公开(公告)号：CN104512087A

公开(公告)日：2015-04-15

申请号：CN201410432459.9

申请日：2014-08-28

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 田村透 ,  古泽修也

IPC: B32B37/12 ,  B32B38/10 ,  B32B38/16 ,  G02B5/30

CPC classification number: B32B37/12 ,  B32B38/162 ,  G02B5/30

Abstract: 本发明提供一种膜层叠体的制造方法及膜层叠体的制造设备。在洁净室内设置两个以上的洁净度高于其他区域的洁净度的区域，在相邻的两个上述区域的上游侧实施异物去除，在比该上游侧进一步提高了洁净度的下游侧实施保护膜的粘合。

公开(公告)号：CN107111034B

公开(公告)日：2019-12-10

申请号：CN201580061385.5

申请日：2015-11-04

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 神丸刚 ,  冈野彰 ,  八重樫将宽 ,  铃木秀仁 ,  田村透 ,  西乡公史 ,  仲井宏太

IPC: G02B5/30

Abstract: 本发明提供可效率良好地制造高质量的具有非偏光部的偏光件的制造方法。本发明的具有非偏光部的偏光件的制造方法包括以下工序：使具备偏光件和配置在该偏光件的一面侧的表面保护薄膜、且在该一面侧具有偏光件露出的露出部的长条状的偏光薄膜层叠体的该一面侧与液体接触的工序；以及，在该液体接触的工序之后，使该偏光薄膜层叠体浸渍于碱性溶液的工序；在一个实施方式中，所述液体为与所述碱性溶液相同的碱性溶液。

公开(公告)号：CN104369525A

公开(公告)日：2015-02-25

申请号：CN201410360021.4

申请日：2014-07-25

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 田村透 ,  古泽修也

IPC: B32B38/10 ,  B08B5/04

Abstract: 本发明提供从膜层叠体去除异物的异物去除方法、膜层叠体的制造方法及制造装置。在该从膜层叠体去除异物的异物去除方法中，一边将包括光学膜、形成在该光学膜上的粘合层、以及层叠在该粘合层上以保护上述光学膜的保护膜的膜层叠体向下游侧输送，一边从上述膜层叠体剥离上述保护膜，并且，自侧方对膜层叠体的发生该保护膜剥离的部分进行抽吸而去除异物。

公开(公告)号：CN104512087B

公开(公告)日：2018-04-17

申请号：CN201410432459.9

申请日：2014-08-28

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 田村透 ,  古泽修也

IPC: B32B37/12 ,  B32B38/10 ,  B32B38/16 ,  G02B5/30

Abstract: 本发明提供一种膜层叠体的制造方法及膜层叠体的制造设备。在洁净室内设置两个以上的洁净度高于其他区域的洁净度的区域，在相邻的两个上述区域的上游侧实施异物去除，在比该上游侧进一步提高了洁净度的下游侧实施保护膜的粘合。

公开(公告)号：CN104338712A

公开(公告)日：2015-02-11

申请号：CN201410374866.9

申请日：2014-07-31

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 田村透 ,  古泽修也

IPC: B08B7/00

CPC classification number: B08B7/0028

Abstract: 本发明提供从膜层叠体去除异物的异物去除方法、膜层叠体的制造方法及制造装置。在该从膜层叠体去除异物的异物去除方法中，一边将包括光学膜、形成在该光学膜上的粘合层、以及层叠在该粘合层上以保护上述光学膜的保护膜的膜层叠体向下游侧输送，一边在利用配置在上述膜层叠体的宽度方向上的两个端缘中的一侧的粘合辊对夹持该两个端缘中的至少一个端缘的情况下使上述膜层叠体通过至上述下游侧，由此去除异物。

公开(公告)号：CN104345062B

公开(公告)日：2018-09-28

申请号：CN201410384065.0

申请日：2014-08-06

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 田村透 ,  古泽修也

IPC: G01N21/89

Abstract: 本发明提供光学构件的检查方法、光学产品的制造方法以及光学构件的检查装置。将光学构件作为被检查物向具有光源部和拍摄部的检查装置供给，使上述光学构件通过特定配置后的上述光源部与上述拍摄部之间而进行该光学构件的检查。

公开(公告)号：CN104338712B

公开(公告)日：2018-03-30

申请号：CN201410374866.9

申请日：2014-07-31

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 田村透 ,  古泽修也

IPC: B08B7/00

Abstract: 本发明提供从膜层叠体去除异物的异物去除方法、膜层叠体的制造方法及制造装置。在该从膜层叠体去除异物的异物去除方法中，一边将包括光学膜、形成在该光学膜上的粘合层、以及层叠在该粘合层上以保护上述光学膜的保护膜的膜层叠体向下游侧输送，一边在利用配置在上述膜层叠体的宽度方向上的两个端缘中的一侧的粘合辊对夹持该两个端缘中的至少一个端缘的情况下使上述膜层叠体通过至上述下游侧，由此去除异物。

公开(公告)号：CN104345062A

公开(公告)日：2015-02-11

申请号：CN201410384065.0

申请日：2014-08-06

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 田村透 ,  古泽修也

IPC: G01N21/89

Abstract: 本发明提供光学构件的检查方法、光学产品的制造方法以及光学构件的检查装置。将光学构件作为被检查物向具有光源部和拍摄部的检查装置供给，使上述光学构件通过特定配置后的上述光源部与上述拍摄部之间而进行该光学构件的检查。

公开(公告)号：CN111308601B

公开(公告)日：2024-10-25

申请号：CN201911265458.9

申请日：2019-12-11

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 田村透 ,  桑木清和

IPC: G02B5/30 ,  C09D175/02 ,  C09D123/22 ,  C08J7/14 ,  C08J7/12

Abstract: 本发明的课题在于提供不容易被所容纳的处理液侵蚀的偏光薄膜制造用的处理槽及偏光薄膜的制造装置。在由薄膜原卷(3)制作偏光薄膜时使用的用于容纳处理液的处理槽中，前述处理槽具有金属制的槽主体(11)以及覆盖前述槽主体(11)的内表面的被覆层(12)，前述被覆层(12)由伸长率为150％以上的被覆材料形成。

公开(公告)号：CN111308601A

公开(公告)日：2020-06-19

申请号：CN201911265458.9

申请日：2019-12-11

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 田村透 ,  桑木清和

IPC: G02B5/30 ,  C09D175/02 ,  C09D123/22 ,  C08J7/14 ,  C08J7/12

Abstract: 本发明的课题在于提供不容易被所容纳的处理液侵蚀的偏光薄膜制造用的处理槽及偏光薄膜的制造装置。在由薄膜原卷(3)制作偏光薄膜时使用的用于容纳处理液的处理槽中，前述处理槽具有金属制的槽主体(11)以及覆盖前述槽主体(11)的内表面的被覆层(12)，前述被覆层(12)由伸长率为150％以上的被覆材料形成。