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公开(公告)号:CN116190253A
公开(公告)日:2023-05-30
申请号:CN202211481516.3
申请日:2022-11-24
Applicant: 英飞凌科技股份有限公司
IPC: H01L21/60 , H01L21/56 , H01L23/488 , H01L23/31
Abstract: 公开了一种形成半导体封装的方法和半导体封装。该方法包括:提供金属基板,该金属基板包括基部和多个金属柱,基部是具有基本均匀厚度的平面盘,多个金属柱各自从基部的平面上表面向上延伸;在金属基板的上表面上安装半导体管芯;在基部的上表面上形成电绝缘模制料的封装体;将半导体管芯的端子电连接至金属柱;以及去除基部,以便在封装体的第一表面处从金属柱形成封装触点。