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公开(公告)号：CN109196390B
公开(公告)日：2021-08-03
申请号：CN201780033030.4
申请日：2017-07-10
Abstract: 本发明的目的在于提供一种光学层叠体，其层间的密合性优异，特别是即便在室外使用的情况下层间的密合性也优异，抗粘连性也极其优异。本发明涉及一种光学层叠体，该光学层叠体在基材膜的至少一个面上具有包含二氧化硅微粒的硬涂层，在上述硬涂层的与上述基材膜侧相反侧的面上具有干膜层，该光学层叠体的特征在于，上述二氧化硅微粒从上述硬涂层的上述干膜层侧表面露出，上述干膜层直接层叠在上述二氧化硅微粒露出的上述硬涂层表面，设置上述干膜层前，在硬涂层的上述干膜层设置侧的表面形成有凹凸形状，在上述硬涂层的厚度方向的截面中，在厚度方向上从上述干膜侧界面起至10％厚度为止的范围内任意选择10处0.2μm×0.2μm的区域，上述10处区域中的上述二氧化硅微粒的存在比的平均值为30％～80％，并且上述10处区域中的上述二氧化硅微粒的存在比的标准偏差为1～7，通过X射线光电子能谱分析测定的上述硬涂层的与上述基材膜侧相反一侧表面中的硅原子的存在率A为2％～10％。
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公开(公告)号：CN109196390A
公开(公告)日：2019-01-11
申请号：CN201780033030.4
申请日：2017-07-10
Abstract: 本发明的目的在于提供一种光学层叠体，其层间的密合性优异，特别是即便在室外使用的情况下层间的密合性也优异，抗粘连性也极其优异。本发明涉及一种光学层叠体，该光学层叠体在基材膜的至少一个面上具有包含二氧化硅微粒的硬涂层，在上述硬涂层的与上述基材膜侧相反侧的面上具有干膜层，该光学层叠体的特征在于，上述二氧化硅微粒从上述硬涂层的上述干膜层侧表面露出，上述干膜层直接层叠在上述二氧化硅微粒露出的上述硬涂层表面，设置上述干膜层前，在硬涂层的上述干膜层设置侧的表面形成有凹凸形状，在上述硬涂层的厚度方向的截面中，在厚度方向上从上述干膜侧界面起至10％厚度为止的范围内任意选择10处0.2μm×0.2μm的区域，上述10处区域中的上述二氧化硅微粒的存在比的平均值为30％～80％，并且上述10处区域中的上述二氧化硅微粒的存在比的标准偏差为1～7，通过X射线光电子能谱分析测定的上述硬涂层的与上述基材膜侧相反一侧表面中的硅原子的存在率A为2％～10％。
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公开(公告)号：CN112442206B
公开(公告)日：2023-08-18
申请号：CN202011380675.5
申请日：2016-05-27
Applicant: 迪睿合株式会社
Inventor： 小野行弘
IPC: C08J7/046 , C08J7/12 , C08J7/06 , C09D4/02 , C09D4/06 , C09D7/61 , G02B1/115 , G02B1/14 , C08L67/02
Abstract: 本发明涉及层叠薄膜，提供有机层与无机层之间的密合性优异的层叠薄膜。该层叠薄膜具备：表面露出有金属氧化物粒子(11)的硬涂层(10)；和在硬涂层(10)的金属氧化物粒子露出面成膜且包含与金属氧化物粒子(11)同种的缺氧态金属氧化物或金属的密合层(12)，所述金属氧化物粒子(11)是Al2O3、TiO2、ZrO2、CeO2、MgO、ZnO、Ta2O5、Sb2O3、SnO2、MnO2。由此，密合层(12)与硬涂层(10)的树脂坚固地附着，并且与露出的金属氧化物粒子(11)更加牢固地附着，因此能够获得优异的密合性。
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公开(公告)号：CN112415638B
公开(公告)日：2023-06-06
申请号：CN202011380849.8
申请日：2016-05-27
Applicant: 迪睿合株式会社
Inventor： 小野行弘
IPC: G02B1/115 , G02B1/14 , B32B7/023 , B32B7/12 , B32B9/00 , B32B27/20 , C08J7/046 , C08J7/00 , C09D171/02 , C09D7/61 , C08L67/02
Abstract: 本发明涉及层叠薄膜的制造方法，该方法具有：露出工序，在含有金属氧化物粒子的硬涂层的表面，使金属氧化物粒子露出；及成膜工序，在所述硬涂层的金属氧化物粒子露出面形成密合层，所述密合层包含具有与所述金属氧化物粒子同种的金属的缺氧态金属氧化物或与所述金属氧化物粒子同种的金属；所述露出工序中，对硬涂层的表面进行蚀刻，所述蚀刻后的硬涂层表面的算术平均粗糙度Ra为2nm以上12nm以下。由此，密合层与硬涂层的树脂坚固地附着，并且与露出的金属氧化物粒子更加牢固地附着，因此能够获得优异的密合性。
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公开(公告)号：CN116018258A
公开(公告)日：2023-04-25
申请号：CN202180052567.1
申请日：2021-08-18
Applicant: 迪睿合株式会社
IPC: B32B7/025
