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公开(公告)号:CN118900888A
公开(公告)日:2024-11-05
申请号:CN202380029081.5
申请日:2023-03-14
Applicant: 大金工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种组合物,其为含有全氟弹性体和填料的组合物,所述填料含有碳化硅和石墨,通过X射线光电子能谱法(XPS)测定的、来源于所述填料中的所述石墨的峰的面积(C)相对于来源于所述填料中的所述碳化硅的峰的面积(SiC)之比(面积(C)/面积(SiC))为0.7以上。
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公开(公告)号:CN109476896B
公开(公告)日:2021-05-18
申请号:CN201780045058.X
申请日:2017-08-08
Applicant: 国立大学法人秋田大学 , 大金工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种组合物,该组合物可提供耐热性优异、进而针对暴露于半导体的制造工序中的氧等离子体和氟系等离子体的重量变化小的成型品。一种组合物,其特征在于,其包含含氟聚合物以及具有特定结构的笼型倍半硅氧烷的超支化聚合物。
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公开(公告)号:CN109996832A
公开(公告)日:2019-07-09
申请号:CN201780073776.8
申请日:2017-12-08
IPC: C08G77/52 , C08L83/14 , C08L101/04 , C09K3/10 , H01L21/3065
Abstract: 本发明提供新的聚合物、组合物和成型品。一种聚合物,其具有下述通式(1)所表示的结构单元(式中,X11和X12相同或不同,表示氢原子、具有或不具有氟原子的烷基、或者苯基。Y11表示氧原子或硫原子。Rf11表示氢原子或者具有或不具有氟原子的烷基。a表示1~4的整数)。
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公开(公告)号:CN1678961B
公开(公告)日:2010-05-05
申请号:CN03819876.2
申请日:2003-08-21
Applicant: 大金工业株式会社
IPC: G03F7/42 , H01L21/027 , H01L21/304 , H05K3/26
CPC classification number: H01L21/02063 , C11D7/08 , C11D7/24 , C11D7/263 , C11D7/264 , C11D7/265 , C11D7/28 , C11D7/32 , C11D7/3263 , C11D7/34 , C11D11/0047 , G03F7/42 , G03F7/422 , G03F7/423 , G03F7/425 , G03F7/426 , G03F7/428 , H01L21/02071 , H01L21/31133 , H01L21/31138 , H01L21/76802 , H01L21/76838 , H05K3/26
Abstract: 本发明提供一种包含有机酸及有机溶剂中的至少一种,及氟化氢(HF)的,low-k膜用的抗蚀剂剥离液及通孔或电容器清洗液,及使用上述物质的抗蚀剂剥离方法及通孔或电容器的清洗方法。
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公开(公告)号:CN109476896A
公开(公告)日:2019-03-15
申请号:CN201780045058.X
申请日:2017-08-08
Applicant: 国立大学法人秋田大学 , 大金工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种组合物,该组合物可提供耐热性优异、进而针对暴露于半导体的制造工序中的氧等离子体和氟系等离子体的重量变化小的成型品。一种组合物,其特征在于,其包含含氟聚合物以及具有特定结构的笼型倍半硅氧烷的超支化聚合物。
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