渗氮镀膜一体化设备及方法和应用

    公开(公告)号:CN116641015A

    公开(公告)日:2023-08-25

    申请号:CN202310819775.0

    申请日:2023-07-05

    Applicant: 清华大学

    Abstract: 本发明公开了一种渗氮镀膜一体化设备及方法和应用。该设备包括渗氮镀膜一体化设备本体、挡板、阴极筒体和工件架,渗氮镀膜一体化设备本体的内侧壁上绝缘连接靶材;挡板可旋转地环绕渗氮镀膜一体化设备本体的内壁设置,挡板与渗氮镀膜一体化设备本体的内壁间隔,挡板上设有第一开口,第一开口可旋转至靶材对应位置;阴极筒体包括第一阴极筒体和第二阴极筒体,挡板和阴极筒体均与渗氮镀膜一体化设备本体的底部绝缘连接,第一阴极筒体和第二阴极筒体上分别设有的第二开口和第三开口均与靶材对应设置;工件架位于第二阴极筒体内。该设备将工件的渗氮和镀膜在同一设备中完成,实现了工件的渗氮镀膜一体化。

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