公开(公告)号：CN103184011B

公开(公告)日：2015-05-27

申请号：CN201210593238.0

申请日：2012-12-31

Applicant: 第一毛织株式会社

Inventor： 卢炫秀 ,  金东珍 ,  朴容淳 ,  金容国 ,  郑荣哲

IPC: C09G1/02

CPC classification number: C09G1/02 ,  C09K3/1463 ,  H01L21/30625 ,  H01L21/31053

Abstract: 本发明提供了一种CMP浆料组合物和使用其的抛光方法。所述CMP浆料组合物包含金属氧化物颗粒、二异氰酸酯化合物和去离子水。所述CMP浆料组合物能够选择性地控制具有凸出部分和凹进部分的晶片表面的抛光速度，使得快速进行一次抛光和二次抛光，同时在二次抛光时停止氮化物层的抛光。

公开(公告)号：CN103184011A

公开(公告)日：2013-07-03

申请号：CN201210593238.0

申请日：2012-12-31

Applicant: 第一毛织株式会社

Inventor： 卢炫秀 ,  金东珍 ,  朴容淳 ,  金容国 ,  郑荣哲

IPC: C09G1/02

CPC classification number: C09G1/02 ,  C09K3/1463 ,  H01L21/30625 ,  H01L21/31053

Abstract: 本发明提供了一种CMP浆料组合物和使用其的抛光方法。所述CMP浆料组合物包含金属氧化物颗粒、二异氰酸酯化合物和去离子水。所述CMP浆料组合物能够选择性地控制具有凸出部分和凹进部分的晶片表面的抛光速度，使得快速进行一次抛光和二次抛光，同时在二次抛光时停止氮化物层的抛光。