位置测定装置、位置测定系统以及测定装置

    公开(公告)号:CN117836588A

    公开(公告)日:2024-04-05

    申请号:CN202180101386.3

    申请日:2021-06-11

    Inventor: 佐藤真路

    Abstract: 位置测定装置包括:能够移动的移动装置;位置测定部,包含对被配置于机器人的可动部的反射元件照射测定光的照射部、接收来自反射元件的反射光的受光部、获取反射元件的位置信息的位置信息获取部、及变更测定光的照射方向的移动部;拍摄部;以及发送部,将由位置信息获取部所获取的位置信息、或基于所述位置信息的机器人的调整信息发送至机器人的控制系统,移动装置使照射部、受光部、移动部及拍摄部的至少一者移动,使用拍摄部来拍摄机器人的至少一部分、反射元件的其中任一者或两者,基于拍摄部的拍摄结果来控制移动部,以将测定光照射至反射元件。

    曝光装置、曝光方法、器件制造方法、程序及记录介质

    公开(公告)号:CN104838471B

    公开(公告)日:2018-03-20

    申请号:CN201380064286.3

    申请日:2013-10-08

    Inventor: 佐藤真路

    CPC classification number: G03F7/70341 G03F7/2041 G03F7/70525 G03F7/70866

    Abstract: 曝光装置具有:包括配置在光学部件周围的至少一部分中的第1部件、和配置在光学部件周围的一部分中的第2部件,并能够形成液体的液浸空间的液浸部件;能够使第2部件相对于第1部件移动的驱动装置;和控制驱动装置的控制装置。控制装置以使得第2部件的第1动作与第2部件的第2动作不同的方式控制驱动装置,所述第2部件的第1动作是从包含在同一列中的第1曝光区域的曝光结束起到第2曝光区域的曝光开始为止的、在衬底的第1移动期间中的第2部件的第1动作,所述第2部件的第2动作是从某列的第3曝光区域的曝光结束起到另一列的第4曝光区域的曝光开始为止的、在衬底的第2移动期间中的第2部件的第2动作。

    曝光装置、曝光方法、器件制造方法、程序及记录介质

    公开(公告)号:CN104838471A

    公开(公告)日:2015-08-12

    申请号:CN201380064286.3

    申请日:2013-10-08

    Inventor: 佐藤真路

    CPC classification number: G03F7/70341 G03F7/2041 G03F7/70525 G03F7/70866

    Abstract: 曝光装置具有:包括配置在光学部件周围的至少一部分中的第1部件、和配置在光学部件周围的一部分中的第2部件,并能够形成液体的液浸空间的液浸部件;能够使第2部件相对于第1部件移动的驱动装置;和控制驱动装置的控制装置。控制装置以使得第2部件的第1动作与第2部件的第2动作不同的方式控制驱动装置,所述第2部件的第1动作是从包含在同一列中的第1曝光区域的曝光结束起到第2曝光区域的曝光开始为止的、在衬底的第1移动期间中的第2部件的第1动作,所述第2部件的第2动作是从某列的第3曝光区域的曝光结束起到另一列的第4曝光区域的曝光开始为止的、在衬底的第2移动期间中的第2部件的第2动作。

    液浸构件及曝光装置
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104508560A

    公开(公告)日:2015-04-08

    申请号:CN201380029828.3

    申请日:2013-03-22

    Inventor: 佐藤真路

    CPC classification number: G03F7/70866 G03F7/2041 G03F7/70341

    Abstract: 本发明的液浸构件(5),是以从光学构件的射出面(12)射出的曝光用光(EL)的光路(K)被液体(LQ)充满的方式,在能于光学构件(13)下方移动的物体(P)上形成液浸空间(15)。液浸构件,具备:具有第1下面(24)的第1构件(21),具有通过间隙与第1下面对向的第2上面(25)与物体可对向的第2下面(26)、相对第1构件为可动的第2构件(22),以及相对光路在第2下面的外侧回收来自第2下面与物体之间的第2空间(SP2)的液体的至少一部分的回收部(23)。

    液浸构件、浸没曝光装置、曝光方法、组件制造方法、程序、及储存媒体

    公开(公告)号:CN103282831A

    公开(公告)日:2013-09-04

    申请号:CN201180062805.3

    申请日:2011-12-27

    Inventor: 佐藤真路

    CPC classification number: G03F7/70216 G03F7/70341

    Abstract: 液浸构件,在浸没曝光装置内,布置在通过光学构件、及光学构件与物体之间的第一液体的曝光用光的光路周围的至少一部分。液浸构件,具备:第一液浸构件,布置在光路周围的至少一部分,以用第一液体充满光学构件与物体之间的曝光用光的光路的方式在光学构件的射出面侧形成第一液体的第一浸没空间;引导部,将第一浸没空间的第一液体的至少一部分引导至光路周围的一部分即第一引导空间;以及第二液浸构件,相对光路布置在第一液浸构件的外侧,在第一浸没空间周围的一部分与第一引导空间相邻地形成第二液体的第二浸没空间。

