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公开(公告)号：CN107761094A
公开(公告)日：2018-03-06
申请号：CN201710898064.1
申请日：2017-09-28
Applicant: 桂林电子科技大学 , 湖南耐特材料科技有限公司
Abstract: 本发明公开了一种在铝合金表面上采用复合工艺制备梯度结构熔覆层的方法，其特征是，包括如下步骤：1）制备铝合金基板；2）熔覆粉末准备；3）制备待熔覆试样；4）激光熔覆前准备；5）激光熔覆；6）振动蠕变时效处理。这种方法可以克服铝合金表面激光熔覆层常出现的气孔、裂纹、崩损脱落和组织不均匀缺陷，能提高铝合金表面熔覆层的冶金结合力及耐磨、耐蚀、耐冲击、抗氧化性性能。
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公开(公告)号：CN104120395B
公开(公告)日：2017-01-04
申请号：CN201410349445.0
申请日：2014-07-22
Applicant: 桂林电子科技大学
Abstract: 本发明公开了一种在铁基材料表面沉积铁+铬+钼+钛+氮化钛的混合多层纳米强化层的工艺，是利用磁控溅射技术，在铁基材料表面依次沉积纳米级厚度的混合过渡层，混合层铁和铬、铬和钼、钼和钛之间没有明显的分界线，为混合逐步形成的过渡层，最后再复合沉积纳米级的氮化钛强化层，形成结合力良好的复合强化层。本发明采用磁控溅射在铁基材料表面沉积铁+铬+钼+钛+氮化钛的多层纳米强化层，形成的过渡层成分梯度分布平缓，残余内应力较小，大大增加了膜基结合强度，增强了与基体的结合力，其硬质陶瓷薄膜的特点，具有耐腐蚀、耐磨损、化学稳定性好、韧性好、低应力等优点，能够大幅度提高工件耐磨性，耐腐蚀性等性能。
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公开(公告)号：CN103628032B
公开(公告)日：2016-04-27
申请号：CN201310572300.2
申请日：2013-11-15
Applicant: 桂林电子科技大学
Abstract: 本发明公开了一种在导电基体材料上制备纳米氮化钛层的方法，它是利用磁控溅射技术在基体表面沉积一层纳米级的纯金属或合金过渡层，再利用磁控溅射技术和电弧离子镀技术共同快速沉积一层氮化钛层，之后再利用磁控溅射技术沉积一层纳米级的氮化钛层。本发明利用磁控溅射沉积微细纳米粒子，提高过渡层的结合力；利用电弧离子镀沉积速度快的特点提高效率；利用磁控溅射沉积一层致密的和高质量的纳米级的氮化钛层提高表面质量。
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公开(公告)号：CN104109832A
公开(公告)日：2014-10-22
申请号：CN201410349438.0
申请日：2014-07-22
Applicant: 桂林电子科技大学
IPC: C23C14/16
Abstract: 本发明一种在铁基LED引线支架表面沉积铜+铜-锡复合涂层的工艺属于表面工程技术领域。并公开了一种在铁基LED引线支架表面沉积铜+铜-锡复合涂层的工艺，它是利用磁控溅射镀或多弧离子镀或射频溅射镀技术，在铁基引线支架表面首先沉积一定厚度的纯铜，之后，再沉积一层铜-锡合金，形成铜+铜-锡合金复合涂层。该技术可替代原来电镀铜，再电镀银的引线支架，具有导电、散热、防氧化、防潮、可焊性等方面的优良性能，涂层附着力好，制造成本低，彻底解决了电镀存在的环境污染问题。
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公开(公告)号：CN103628024A
公开(公告)日：2014-03-12
申请号：CN201310572311.0
申请日：2013-11-15
Applicant: 桂林电子科技大学
IPC: C23C14/06
Abstract: 本发明公开了一种在4Cr13不锈钢游标卡尺表面沉积氮化钛薄膜的工艺，它是对4Cr13不锈钢游标卡尺表面进行物理和化学清洗；其次利用电弧离子镀或离子溅射镀或射频溅射镀技术，在4Cr13马氏体不锈钢游标卡尺表面沉积0.1～0.5μm的纯金属或合金作为过渡层，该过渡层可以是纯钛或纯镍或纯铜或纯钼或纯铬等，合金可以是铁碳合金或钨钼合金或镍铬合金等；第三再通入一定比例的反应气体氮气和氩气，沉积厚度为0.5～1μm氮化钛硬质薄膜层。本发明的在游标卡尺等工具表面沉积的氮化钛薄膜具有高强度、高硬度、耐腐蚀、抗磨损以及良好的视觉效果。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101838793A
