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公开(公告)号：CN110178084B
公开(公告)日：2022-10-25
申请号：CN201880006630.6
申请日：2018-11-22
Applicant: 株式会社LG化学
Inventor： 安庸植 , 金容美 , 林敏映
IPC: G03F7/004 , G03F7/033 , G03F7/028 , G03F7/11
Abstract: 本发明涉及光致抗蚀剂组合物和使用其的光致抗蚀剂膜，所述光致抗蚀剂组合物能够形成其中在金属表面基底上形成精细图案期间高度感光的同时抑制基脚现象的图案，并且能够产生化学稳定性优异的光致抗蚀剂膜。
公开(公告)号：CN110178084A
公开(公告)日：2019-08-27
公开(公告)号：CN114222776A
公开(公告)日：2022-03-22
申请号：CN202080057763.3
申请日：2020-11-04
Inventor： 安俊炫 , 朴银石 , 金容美 , 林敏映 , 朴帅敏
IPC: C08G73/02 , G03F7/004 , G03F7/038 , H01L51/52
Abstract: 本申请涉及式1的化合物、粘结剂树脂、负型光敏树脂组合物、和包括通过使用其形成的黑堤的显示装置。
公开(公告)号：CN110325915A
公开(公告)日：2019-10-11
申请号：CN201880012894.2
申请日：2018-09-14
Inventor： 林敏映 , 金智慧 , 金容美
IPC: G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/20 , C07D221/14
Abstract: 本发明涉及化学增幅型光致抗蚀剂组合物、由所述化学增幅型光致抗蚀剂组合物产生的光致抗蚀剂图案、以及用于制备化学增幅型光致抗蚀剂图案的方法，所述化学增幅型光致抗蚀剂组合物包含碱溶性树脂和具有预定结构的聚合物光致产酸剂。
公开(公告)号：CN114222776B
公开(公告)日：2023-11-14
IPC: C08G73/02 , G03F7/004 , G03F7/038 , H10K50/86
公开(公告)号：CN110178086A
申请号：CN201880006629.3
申请日：2018-10-25
Inventor： 林敏映 , 金容美 , 金智慧
IPC: G03F7/039 , G03F7/004 , G03F7/033
Abstract: 本公开内容涉及化学增幅型光致抗蚀剂组合物和使用其的光致抗蚀剂膜，所述化学增幅型光致抗蚀剂组合物能够使由所述组合物获得的光致抗蚀剂的开裂最小化并提高对基底的粘合性和感光度。
公开(公告)号：CN110325915B
公开(公告)日：2022-11-11
公开(公告)号：CN110178086B
公开(公告)日：2022-09-16
