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公开(公告)号：CN104899162B
公开(公告)日：2017-12-12
申请号：CN201510011522.6
申请日：2015-01-09
Applicant: 株式会社日立制作所
IPC: G06F12/16
Abstract: 本发明提供一种能够实现不依赖于可充电备用单元有无的控制程序的实施方法的计算机装置。计算机装置具备包括非易失性存储器和易失性存储器的存储器、和运算装置，由运算装置执行存储器的控制程序表中所记述的控制程序，所述计算机装置的特征在于，在非易失性存储器中具备第1控制程序表，在易失性存储器中具备第2控制程序表，在接通电源时，确认有无可充电备用单元以及优先使用第1控制程序表和第2控制程序表的哪一个，在没有连接可充电备用单元并且使用第2控制程序表时，将第1控制程序表的内容转录到第2控制程序表中，在根据第2控制程序表进行运算的期间，按每个所决定的控制周期，将第2控制程序表的内容转录到第1控制程序表中。
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公开(公告)号：CN105629923A
公开(公告)日：2016-06-01
申请号：CN201510784708.5
申请日：2015-11-16
Applicant: 株式会社日立制作所
IPC: G05B19/418
CPC classification number: Y02P90/02 , G05B19/4184 , G05B2219/34475
Abstract: 本发明提供一种在由CPU模块与远程IO模块构成的控制器中，根据异常要素而可靠并且选择性地执行异常时的控制动作，从而实现高可靠性的控制器。本发明的控制器具备：CPU模块，其具有检测模块的异常动作的异常状态检测部，并对上述工厂的多个设备机器进行程序控制；以及多个远程IO模块，它们通过串行传输路径菊花链式连接于上述CPU模块，并转换从上述CPU模块传输的数字数据而向上述设备机器输出，上述异常状态检测部在检测出异常动作时，向上述远程IO模块通知CPU异常，上述远程IO模块在被通知上述CPU异常时，与基于上述数字数据的控制不同地将所有上述设备机器控制为停止状态。
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公开(公告)号：CN101734751B
公开(公告)日：2013-01-02
申请号：CN200910211511.7
申请日：2009-11-04
Applicant: 株式会社日立制作所
IPC: C02F1/32
Abstract: 本发明公开一种紫外线水处理装置，其即使没有保护管或清洗机构，也能有效地利用杀菌或不活化用的254nm附近波长的紫外线。所述紫外线水处理装置具备紫外线灯(10)、设置在该紫外线灯(10)的外侧的壁面(12)、设置在所述紫外线灯(10)的上端的上方处且使重力落下的被处理水流动的多个供给口(14)、将紫外线灯(10)固定支承在壁面(12)上的紫外线支承构件(22)以及对从供给口重力落下后的被处理水进行集水的集水部(26)，在重力落下的被处理水与紫外线灯(10)以及壁面(12)中的任一方都不接触处设置供给口(14)。
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公开(公告)号：CN101618296B
公开(公告)日：2012-04-25
申请号：CN200910142592.X
申请日：2009-07-03
Applicant: 株式会社日立制作所
IPC: B01F3/04
Abstract: 本发明涉及一种以使用微细气泡的液体处理装置为对象，在微细气泡发生系统中回收未溶解气体而进行再利用，从而使水处理性能高并具有经济性的液体处理装置。该液体处理装置具有：将供给的水和气体混合的第一气体混合器(7)、对通过第一气体混合器(7)混合气体的气液二相流进行加压的泵(11)、对由泵(11)加压的水回收未溶解的气体的气液分离器(8)、设于第一气体混合器(7)和泵(11)之间并经由减压阀(15)与气液分离器(8)连接的第二气液混合器(50)、与气液分离器(8)的后游侧连接的减压机构(12)，由第二气体混合器(50)混合未溶解的气体的水通过减压机构(12)减压而在水中产生微细气泡。
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公开(公告)号：CN101671084A
公开(公告)日：2010-03-17
申请号：CN200910166765.1
申请日：2009-08-18
Applicant: 株式会社日立制作所
Abstract: 本发明涉及一种液体处理装置，其区分适合臭氧处理的除去对象和适合后期的消毒工序的除去对象，通过各自的处理工序来达成水质目标，降低整体工序的运转成本。该液体处理装置具有注入与臭氧接触槽(2)的被处理水反应的臭氧气体的臭氧发生装置(3)、与臭氧接触槽(2)连接的流路的色度计(8)、与流路连接并具有紫外线灯的紫外线照射槽(6)或对流路注入氯剂的氯注入装置(11)、臭氧发生装置(3)、控制紫外线灯或氯注入装置(11)的控制的控制装置(9)进行输入的输入机构(10)，其中，根据来自输入机构(10)的第一水质项目的目标值和由水质计测量的第一水质项目的偏差来控制臭氧发生装置(3)的输出，基于来自输入机构(10)的第二水质项目的目标值，根据第一水质项目和紫外线照射量的关系或第一水质项目和氯剂的注入率的关系来控制紫外线灯的输出或氯注入装置(11)的氯剂的注入率。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101514038A
