基板
    2.
    发明授权
    基板 有权

    公开(公告)号:CN111033372B

    公开(公告)日:2022-10-21

    申请号:CN201880050289.4

    申请日:2018-07-27

    Abstract: 本申请涉及其上以特定排列状态设置有间隔物的基板和使用这样的基板的光学装置。在本申请中,复数个间隔物根据预定规则不规则地设置在基板上,使得在间隔物保持光学装置构造中的均匀的单元间隙的同时,可以确保整体均匀的光学特性而不引起所谓的莫尔现象等。

    基板
    4.
    发明公开
    基板 有权

    公开(公告)号:CN110770646A

    公开(公告)日:2020-02-07

    申请号:CN201880039546.4

    申请日:2018-06-29

    Abstract: 本申请涉及其上形成有特定类型的间隔物的基板、包括形成在所述间隔物上的配向膜的基板、以及使用这样的基板的光学装置。在本申请中,通过控制形成在基板上的间隔物的形状,即使当在顶部上形成配向膜并进行取向处理时,也可以进行均匀的取向处理而不受间隔物的段差等的任何影响,由此可以提供能够提供具有优异光学性能的装置的基板等。

    基板
    5.
    发明授权
    基板 有权

    公开(公告)号:CN112673309B

    公开(公告)日:2024-07-19

    申请号:CN201980058733.1

    申请日:2019-11-18

    Abstract: 本申请可以提供其上形成有具有优异的尺寸精度和粘合性的间隔物的基板以及能够有效地生产这样的基板的方法。本申请还提供了包括这样的基板的光学装置。

    基板
    7.
    发明授权
    基板 有权

    公开(公告)号:CN110770646B

    公开(公告)日:2023-07-14

    申请号:CN201880039546.4

    申请日:2018-06-29

    Abstract: 本申请涉及其上形成有特定类型的间隔物的基板、包括形成在所述间隔物上的配向膜的基板、以及使用这样的基板的光学装置。在本申请中,通过控制形成在基板上的间隔物的形状,即使当在顶部上形成配向膜并进行取向处理时,也可以进行均匀的取向处理而不受间隔物的段差等的任何影响,由此可以提供能够提供具有优异光学性能的装置的基板等。

    图案膜、用于制造图案膜的方法和包括其的透射率可变装置

    公开(公告)号:CN114902099B

    公开(公告)日:2024-05-17

    申请号:CN202180007781.5

    申请日:2021-02-04

    Abstract: 本说明书涉及图案膜、用于制造图案膜的方法和包括其的透射率可变装置。间隔物图案包括分隔壁间隔物和球形间隔物,所述分隔壁间隔物包括多个间隔物点和连接所述间隔物点的间隔物线,其中所述球形间隔物以嵌入至少一个分隔壁间隔物中、部分地嵌入至少一个分隔壁间隔物中或与至少一个分隔壁间隔物接触的形式包括在内,形成闭合图形的边的长度中的至少一者与其余边不同,以及所述间隔物点的不规则度为50%或更大。

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