公开(公告)号：CN1374639A

公开(公告)日：2002-10-16

申请号：CN02104752.9

申请日：2002-02-10

Applicant: 新日铁化学株式会社 ,  大日本印刷株式会社

Inventor： 冈村一人 ,  田中和寿 ,  大沟和则 ,  下濑真 ,  坂寄胜哉 ,  百濑辉寿 ,  富樫智子 ,  内山伦明 ,  河野茂树

IPC: G11B5/48 ,  G11B21/16 ,  B32B15/08 ,  H05K3/06

CPC classification number: G11B5/4853 ,  C08G73/1042 ,  H05K1/056 ,  H05K3/002 ,  Y10T428/24917 ,  Y10T428/31721

Abstract: 本发明涉及生产性及可靠性好的HDD用悬架及其制造方法。本发明的HDD用悬架使用碱性试液,对不锈钢基材上层合有绝缘树脂层及金属箔层的层压体进行湿式蚀刻加工制得。前述层压体的绝缘树脂层由多层的聚酰亚胺系树脂层构成,构成绝缘树脂层的各层均是用80℃、50重量%KOH水溶液蚀刻,蚀刻速度的平均值为0.5μm/分以上,绝缘树脂层与不锈钢基材及金属箔层接合的层是玻璃化转变温度300℃以下的聚酰亚胺系树脂层(B),聚酰亚胺系树脂层(B)与不锈钢基材及与金属箔层的粘接力是0.5kN/m以上。

公开(公告)号：CN1209747C

公开(公告)日：2005-07-06

申请号：CN02104752.9

申请日：2002-02-10

Applicant: 新日铁化学株式会社 ,  大日本印刷株式会社

Inventor： 冈村一人 ,  田中和寿 ,  大沟和则 ,  下濑真 ,  坂寄胜哉 ,  百濑辉寿 ,  富樫智子 ,  内山伦明 ,  河野茂树

IPC: G11B5/48 ,  G11B21/16 ,  B32B15/08 ,  H05K3/06

CPC classification number: G11B5/4853 ,  C08G73/1042 ,  H05K1/056 ,  H05K3/002 ,  Y10T428/24917 ,  Y10T428/31721

Abstract: 本发明涉及生产性及可靠性好的HDD用悬架及其制造方法。本发明的HDD用悬架使用碱性试液，对不锈钢基材上层合有绝缘树脂层及金属箔层的层压体进行湿式蚀刻加工制得。前述层压体的绝缘树脂层由多层的聚酰亚胺系树脂层构成，构成绝缘树脂层的各层均是用80℃、50重量%KOH水溶液蚀刻，蚀刻速度的平均值为0.5μm/分以上，绝缘树脂层与不锈钢基材及金属箔层接合的层是玻璃化转变温度300℃以下的聚酰亚胺系树脂层(B)，聚酰亚胺系树脂层(B)与不锈钢基材及与金属箔层的粘接力是0.5kN/m以上。