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公开(公告)号:CN113156737A
公开(公告)日:2021-07-23
申请号:CN202110046973.9
申请日:2021-01-14
Abstract: 一种基于宽带倍频技术和DMD数字微镜阵列的紫外飞秒涡旋光产生装置和方法,该装置包含三个功能模块:第一模块为衍射光栅,用于控制宽带基频飞秒激光角谱,输出具有角色散的脉冲;第二模块为频率变换模块,该模块为非线性晶体或晶体级联,实现宽带相位匹配,输出高频谐波脉冲;第三模块为DMD数字微镜阵列,用于谐波的角色散补偿和光场调制。发明装置首先通过光栅和非线性晶体的宽带倍频模块,产生宽带高次谐波脉冲,并通过DMD数字微镜阵列对宽带高次谐波进行角色散补偿和涡旋光调制,最终输出无角色散的紫外飞秒涡旋光束。
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公开(公告)号:CN112068400A
公开(公告)日:2020-12-11
申请号:CN202010905410.6
申请日:2020-09-01
Applicant: 浙江大学 , 杭州柏纳光电有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种实现高通量并行激光扫描直写超分辨光刻的方法和装置,该方法包括步骤:生成由多束子光束组成的高通量并行刻写光束;生成由多束附带0‑2π涡旋相位的子光束组成的高通量并行损耗光束;独立控制高通量并行刻写光束与高通量并行损耗光束中各子光束的通断;将高通量并行刻写光束与高通量并行损耗光束合束产生高通量并行加工光束;将高通量并行加工光束聚焦在光刻样品上,产生高通量并行实心刻写光斑和高通量并行空心损耗光斑;高通量并行加工光束水平扫描配合光刻样品垂直移动实现小区域直写光刻;光刻样品大范围三维移动实现三维直写光刻。本发明具有直写光刻分辨率高、加工效率高、加工速度快和加工样品尺度大的优点。
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公开(公告)号:CN112051714A
公开(公告)日:2020-12-08
申请号:CN202010903709.8
申请日:2020-09-01
Applicant: 浙江大学 , 杭州柏纳光电有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种实现高通量并行激光扫描直写光刻的方法,包括步骤:1)生成由多束子光束组成的高通量并行刻写光束;2)独立控制高通量并行刻写光束中各子光束的通断;3)将高通量并行刻写光束聚焦在光刻样品上;4)高通量并行刻写光束水平扫描配合光刻样品垂直移动实现小区域直写光刻;5)光刻样品大范围三维移动实现三维直写光刻。本发明还提供一种实现高通量并行激光扫描直写光刻的装置。本发明相较于现有技术,具有直写光刻加工效率高、加工速度快和加工样品尺度大的优点。
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公开(公告)号:CN115839936B
公开(公告)日:2023-07-18
申请号:CN202211589202.5
申请日:2022-12-12
Abstract: 本发明公开了一种基于锁相探测的结构光照明超分辨显微成像重构方法,包括:1)获取不同相位、不同方向的结构光照明原始图像;2)估算出条纹的调制频率和相位参数;3)进行锁相解调提取出样品的在焦信息并滤除离焦信息;4)将锁相探测得到的结果作为原始输入进行传统超分辨重构,重建出具有层切能力、高信背比的超分辨图片,本发明在保证重构的图片具有较高分辨率的同时,能有效去除离焦的背景信息干扰。
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公开(公告)号:CN115841423A
公开(公告)日:2023-03-24
申请号:CN202211589185.5
申请日:2022-12-12
IPC: G06T3/40 , G06N3/0464 , G06N3/045 , G06N3/0475
Abstract: 本发明公开了一种基于深度学习的宽场照明荧光超分辨显微成像方法,包括训练集原始图像获取,训练数据集制作,网络训练、损失函数构建,超分辨图像重建等步骤,本发明仅通过一张宽场图片即可实现超分辨SIM重构,成像速度快,降低了光毒性,提升了时间分辨率;训练集需要使用SIM系统采集,一旦训练完成之后即可基于普通的宽场显微镜系统完成超分辨成像,光路简单,样品要求低,普适性强。
