公开(公告)号：CN103209949B

公开(公告)日：2016-08-10

申请号：CN201180054054.0

申请日：2011-11-08

Applicant: 株式会社钟化

Inventor： 山本升平 ,  西八条正克 ,  田中理绘 ,  川野茂 ,  藤井章雄

IPC: C07C45/62 ,  C07C29/143 ,  C07C35/52 ,  C07C49/697 ,  C07D241/04 ,  C12P7/26 ,  C07B53/00 ,  C07B61/00

CPC classification number: C07B53/00 ,  C07B2200/07 ,  C07C29/175 ,  C07C45/62 ,  C07C45/63 ,  C07C45/65 ,  C07C2602/08 ,  C07D241/04 ,  C12P7/22 ,  C12P7/38 ,  C07C49/697 ,  C07C35/52

Abstract: 下述式（2）：（式中，Ar1表示呋喃基、噻吩基或碳原子数6～20的芳基。X1表示卤素原子。*表示不对称点）所示的光学活性酮通过立体选择性地还原下述式（1）：（式中，Ar1、X1与上述相同）所示的烯酮化合物来制造。

公开(公告)号：CN104496780A

公开(公告)日：2015-04-08

申请号：CN201510029428.3

申请日：2011-11-08

Applicant: 株式会社钟化

Inventor： 山本升平 ,  西八条正克 ,  田中理绘 ,  川野茂 ,  藤井章雄

IPC: C07C49/697

CPC classification number: C07B53/00 ,  C07B2200/07 ,  C07C29/175 ,  C07C45/62 ,  C07C45/63 ,  C07C45/65 ,  C07C2602/08 ,  C07D241/04 ,  C12P7/22 ,  C12P7/38 ,  C07C49/697 ,  C07D307/46 ,  C07D333/16 ,  C07C35/52

Abstract: 下述式(2)：(式中，Ar1表示呋喃基、噻吩基或碳原子数6～20的芳基。X1表示卤素原子。＊表示不对称点)所示的光学活性酮通过立体选择性地还原下述式(1)：(式中，Ar1、X1与上述相同)所示的烯酮化合物来制造。

公开(公告)号：CN103209949A

公开(公告)日：2013-07-17

申请号：CN201180054054.0

申请日：2011-11-08

Applicant: 株式会社钟化

Inventor： 山本升平 ,  西八条正克 ,  田中理绘 ,  川野茂 ,  藤井章雄

IPC: C07C45/62 ,  C07C29/143 ,  C07C35/52 ,  C07C49/697 ,  C07D241/04 ,  C12P7/26 ,  C07B53/00 ,  C07B61/00

CPC classification number: C07B53/00 ,  C07B2200/07 ,  C07C29/175 ,  C07C45/62 ,  C07C45/63 ,  C07C45/65 ,  C07C2602/08 ,  C07D241/04 ,  C12P7/22 ,  C12P7/38 ,  C07C49/697 ,  C07C35/52

Abstract: 下述式（2）：（式中，Ar1表示呋喃基、噻吩基或碳原子数6～20的芳基。X1表示卤素原子。*表示不对称点）所示的光学活性酮通过立体选择性地还原下述式（1）：（式中，Ar1、X1与上述相同）所示的烯酮化合物来制造。