公开(公告)号：CN102464796A

公开(公告)日：2012-05-23

申请号：CN201110072538.X

申请日：2011-03-17

Applicant: 株式会社日立工业设备技术

Inventor： 上川将行 ,  松尾俊明 ,  冈本成恭 ,  冈宪一郎 ,  近藤健之 ,  户村晃 ,  铃木一隆

IPC: C08G63/08 ,  C08G63/78

CPC classification number: C08G63/78 ,  B01J19/2415 ,  B01J19/2425 ,  B01J2219/00006 ,  B01J2219/00085 ,  C07D319/12 ,  C08G63/08

Abstract: 本发明提供可以通过有效地生成羟基羧酸环状二聚体而以高收率获得高品质的聚羟基羧酸的方法及装置。本发明是包括将羟基羧酸低聚物解聚而制造羟基羧酸环状二聚体的解聚工序的聚羟基羧酸合成方法，所述方法的特征在于，在该解聚工序中，包括如下的操作，即，一边使反应液在水平地设置的反应液流路中流动，一边在减压下利用来自热介质流路的传热将其加热。

公开(公告)号：CN202022870U

公开(公告)日：2011-11-02

申请号：CN201120079230.3

申请日：2011-03-17

Applicant: 株式会社日立工业设备技术

Inventor： 上川将行 ,  松尾俊明 ,  冈本成恭 ,  冈宪一郎 ,  近藤健之 ,  户村晃 ,  铃木一隆

IPC: C07D319/12

CPC classification number: C08G63/78 ,  B01J19/2415 ,  B01J19/2425 ,  B01J2219/00006 ,  B01J2219/00085 ,  C07D319/12 ,  C08G63/08

Abstract: 本实用新型提供一种羟基羧酸环状二聚体制造装置，其特征在于具有水平设置的反应液流路、与反应液流路接触的热介质流路和将反应液流路减压的减压装置。根据所述羟基羧酸环状二聚体制造装置，通过有效地生成羟基羧酸环状二聚体而以高收率获得高品质的聚羟基羧酸。