯度高、形状规则、颗粒大小均匀并且抗氧化性优良。

    一种复合型活性阴极的制备方法

    公开(公告)号:CN102321892B

    公开(公告)日:2014-02-19

    申请号:CN201110266645.6

    申请日:2011-09-09

    Applicant: 重庆大学

    Abstract: 一种复合型活性阴极制备方法,包括:提供作为阴极基体的Ni网;配置过渡层涂覆液,其中Pd(NO3)2的含量为5~10g/L;将过渡层涂覆液涂覆于Ni网上并进行烘干和热分解处理以在Ni网上得到过渡层;配置活性层涂覆液,其中H2PtCl6·6H2O和RuCl3·3H2O的含量分别为10~15g/L和6~10g/L;以及将活性层涂覆液涂覆于具有过渡层的Ni网上并进行烘干和热分解处理以在过渡层上得到活性层。根据上述方法制备的复合型活性阴极的组成为Ni/PdO/RuO2-Pt,基体表面的过渡层与活性层通过分开涂覆来实现,涂覆层中钯元素负载量仅为0.3~0.4g/m2,涂覆层制作过程为“预烘干+热分解”,避免了气孔的产生,极大地改善了过渡层与Ni基体结合力,使电极整体稳定性好,抗反向电流冲击和抗中毒能力大大增强。

    三维多孔镍薄膜的制备方法

    公开(公告)号:CN103243357B

    公开(公告)日:2015-09-23

    申请号:CN201310174939.5

    申请日:2013-05-13

    Applicant: 重庆大学

    Abstract: 三维多孔镍薄膜的制备方法,包括:提供紫铜片作为阴极并提供镍片作为阳极;配制电镀液,所述电镀液中NiSO4含量为1.0~2.0mol/L,H2SO4含量为0.1~0.3mol/L,H3BO3含量为0.8~1.0mol/L,NH4Cl含量为1.0~2.0mol/L,表面活性剂总含量为0.7~1.4g/L;以及利用所述电镀液、所述阴极和所述阳极,采用氢气泡动态模板电沉积法在所述紫铜片上形成三维多孔镍薄膜。根据本发明的方法所制备的多孔镍薄膜孔径均匀,孔隙率高并且稳定性好。

    三维多孔镍薄膜的制备方法

    公开(公告)号:CN103243357A

    公开(公告)日:2013-08-14

    申请号:CN201310174939.5

    申请日:2013-05-13

    Applicant: 重庆大学

    Abstract: 三维多孔镍薄膜的制备方法,包括:提供紫铜片作为阴极并提供镍片作为阳极;配制电镀液,所述电镀液中NiSO4含量为1.0~2.0mol/L,H2SO4含量为0.1~0.3mol/L,H3BO3含量为0.8~1.0mol/L,NH4Cl含量为1.0~2.0mol/L,表面活性剂总含量为0.7~1.4g/L;以及利用所述电镀液、所述阴极和所述阳极,采用氢气泡动态模板电沉积法在所述紫铜片上形成三维多孔镍薄膜。根据本发明的方法所制备的多孔镍薄膜孔径均匀,孔隙率高并且稳定性好。

    一种复合型活性阴极的制备方法

    公开(公告)号:CN102321892A

    公开(公告)日:2012-01-18

    申请号:CN201110266645.6

    申请日:2011-09-09

    Applicant: 重庆大学

    Abstract: 一种复合型活性阴极制备方法,包括:提供作为阴极基体的Ni网;配置过渡层涂覆液,其中Pd(NO3)2的含量为5~10g/L;将过渡层涂覆液涂覆于Ni网上并进行烘干和热分解处理以在Ni网上得到过渡层;配置活性层涂覆液,其中H2PtCl6·6H2O和RuCl3·3H2O的含量分别为10~15g/L和6~10g/L;以及将活性层涂覆液涂覆于具有过渡层的Ni网上并进行烘干和热分解处理以在过渡层上得到活性层。根据上述方法制备的复合型活性阴极的组成为Ni/PdO/RuO2-Pt,基体表面的过渡层与活性层通过分开涂覆来实现,涂覆层中钯元素负载量仅为0.3~0.4g/m2,涂覆层制作过程为“预烘干+热分解”,避免了气孔的产生,极大地改善了过渡层与Ni基体结合力,使电极整体稳定性好,抗反向电流冲击和抗中毒能力大大增强。

    纳米铜立方体颗粒的制备方法

    公开(公告)号:CN103088371A

    公开(公告)日:2013-05-08

    申请号:CN201310030322.6

    申请日:2013-01-25

    Applicant: 重庆大学

    Abstract: 纳米铜立方体颗粒的制备方法,包括:提供金属基底作为阴极并提供紫铜片作为阳极;配制电镀液,所述电镀液中Cu2+含量为0.02~0.10mol/L、有机弱酸含量为0.2~0.4mol/L、表面活性剂含量为电镀液总质量的1%~4%,电镀液pH值为5.0~7.5;以及利用所述电镀液、所述阴极和所述阳极,采用电沉积法在所述金属基底上制备纳米铜立方体颗粒。根据本发明方法所制备的纳米铜立方体纯度高、形状规则、颗粒大小均匀并且抗氧化性优良。

    用于铝或铝合金的电解抛光液及电解抛光方法

    公开(公告)号:CN102747411A

    公开(公告)日:2012-10-24

    申请号:CN201210224884.X

    申请日:2012-07-02

    Applicant: 重庆大学

    Abstract: 用于铝或铝合金的电解抛光液及电解抛光方法。该电解抛光液由H2SO4、H3PO4、PEG、C4O6H4KNa以及水组成,其中H2SO4的含量为18%~48%,H3PO4的含量为20%~43%,PEG的含量为5%~20%;C4O6H4KNa的含量为6%~18%,余量为水。本发明的电解抛光液不含硝酸、铬酸,利于环保。该抛光液相对其他抛光液具有明显的质量优势和价格优势。由于抛光液配比灵活,工业上还具有较好的可操作性。该电解抛光液尤其适用于对表面质量要求高的硬质铝合金工件的电化学抛光,在将铝或其合金表面平滑化的同时,还赋予充分的光泽(抛光工件的光亮度高)。对于未经机械抛光的工件,还具有一定的整平作用。

    一种高活性阴极及其制备方法

    公开(公告)号:CN102352517A

    公开(公告)日:2012-02-15

    申请号:CN201110323975.4

    申请日:2011-10-21

    Applicant: 重庆大学

    Abstract: 一种高活性阴极及其制备方法。该方法包括:提供作为阴极基体的Ni网;配置过渡层涂覆液,其中Rh(NO3)3的含量为1g/L~3g/L;将过渡层涂覆液涂覆于Ni网上并进行烘干和热分解处理以在Ni网上得到过渡层;配置活性层涂覆液,其中H2PtCl6·6H2O、RuCl3·3H2O和Ce(NO3)3·6H2O的含量分别为3~6g/L、15~25g/L和1~2g/L;以及将活性层涂覆液涂覆于具有过渡层的Ni网上并进行烘干和热分解处理以在过渡层上得到活性层。根据上述方法制备的高活性阴极的组成为Ni/Rh2O3/RuO2-Pt-CeO2,基体表面的过渡层与活性层通过分开涂覆来实现,涂覆层中铑元素负载量仅为0.08~0.2g/m2,涂覆层制作过程为“预烘干+热分解”,避免了气孔的产生,极大地改善了过渡层与Ni基体结合力,使电极整体稳定性好,抗反向电流冲击和抗中毒能力大大增强。

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