相变材料激光烧蚀模拟方法、装置、电子设备及存储介质

    公开(公告)号:CN118095141A

    公开(公告)日:2024-05-28

    申请号:CN202410464351.1

    申请日:2024-04-17

    Abstract: 本申请属于激光烧蚀的技术领域,公开了一种相变材料激光烧蚀模拟方法、装置、电子设备及存储介质,该方法包括:获取表面设置有镀层模型的相变材料模型,设置镀层模型的第一材料参数和相变材料模型的第二材料参数,根据激光烧蚀过程的传热特征、相变特征、液体和气体的流动特征以及物质蒸发特征,设置流体传热物理场、层流物理场和基于气液界面流动而改进的水平集物理场,通过等效热容法,对表面设置有镀层模型的相变材料模型进行激光烧蚀模拟,得到激光烧蚀模拟分析结果,通过流体传热物理场、层流物理场和基于气液界面流动而改进的水平集物理场,对激光烧蚀过程进行模拟,提高了相变材料的激光烧蚀过程的分析效率。

    相变材料激光烧蚀模拟方法、装置、电子设备及存储介质

    公开(公告)号:CN118095141B

    公开(公告)日:2024-08-09

    申请号:CN202410464351.1

    申请日:2024-04-17

    Abstract: 本申请属于激光烧蚀的技术领域,公开了一种相变材料激光烧蚀模拟方法、装置、电子设备及存储介质,该方法包括:获取表面设置有镀层模型的相变材料模型,设置镀层模型的第一材料参数和相变材料模型的第二材料参数,根据激光烧蚀过程的传热特征、相变特征、液体和气体的流动特征以及物质蒸发特征,设置流体传热物理场、层流物理场和基于气液界面流动而改进的水平集物理场,通过等效热容法,对表面设置有镀层模型的相变材料模型进行激光烧蚀模拟,得到激光烧蚀模拟分析结果,通过流体传热物理场、层流物理场和基于气液界面流动而改进的水平集物理场,对激光烧蚀过程进行模拟,提高了相变材料的激光烧蚀过程的分析效率。

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