聚合抑制系统和聚合抑制方法

    公开(公告)号:CN108686396A

    公开(公告)日:2018-10-23

    申请号:CN201810323301.6

    申请日:2018-04-11

    Abstract: 本发明提供了一种聚合抑制系统和聚合抑制方法,该聚合抑制系统包括:测量装置、供应装置和控制装置。所述测量装置被配置为在由原料制造产品的制造工艺中连续地测量低聚物的浓度,所述低聚物包含在含有单体作为主要成分的原料以及来自所述原料的中间产物中的至少一者之中。所述供应装置被配置为被配置为在所述制造工艺中供应聚合抑制剂。所述控制装置被配置为基于由所述测量装置测得的测量结果来控制由所述供应装置供应的所述聚合抑制剂的供应量。该聚合抑制系统和聚合抑制方法能够适当地抑制在时刻变化的实际工艺中的聚合进展。

    检查方法以及检查系统
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111065913A

    公开(公告)日:2020-04-24

    申请号:CN201880056800.1

    申请日:2018-09-05

    Abstract: 本发明提供一种分析装置的检查方法,所述分析装置使用通过探针的光进行分析,所述探针安装于管道使光路的一部分通过壳体的外部且配置在作为分析对象的第1流体流过的所述管道的内部,所述分析装置的检查方法具有:第1过程,在将所述光的吸收少于所述第1流体的第2流体导入到所述管道的状态下,将吸收特性已知的第3流体导入到所述探针的壳体的内部;以及第2过程,使用通过所述探针的光进行所述第3流体的吸收特性的分析。

    测定装置以及测定方法
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119438131A

    公开(公告)日:2025-02-14

    申请号:CN202410973963.3

    申请日:2024-07-19

    Abstract: 提供一种能够以高精度测定挥发性成分的测定装置以及测定方法。测定装置(1)具有:气化室(21),其载置含有对象成分的试样(S);测定室(23),其在空间上与气化室(21)连接,与气化室(21)一体地形成密闭空间;光源(31),其向测定室(23)照射波长变化的激光(R);检测部(51),其检测从光源(31)照射并从测定室(23)通过后的激光(R);以及运算部(60),其对检测部(51)检测出的激光(R)的受光信号进行解析,对试样(S)中含有的对象成分的量进行计算,运算部(60)基于在激光(R)从测定室(23)的内部通过的期间由对象成分吸收后的激光(R)的吸光度的光谱的积分值,获取对象成分的量。

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