公开(公告)号：CN1537324A

公开(公告)日：2004-10-13

申请号：CN03800729.0

申请日：2003-02-20

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 和田雄高 ,  赤塚朝彦 ,  佐佐木达也

IPC: H01L21/304 ,  B24B37/00 ,  C09K3/14

CPC classification number: B24B53/017 ,  B24B7/228 ,  B24B37/04 ,  B24B37/044 ,  B24B49/12 ,  B24B53/02 ,  C09G1/00 ,  H01L21/31053

Abstract: 在本发明的将研磨对象物压紧到固定磨粒上，边使之滑动边进行研磨的抛光方法，其特征在于具备：第一工序，边供应含有阴离子系界面活性剂且不含磨粒的研磨液，边研磨上述研磨对象物；以及第二工序，边供应含有阳离子系界面活性剂且不含磨粒的研磨液，边研磨上述研磨对象物。

公开(公告)号：CN100369210C

公开(公告)日：2008-02-13

申请号：CN03800729.0

申请日：2003-02-20

Applicant: 株式会社荏原制作所

Inventor： 和田雄高 ,  赤塚朝彦 ,  佐佐木达也

IPC: H01L21/304 ,  B24B37/00 ,  C09K3/14

CPC classification number: B24B53/017 ,  B24B7/228 ,  B24B37/04 ,  B24B37/044 ,  B24B49/12 ,  B24B53/02 ,  C09G1/00 ,  H01L21/31053

Abstract: 在本发明的将研磨对象物压紧到固定磨粒上，边使之滑动边进行研磨的抛光方法，其特征在于具备：第一工序，边供应含有阴离子系界面活性剂且不含磨粒的研磨液，边研磨上述研磨对象物；以及第二工序，边供应含有阳离子系界面活性剂且不含磨粒的研磨液，边研磨上述研磨对象物。