公开(公告)日：2010-09-22
申请号：CN201010138846.3
申请日：2010-04-03
Applicant: 桂林电子科技大学
Abstract: 本发明公开了一种表面铁素体不锈钢及其制备方法，其特征是：在中、低碳钢的表面采用等离子渗金属工艺，渗入铬元素，表面含铬合金层≥20μm，距表面5～10μm内，平均铬含量为12～20％的表面铁素体不锈钢。本发明的优点是：制造工艺先进，成本低廉，能大量节约合金元素；渗层与基体结合强度高，不易脱落；以碳钢为基体，塑性、韧性好；渗层厚度可控，渗层成分可进行工艺参数的调节实现表面成分可控。
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公开(公告)号：CN103046073B
公开(公告)日：2016-04-06
申请号：CN201210556011.9
申请日：2012-12-20
Applicant: 桂林电子科技大学
Abstract: 本发明公开了一种铁基、铜过渡层和表面氮化物涂层的新型复合电极材料及制备方法，它是利用电镀、电刷镀或化学镀和溅射镀技术，在铁基材料表面首先涂覆一定厚度的纯铜作为过渡层，再利用溅射镀技术沉积氮化物，以形成一种铁基、铜过渡层和表面氮化物涂层的新型复合电极材料。本发明采用铁基材料作为电极材料，具有加工性能好、导电性好、强度高、成本低。在其上面镀一层铜增加导电性，并作为过渡层增加表面氮化物层的膜基结合强度，表面的氮化物层具有耐腐蚀、耐磨、强度硬度高、电阻率较小的优点，能大幅度提高电极的比能量与比功率，接触电阻保持恒定，电能消耗稳定并且较小。
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公开(公告)号：CN102936724B
公开(公告)日：2015-03-18
申请号：CN201210479338.0
申请日：2012-11-23
Applicant: 桂林电子科技大学
Abstract: 本发明公开了一种铝合金表面镍基合金层的强化方法，该方法将一定比例的稀土La和Ce掺入镍基合金粉末中，通过激光表面熔覆技术，使铝合金表面获得呈冶金结合的高硬度和高耐磨耐腐蚀性的镍基合金层，硬度可达1350HV，耐磨性和耐腐蚀性能，较现有技术分别提高一倍。这对拓展铝合金的应用范围，扩大铝合金在尖端领域的应用将有重要作用。
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公开(公告)号：CN104141110A
公开(公告)日：2014-11-12
申请号：CN201410349439.5
申请日：2014-07-22
Applicant: 桂林电子科技大学
Abstract: 本发明公开了一种金属表面沉积铁+钒+钛+氮化钛的多层混合纳米强化层的制备工艺，是利用磁控溅射技术，在铁基材料表面依次沉积纳米级厚度的铁+铁-钒+钒+钒-钛+钛+钛-氮化钛的混合过渡层；最后再复合沉积纳米级的氮化钛强化层，形成结合力良好的多层混合过渡的复合强化层。本发明利用各种金属原子固溶度概念，寻求无限互溶且本身强度较高的合金元素作为过渡层，采用磁控溅射在金属材料基材表面沉积混合纳米过渡层，最后沉积氮化钛形成多层混合纳米强化层，使形成的过渡层成分梯度分布平缓，残余内应力较小，大大增加了膜基结合强度，增强了与基体的的结合力，可以充分发挥表面氮化钛金属陶瓷薄膜的耐腐蚀、耐磨损、高硬度的特点。
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公开(公告)号：CN104120395A
公开(公告)日：2014-10-29
申请号：CN201410349445.0
申请日：2014-07-22
Applicant: 桂林电子科技大学
Abstract: 本发明公开了一种在铁基材料表面沉积铁+铬+钼+钛+氮化钛的混合多层纳米强化层的工艺，是利用磁控溅射技术，在铁基材料表面依次沉积纳米级厚度的混合过渡层，混合层铁和铬、铬和钼、钼和钛之间没有明显的分界线，为混合逐步形成的过渡层，最后再复合沉积纳米级的氮化钛强化层，形成结合力良好的复合强化层。本发明采用磁控溅射在铁基材料表面沉积铁+铬+钼+钛+氮化钛的多层纳米强化层，形成的过渡层成分梯度分布平缓，残余内应力较小，大大增加了膜基结合强度，增强了与基体的结合力，其硬质陶瓷薄膜的特点，具有耐腐蚀、耐磨损、化学稳定性好、韧性好、低应力等优点，能够大幅度提高工件耐磨性，耐腐蚀性等性能。
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