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公开(公告)号:CN115841423B
公开(公告)日:2023-06-27
申请号:CN202211589185.5
申请日:2022-12-12
IPC: G06T3/40 , G06N3/0464 , G06N3/045 , G06N3/0475
Abstract: 本发明公开了一种基于深度学习的宽场照明荧光超分辨显微成像方法,包括训练集原始图像获取,训练数据集制作,网络训练、损失函数构建,超分辨图像重建等步骤,本发明仅通过一张宽场图片即可实现超分辨SIM重构,成像速度快,降低了光毒性,提升了时间分辨率;训练集需要使用SIM系统采集,一旦训练完成之后即可基于普通的宽场显微镜系统完成超分辨成像,光路简单,样品要求低,普适性强。
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公开(公告)号:CN115839936A
公开(公告)日:2023-03-24
申请号:CN202211589202.5
申请日:2022-12-12
Abstract: 本发明公开了一种基于锁相探测的结构光照明超分辨显微成像重构方法,包括:1)获取不同相位、不同方向的结构光照明原始图像;2)估算出条纹的调制频率和相位参数;3)进行锁相解调提取出样品的在焦信息并滤除离焦信息;4)将锁相探测得到的结果作为原始输入进行传统超分辨重构,重建出具有层切能力、高信背比的超分辨图片,本发明在保证重构的图片具有较高分辨率的同时,能有效去除离焦的背景信息干扰。
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公开(公告)号:CN115619646B
公开(公告)日:2023-04-18
申请号:CN202211577360.9
申请日:2022-12-09
Abstract: 本发明公开了一种亚五十纳米结构光照明超分辨显微成像方法,涉及光学超分辨显微成像领域,先通过图像退化获得高分辨STORM图像和低分辨SIM图像并进行配对、再对配对的数据进行训练数据集制作,然后通过训练的去噪网络进行去噪优化,最后通过SIM超分辨重构,输出高分辨率图像,本发明将传统SIM技术的分辨率提升至50 nm,同时不损失其快速、低光毒性、长时程成像能力;所需的训练集通过高分辨图像退化得到,无需实验获取,无需复杂的配准过程,大大降低了训练集的制作难度;本方法不增加任何系统复杂度,可基于任何已有SIM系统实现,应用范围广。
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公开(公告)号:CN115619646A
公开(公告)日:2023-01-17
申请号:CN202211577360.9
申请日:2022-12-09
Abstract: 本发明公开了一种亚五十纳米结构光照明超分辨显微成像方法,涉及光学超分辨显微成像领域,先通过图像退化获得高分辨STORM图像和低分辨SIM图像并进行配对、再对配对的数据进行训练数据集制作,然后通过训练的去噪网络进行去噪优化,最后通过SIM超分辨重构,输出高分辨率图像,本发明将传统SIM技术的分辨率提升至50 nm,同时不损失其快速、低光毒性、长时程成像能力;所需的训练集通过高分辨图像退化得到,无需实验获取,无需复杂的配准过程,大大降低了训练集的制作难度;本方法不增加任何系统复杂度,可基于任何已有SIM系统实现,应用范围广。
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公开(公告)号:CN115327757A
公开(公告)日:2022-11-11
申请号:CN202210791925.7
申请日:2022-07-05
Applicant: 浙江大学
Abstract: 本发明公开一种实现超高速结构光照明显微成像的方法,包括:1)对光源发出的照明光束进行整形,形成光强均匀分布的照明光束;2)将所述照明光束分光,分束为一个中心干涉光路和多个干涉子光路,每个干涉子光路在样品面具有不同方向的照明干涉条纹;3)对各干涉子光路进行光程补偿,使所有子光路的光程相同,且每个干涉子光路的光均被分为p偏振光和s偏振光;4)中心干涉光路的光束与各干涉子光路的p偏振光和s偏振光合束后照明到样品上,形成结构光照明图案;5)采集样品激发的荧光进行显微成像。本发明还公开一种实现超高速结构光照明显微成像的装置。本发明可以大幅提高对照明光的调制速度,从而实现超高速的结构光照明成像。
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