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发明公开
用于平板显示器的空白掩膜和光掩膜审中-实审

公开(公告)号：CN117991581A

公开(公告)日：2024-05-07

申请号：CN202310026042.1

申请日：2023-01-09

Applicant: 思而施技术株式会社

Inventor： 金东建 , 姜同植 , 孔钟奎 , 李钟旻

IPC: G03F1/40

Abstract: 一种用于平板显示器(FPD)的空白掩膜，其包括形成于透明衬底上的金属薄膜。金属薄膜包括用于阻挡曝光光线的遮光层、用于反射一些曝光光线的反射层、以及用于防止静电荷在金属薄膜中积聚的抗静电层。抗静电层包含30原子％至60原子％的铬(Cr)、20原子％至60原子％的氮(N)、10原子％至40原子％的氧(O)和0原子％至10原子％的碳(C)，并且抗静电层的薄层电阻高于或等于100Ω/□。抗静电层防止电荷在金属薄膜中积聚，并且防止由于静电放电(ESD)而导致光掩膜的图案损伤。

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