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公开(公告)号：CN113774323A
公开(公告)日：2021-12-10
申请号：CN202111239868.3
申请日：2018-11-13
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 本发明涉及用于制造蒸镀掩模的金属板和金属板的制造方法以及蒸镀掩模和蒸镀掩模的制造方法。金属板具有位于金属板的表面的两个以上的凹坑。用于制造蒸镀掩模的金属板的制造方法具备下述检查工序：基于位于金属板的表面的一部分的两个以上的凹坑的容积的总和，判定金属板的优劣。
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公开(公告)号：CN109778114B
公开(公告)日：2021-10-15
申请号：CN201811344277.0
申请日：2018-11-13
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 本发明涉及用于制造蒸镀掩模的金属板和金属板的制造方法以及蒸镀掩模和蒸镀掩模的制造方法。金属板具有位于金属板的表面的两个以上的凹坑。用于制造蒸镀掩模的金属板的制造方法具备下述检查工序：基于位于金属板的表面的一部分的两个以上的凹坑的容积的总和，判定金属板的优劣。
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公开(公告)号：CN109778113B
公开(公告)日：2021-02-12
申请号：CN201811344229.1
申请日：2018-11-13
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 本发明涉及制造蒸镀掩模的金属板及其制造方法、蒸镀掩模及其制造方法和具备其的蒸镀掩模装置。为了制造蒸镀掩模而使用的金属板具有30μm以下的厚度。通过利用EBSD法测定出现在金属板的截面中的晶粒并对测定结果进行分析而算出的晶粒的平均截面积为0.5μm2以上且50μm2以下。平均截面积通过在将晶体取向之差为5度以上的部分认定为晶界的条件下利用面积法对由EBSD法得到的测定结果进行分析而算出。
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公开(公告)号：CN109778115A
公开(公告)日：2019-05-21
申请号：CN201811345197.7
申请日：2018-11-13
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 本发明涉及制造蒸镀掩模的金属板及其检查方法和制造方法、蒸镀掩模及其制造方法和蒸镀掩模装置。金属板具备具有金属板的长度方向和与长度方向垂直的宽度方向的表面。在使光入射到表面时观测到的反射光之中，在与表面垂直的至少一个平面内以45°±0.2°的角度从表面射出的反射光的表面反射率为8％以上且25％以下。
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Patent Agency Ranking
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公开(公告)号：CN105745352B
公开(公告)日：2018-12-21
申请号：CN201480063594.9
申请日：2014-12-25
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 本发明提供一种在框架固定有抑制了“扭曲”的蒸镀掩模的带框架的蒸镀掩模的制造方法及用于该方法的蒸镀掩模的拉伸装置。在带框架的蒸镀掩模的制造方法中，包含：准备将形成有狭缝(15)的金属掩模(10)和在与该狭缝重叠的位置形成有与蒸镀制作的图案对应的开口部(25)的树脂掩模(20)层叠而构成的蒸镀掩模(100)的准备工序；将在准备工序中准备的蒸镀掩模的一部分利用保持部件(80)保持，且将由保持部件(80)保持的蒸镀掩模(100)向其外方拉伸的拉伸工序；在拉伸工序后，在形成有贯通孔的框架(60)固定拉伸状态的蒸镀掩模的固定工序，在拉伸工序中，对于拉伸状态的蒸镀掩模，或拉伸蒸镀掩模的同时进行该蒸镀掩模的旋转调整及移动调整的任一方或双方的调整。
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公开(公告)号：CN108220885A
公开(公告)日：2018-06-29
申请号：CN201711228220.X
申请日：2017-11-29
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 本发明提供蒸镀掩模装置和蒸镀掩模装置的制造方法，其能够抑制在蒸镀掩模上产生皱褶或变形。蒸镀掩模装置(10)具备：蒸镀掩模(20)，其具有配置有多个第1贯通孔(25)的有效区域(22)；和安装于蒸镀掩模(20)的框架(15)，该蒸镀掩模装置具有将蒸镀掩模(20)和框架(15)互相接合的多个接合部(60)，多个接合部(60)沿着蒸镀掩模(20)的外缘(26)排列，在蒸镀掩模(20)的外缘(26)上的与相邻的两个接合部(60)之间对应的位置处形成有切口(42)。
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公开(公告)号：CN117305765A
公开(公告)日：2023-12-29
申请号：CN202310760852.X
申请日：2023-06-26
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 一种掩模的制造方法、掩模及掩模装置的制造方法。所述掩模可以具备：第一部分，其包括至少1个第一贯通孔组；和第二部分，其包括至少1个在第一方向上与第一贯通孔组相邻的第二贯通孔组。掩模的制造方法可以具备：准备包括原始基材和抗蚀剂层的层叠体的步骤；使用第一曝光掩模，对与第一部分对应的抗蚀剂层进行曝光的第一曝光过程；使用第二曝光掩模，对与第二部分对应的抗蚀剂层进行曝光的第二曝光过程；对与第一部分对应的抗蚀剂层和与第二部分对应的抗蚀剂层进行显影的过程；以及隔着与第一部分对应的抗蚀剂层和与第二部分对应的抗蚀剂层对原始基材进行蚀刻的过程。
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公开(公告)号：CN116657084A
公开(公告)日：2023-08-29
申请号：CN202310153425.5
申请日：2023-02-22
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 本发明提供蒸镀掩模装置、蒸镀掩模装置的制造方法及有机器件的制造方法。本公开的蒸镀掩模装置具备框架、蒸镀掩模和对准掩模。对准掩模包括在第二方向上位于互不相同的位置并且与框架重叠的2个第一对准掩模孔。相对于第一对准掩模孔，将框架与对准掩模接合在一起的第一焊接部位于第二方向上的对准掩模的外侧。相对于第一对准掩模孔，将框架与对准掩模接合在一起的第二焊接部位于第二方向上的对准掩模的内侧。
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