Abstract: 本发明提供兼顾低电阻和高透过率的导电性层叠体以及提供具备该导电性层叠体的各种光学元件、导电性层叠体的制造方法。导电性层叠体(1)在透明基材(2)的至少1面上从透明基材(2)侧起依次层叠有第一金属氧化物层(3)、金属层(4)和第二金属氧化物层(5)，第一金属氧化物层(3)的透明基材侧(2)的界面的算术平均粗糙度为2.0nm以下。例如，导电性层叠体(1)中，第一金属氧化物层(3)的透明基材(2)侧的界面为透明基材(2)的表面。另外，在透明基材(2)与第一金属氧化物层(3)之间进一步具备树脂层(6)的导电性层叠体(1A)中，第一金属氧化物层(3)的透明基材(2)侧的界面为树脂层(6)的表面。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107615103B
公开(公告)日：2020-12-15
申请号：CN201680028850.X
申请日：2016-05-27
Applicant: 迪睿合株式会社
Inventor： 小野行弘
Abstract: 本发明提供有机层与无机层之间的密合性优异的层叠薄膜及层叠薄膜的制造方法。该层叠薄膜具备：表面露出有金属氧化物粒子(11)的硬涂层(10)；和在硬涂层(10)的金属氧化物粒子露出面成膜且包含与金属氧化物粒子(11)同种的缺氧态金属氧化物或金属的密合层(12)。由此，密合层(12)与硬涂层(10)的树脂坚固地附着，并且与露出的金属氧化物粒子(11)更加牢固地附着，因此能够获得优异的密合性。
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公开(公告)号：CN112442205B
公开(公告)日：2023-08-22
申请号：CN202011380539.6
申请日：2016-05-27
Applicant: 迪睿合株式会社
Inventor： 小野行弘
Abstract: 本发明涉及层叠薄膜，提供有机层与无机层之间的密合性优异的层叠薄膜。该层叠薄膜具备：表面露出有金属氧化物粒子(11)的硬涂层(10)；和在硬涂层(10)的金属氧化物粒子露出面成膜且包含与金属氧化物粒子(11)同种的缺氧态金属氧化物或金属的密合层(12)，所述密合层(12)包含AlOx、TiOx、ZrOx、CeOx、MgOx、ZnOx、TaOx、SbOx、SnOx、MnOx。由此，密合层(12)与硬涂层(10)的树脂坚固地附着，并且与露出的金属氧化物粒子(11)更加牢固地附着，因此能够获得优异的密合性。
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公开(公告)号：CN112442206A
公开(公告)日：2021-03-05
申请号：CN202011380675.5
申请日：2016-05-27
Applicant: 迪睿合株式会社
Inventor： 小野行弘
IPC: C08J7/046 , C08J7/12 , C08J7/06 , C09D4/02 , C09D4/06 , C09D7/61 , G02B1/115 , G02B1/14 , C08L67/02
Abstract: 本发明涉及层叠薄膜，提供有机层与无机层之间的密合性优异的层叠薄膜。该层叠薄膜具备：表面露出有金属氧化物粒子(11)的硬涂层(10)；和在硬涂层(10)的金属氧化物粒子露出面成膜且包含与金属氧化物粒子(11)同种的缺氧态金属氧化物或金属的密合层(12)，所述金属氧化物粒子(11)是Al2O3、TiO2、ZrO2、CeO2、MgO、ZnO、Ta2O5、Sb2O3、SnO2、MnO2。由此，密合层(12)与硬涂层(10)的树脂坚固地附着，并且与露出的金属氧化物粒子(11)更加牢固地附着，因此能够获得优异的密合性。
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公开(公告)号：CN107615103A
公开(公告)日：2018-01-19
申请号：CN201680028850.X
申请日：2016-05-27
Applicant: 迪睿合株式会社
Inventor： 小野行弘
Abstract: 本发明提供有机层与无机层之间的密合性优异的层叠薄膜及层叠薄膜的制造方法。该层叠薄膜具备：表面露出有金属氧化物粒子(11)的硬涂层(10)；和在硬涂层(10)的金属氧化物粒子露出面成膜且包含与金属氧化物粒子(11)同种的缺氧态金属氧化物或金属的密合层(12)。由此，密合层(12)与硬涂层(10)的树脂坚固地附着，并且与露出的金属氧化物粒子(11)更加牢固地附着，因此能够获得优异的密合性。
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公开(公告)号：CN112442205A
公开(公告)日：2021-03-05
申请号：CN202011380539.6
申请日：2016-05-27
Applicant: 迪睿合株式会社
Inventor： 小野行弘
Abstract: 本发明涉及层叠薄膜，提供有机层与无机层之间的密合性优异的层叠薄膜。该层叠薄膜具备：表面露出有金属氧化物粒子(11)的硬涂层(10)；和在硬涂层(10)的金属氧化物粒子露出面成膜且包含与金属氧化物粒子(11)同种的缺氧态金属氧化物或金属的密合层(12)，所述密合层(12)包含AlOx、TiOx、ZrOx、CeOx、MgOx、ZnOx、TaOx、SbOx、SnOx、MnOx。由此，密合层(12)与硬涂层(10)的树脂坚固地附着，并且与露出的金属氧化物粒子(11)更加牢固地附着，因此能够获得优异的密合性。
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