    液浸构件及液浸曝光装置

    公开(公告)号:CN102918462A

    公开(公告)日:2013-02-06

    申请号:CN201180024575.1

    申请日:2011-07-13

    Inventor: 佐藤真路

    CPC classification number: G03F7/709 G03F7/70341

    Abstract: 一种液浸构件(3),配置在液浸曝光装置(Ex)内,且至少部分配置于光学构件(8)周围及通过光学构件与物体(P)之间的液体的曝光用光的光路(K)周围。液浸构件具备:第1构件(28),具有回收物体上的空间的液体的至少一些的回收口(18);回收流路(19),供从回收口回收的液体流动;第2构件(27),面对回收流路并具有用以从回收流路排出液体的第1排出口(21);以及第3构件(32),面对回收流路并具有用以从回收流路排出气体的第2排出口(22)。第2构件包含第1部分(271)与配置于较第1部分高的位置且能排出较第1部分多的液体的第2部分(272)。

    机器人系统以及机器人系统的控制方法

    公开(公告)号:CN119658725A

    公开(公告)日:2025-03-21

    申请号:CN202510097891.5

    申请日:2019-04-12

    Inventor: 佐藤真路

    Abstract: 本发明提供一种机器人系统以及机器人系统的控制方法,可提升终端效应器的位置或姿势的控制精度。机器人系统能够利用终端效应器对物体进行作业,所述机器人系统包括:驱动装置,能够变更终端效应器的位置和姿势中的至少一个;第一检测装置,用于获取关于终端效应器的位置、终端效应器的姿势、驱动装置的位置、及驱动装置的姿势中的至少一个的信息;第二检测装置,用于获取关于终端效应器的位置、终端效应器的姿势、驱动装置的位置、及驱动装置的姿势中的至少一个的信息;以及控制装置,其中,所述控制装置基于由第一检测装置和第二检测装置中的至少一个所获取的信息,来生成用于控制终端效应器和驱动装置中的至少一个的控制信息。

    处理系统及处理方法
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118893302A

    公开(公告)日:2024-11-05

    申请号:CN202410978845.1

    申请日:2020-08-27

    Inventor: 佐藤真路

    Abstract: 一种处理系统及处理方法,测量光对工件的照射被因加工光对工件的照射而产生的物质妨碍的可能性变低。一种处理系统,其是将来自加工光源的加工光照射至物体的至少一部分而对所述物体进行加工处理的处理系统,包括:合成光学系统,将来自测量光源的测量光的光路与来自所述加工光源的所述加工光的光路合成;照射光学系统,将来自所述合成光学系统的所述加工光及所述测量光照射至所述物体;位置变更装置,变更所述物体与来自所述照射光学系统的所述加工光的聚光位置之间的相对位置关系;光接收装置,经由所述照射光学系统来接收通过照射至所述物体的表面的所述测量光而产生的光;及控制装置,使用来自所述光接收装置的输出,来控制所述位置变更装置。

    位置测定装置以及位置测定方法
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117795290A

    公开(公告)日:2024-03-29

    申请号:CN202180101387.8

    申请日:2021-06-11

    Inventor: 佐藤真路

    Abstract: 位置测定装置包括:位置测定部,对反射元件照射测定光并接收被反射元件反射的反射光,以获取反射元件在三维空间内的位置信息;以及基准位置测定部,对至少一个基准反射元件照射基准测定光并接收被基准反射元件反射的基准反射光,以获取基准反射元件在三维空间内的位置信息,使用基准位置测定部所获取的基准反射元件的位置信息来修正位置测定部所测定的反射元件的位置信息。

    液浸部件、曝光装置及曝光方法、以及器件制造方法

    公开(公告)号:CN105229774B

    公开(公告)日:2019-01-11

    申请号:CN201380076727.1

    申请日:2013-10-08

    Inventor: 佐藤真路

    Abstract: 液浸部件(4A)是在曝光装置(EX1)内形成供从光学部件(3)射出的曝光用光(EL)通过的液浸空间(LS)的液浸部件,具有:第1部件(41),其配置在光学部件的周围的至少一部分上且包含与能够在光学部件的下方移动的物体(5、51、52、6、61)相对的第1下表面(4111);以及能够移动的第2部件(42),其包含相对于光学部件的光轴(AX)位于第1下表面的外侧并且与物体相对的第2下表面(4211)、和相对于光轴位于第2下表面的内侧并且至少一部分位于第1下表面的至少一部分的上方的第3下表面(4221)。

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