带表面保护薄膜的光学构件、光学层叠体和光学设备的制造方法

    公开(公告)号:CN117369030A

    公开(公告)日:2024-01-09

    申请号:CN202310821702.5

    申请日:2023-07-06

    Abstract: 本发明提供带表面保护薄膜的光学构件、光学层叠体和光学设备的制造方法,所述光学构件在对薄型的光学构件进行激光加工时能够抑制该光学构件的加工端部的隆起。另外,提供具备这种带表面保护薄膜的光学构件的光学层叠体。进而,提供使用了这种带表面保护薄膜的光学构件的光学设备的制造方法。本发明的实施方式所述的带表面保护薄膜的光学构件为包含表面保护薄膜(I)和光学构件的带表面保护薄膜的光学构件,该表面保护薄膜(I)包含基材(Ia)和粘合剂层(Ib),该粘合剂层(Ib)与该光学构件直接层叠,该光学构件的厚度为400μm以下,该基材(Ia)的厚度小于60μm。

    表面保护薄膜
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN114716944B

    公开(公告)日:2025-02-25

    申请号:CN202210418403.2

    申请日:2021-01-27

    Abstract: 提供一种表面保护薄膜,其包含粘合剂层且代表性地在光学构件和电子构件的制造工序中为了防止加工、组装、检查、输送等时的该光学构件和该电子构件的表面的损伤而贴接于该光学构件和该电子构件的露出面,其充分抑制剥离静电压,在剥离时不会损坏该光学构件和该电子构件。本发明的实施方式的表面保护薄膜包含粘合剂层,构成该粘合剂层的粘合剂由粘合剂组合物形成,该粘合剂组合物包含基础聚合物、离子性化合物、和氟系化合物,该粘合剂层表面的相对于二碘甲烷的表面自由能为6mJ/m2~30mJ/m2。

    表面保护薄膜
    6.
    发明公开
    表面保护薄膜 审中-实审

    公开(公告)号:CN114561159A

    公开(公告)日:2022-05-31

    申请号:CN202111418232.5

    申请日:2021-11-26

    Abstract: 本发明提供检查性良好、加工时不易产生残胶、抗静电性优异的表面保护薄膜。本发明的实施方式的表面保护薄膜依次包含:基材层、抗静电层和粘合剂层,抗静电层与粘合剂层直接层叠,构成该粘合剂层的粘合剂由粘合剂组合物形成,该粘合剂组合物包含有机硅粘合剂和离子性化合物。

    表面保护薄膜
    7.
    发明授权

    公开(公告)号:CN113249053B

    公开(公告)日:2022-04-15

    申请号:CN202110111988.9

    申请日:2021-01-27

    Abstract: 提供一种表面保护薄膜,其包含粘合剂层且代表性地在光学构件和电子构件的制造工序中为了防止加工、组装、检查、输送等时的该光学构件和该电子构件的表面的损伤而贴接于该光学构件和该电子构件的露出面,其充分抑制剥离静电压,在剥离时不会损坏该光学构件和该电子构件。本发明的实施方式的表面保护薄膜包含粘合剂层,构成该粘合剂层的粘合剂由粘合剂组合物形成,该粘合剂组合物包含基础聚合物、离子性化合物、和氟系化合物,该粘合剂层表面的相对于二碘甲烷的表面自由能为6mJ/m2~30mJ/m2。

    表面保护薄膜
    10.
    发明公开
    表面保护薄膜 审中-公开

    公开(公告)号:CN118185495A

    公开(公告)日:2024-06-14

    申请号:CN202311705140.4

    申请日:2023-12-13

    Abstract: 提供一种表面保护薄膜,其包含粘合剂层,主要用途为:在光学构件、电子构件的制造工序中,为了防止加工、组装、检査、输送等时的该光学构件、该电子构件的表面的划伤而贴接于该光学构件、该电子构件的露出面;该表面保护薄膜能够表现贴附初始的优异的轻剥离性,并且能够抑制剥离力的经时上升。本发明的实施方式的表面保护薄膜包含粘合剂层,构成该粘合剂层的粘合剂由粘合剂组合物形成,该粘合剂组合物包含:氨基甲酸酯预聚物(A)、氟系化合物(B)、有机硅系化合物(C)及脂肪酸酯(D),该粘合剂层表面针对二碘甲烷的表面自由能为0.1mJ/m2~8.0mJ/m2。

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