公开(公告)号：CN101295630A

公开(公告)日：2008-10-29

申请号：CN200810094841.8

申请日：2008-04-28

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 仲野彰义 ,  迎垣孝一 ,  加护由一 ,  上野博之

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/302 ,  B08B1/00

CPC classification number: B08B1/04 ,  H01L21/67046

Abstract: 本发明的基板处理装置是一种用于对基板边缘部进行清洗处理的基板处理装置。该基板处理装置具有：基板保持机构，其用于保持基板；刷子，其具有清洗面，所述清洗面相对纵向倾斜，所述纵向是垂直于所述基板保持机构所保持的基板的表面的方向；刷子移动机构，其用于在所述纵向以及与该纵向正交的横向上移动所述刷子；负荷检测单元，其用于检测沿所述纵向施加到所述刷子的负荷；第一判断单元，其基于所述负荷检测单元的输出，判断所述刷子是否配置到基准位置，所述基准位置在向处理时位置导向所述刷子之际成为基准，其中，所述处理时位置是在进行清洗处理时所述刷子应配置的位置。

公开(公告)号：CN101295630B

公开(公告)日：2010-07-14

申请号：CN200810094841.8

申请日：2008-04-28

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 仲野彰义 ,  迎垣孝一 ,  加护由一 ,  上野博之

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/302 ,  B08B1/00

CPC classification number: B08B1/04 ,  H01L21/67046

Abstract: 本发明的基板处理装置是一种用于对基板边缘部进行清洗处理的基板处理装置。该基板处理装置具有：基板保持机构，其用于保持基板；刷子，其具有清洗面，所述清洗面相对纵向倾斜，所述纵向是垂直于所述基板保持机构所保持的基板的表面的方向；刷子移动机构，其用于在所述纵向以及与该纵向正交的横向上移动所述刷子；负荷检测单元，其用于检测沿所述纵向施加到所述刷子的负荷；第一判断单元，其基于所述负荷检测单元的输出，判断所述刷子是否配置到基准位置，所述基准位置在向处理时位置导向所述刷子之际成为基准，其中，所述处理时位置是在进行清洗处理时所述刷子应配置的位置。