公开(公告)日：2009-08-26
申请号：CN200910006467.6
申请日：2009-02-18
Applicant: 株式会社日立制作所
CPC classification number: Y02W10/37
Abstract: 提供一种紫外线水处理设备及其紫外线照射量控制装置，能将照射可视光线后的供水端或者排水端的处理水中的微生物数处于目标数以下。包括：具备在内部的紫外线源和测量紫外线透射率的紫外线透射率测量装置的紫外线照射槽；设置在该紫外线照射槽上游侧，对被处理水的流量进行测量的流量计；设置在紫外线照射槽下游侧，排放处理水的排放端；测量该排放端的可视光线照射量的可视光线照射量测量装置；和输入紫外线透射率的测量装置的测量值、流量计的测量值和可视光线照射量测量装置的测量值，基于可视光线照射量测量装置的测量值即可视光线照射量、由流量计测量的被处理水的流量和上述紫外线透射率，输出紫外线源的输出控制信号的控制部。
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公开(公告)号：CN101205110A
公开(公告)日：2008-06-25
申请号：CN200710186568.7
申请日：2007-12-12
Applicant: 株式会社日立制作所
CPC classification number: Y02W10/15
Abstract: 一种在污水的MBR中有效利用能量、有效实施膜面清洁、同时良好发挥去除氮和磷的高级处理功能的污水处理装置及方法。这种污水处理装置在好气槽(34)的后段设置底部与好气槽(34)连通、下方设置散气装置(4d)且在散气装置(4d)上方浸渍有将流入的好气槽(34)的混合液过滤分离的过滤膜(10)的膜分离槽(35)和一部分与膜分离槽(35)连通且流入膜分离后的好气槽混合液的滞留槽(36)，使滞留槽(36)的混合液向厌气槽(32)循环，膜分离槽(35)及滞留槽(36)上部成为大气开放结构，与循环液联动、好气槽混合液自然流入膜分离槽及滞留槽中进行补充，使膜分离槽(35)及滞留槽(36)的水面位置保持好气槽的水面位置。
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公开(公告)号：CN100338613C
公开(公告)日：2007-09-19
申请号：CN200410071267.6
申请日：2004-07-16
Applicant: 株式会社日立制作所
CPC classification number: Y02W10/15
Abstract: 一种水质信息计算处理装置，具有：反应槽内污泥浓度的设定机构，污泥浓度信息中惰性固形物浓度的设定机构，由污泥浓度信息和上述惰性固形物浓度计算微生物浓度的机构，计算污泥浓度信息中的自养菌浓度的机构，计算污泥浓度信息中的磷积累菌浓度的机构，计算污泥浓度信息中的异养菌浓度的机构，处理过程中运转条件设定机构，输入最终沉淀池中污泥沉降指标的SVI设定机构。根据本发明，能够对满足目标处理水条件的适当生物反应槽的土木结构、曝气条件、计测器装备、运转条件等进行支援。
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公开(公告)号：CN1323953C
公开(公告)日：2007-07-04
申请号：CN200510120405.X
申请日：2005-11-10
Applicant: 株式会社日立制作所
Abstract: 本发明提供一种水处理工艺运转辅助装置，非常适合辅助水处理工艺的运转条件的决定。在本发明的水处理工艺运转辅助装置(10)中，该水处理工艺具备在含有浊质粒子的原水中添加凝集剂并进行搅拌的混合工序、和对于从上述混合工序流出的水中所含有的浊质粒子的凝集物进行沉淀的分离工序，所述水处理工艺运转辅助装置的特征是，包含以下的机构而构成：粒径分布运算机构(11)，基于原水的条件和混合工序的处理条件，运算混合工序的浊质粒子和凝集物的粒径分布；浊度运算机构(13)，基于粒径分布和分离工序的处理条件，运算分离工序的流出水的浊度。
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公开(公告)号：CN1133266A
公开(公告)日：1996-10-16
申请号：CN95120816.0
申请日：1995-12-13
Applicant: 株式会社日立制作所
IPC: C02F1/50
Abstract: 本发明涉及在净水场或下水处理场中为去除有机物和臭气而进行的臭氧处理方法及装置。该方法中，将导向臭氧接触池之前的被处理水的一部分作为样品水抽出后注入臭氧，由此时的注入臭氧量和排臭氧浓度及溶解臭氧浓度进而样品水流量，计算出样品水的臭氧消耗量，根据该臭氧消耗量和流入臭氧接触池中的被处理水流量及臭氧吸收效率来决定注入上述被处理水中的臭氧注入量，根据该注入量进行臭氧接触池中的臭氧处理。
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