电子发射元件及其制造方法以及电子元件的制造方法

    公开(公告)号:CN109494139B

    公开(公告)日:2021-03-09

    申请号:CN201811050597.5

    申请日:2018-09-07

    Abstract: 本发明提供一种能使现有的电子发射元件实现特性提升及/或寿命增长且具有新颖构造的电子发射元件及其制造方法。电子发射元件的制造方法包含:步骤A,准备铝基板(12)或由基板支承的铝层;步骤B,通过使铝基板的表面(12s)或铝层的表面阳极氧化,而形成具有多个细孔(34)的多孔氧化铝层(32);步骤C,通过向多个细孔内赋予银纳米粒子(42n),而使多个细孔内承载银纳米粒子;步骤D,在步骤C之后,对铝基板或铝层的实质整个表面,赋予绝缘层形成溶液(36);步骤E,在步骤D之后,通过至少减少绝缘层形成溶液中所含的溶剂而形成绝缘层(37);及步骤F,在绝缘层上形成电极(52)。

    光学膜的制造方法以及光学膜

    公开(公告)号:CN107219569B

    公开(公告)日:2020-04-03

    申请号:CN201710440041.6

    申请日:2016-02-10

    Abstract: 本发明提供一种具有良好的防反射性并且防污性和耐擦伤性良好的光学膜的制造方法。本发明的光学膜的制造方法包括:工序(1),涂敷下层树脂和上层树脂;工序(2),在将所涂敷的上述下层树脂和上述上层树脂层叠的状态下,将金属模具从上述上层树脂侧按压到上述下层树脂和上述上层树脂,形成在表面具有凹凸结构的树脂层;以及工序(3),使上述树脂层固化,上述下层树脂包括不含氟原子的至少一种第一单体,上述上层树脂包括不含氟原子的至少一种第二单体以及含氟单体,上述第一单体和上述第二单体中的至少一方包括与上述含氟单体相溶的相溶性单体,并且溶解在上述下层树脂和上述上层树脂中。

    光学装置用壳体和光学装置

    公开(公告)号:CN110462452A

    公开(公告)日:2019-11-15

    申请号:CN201880021737.8

    申请日:2018-03-12

    Abstract: 实施方式的光学装置用壳体(100A)具有:透光性的窗构件(20A);以及箱体(10),其具有收纳光接收元件和/或发光元件(OE)的空间,窗构件(20A)具备:透光性构件(22);高分子膜(50),其设置在透光性构件(22)的外侧表面,并且在表面具有蛾眼结构,表面相对于水的接触角为140°以上;以及电阻发热体(24),其设置在透光性构件(22)的内侧表面。

    光学薄膜的制造方法以及模具

    公开(公告)号:CN108780162B

    公开(公告)日:2019-09-03

    申请号:CN201780014466.9

    申请日:2017-03-16

    Abstract: 本发明能够提供防污性以及耐磨性优良的光学薄膜的制造方法。本发明的光学薄膜的制造方法,包括:涂布下层树脂以及上层树脂的工序(1);在已涂布的所述下层树脂以及所述上层树脂被层叠的状态下,从所述上层树脂侧将模具推压至所述下层树脂以及所述上层树脂,形成在表面具有所述凹凸构造的树脂层的工序(2);使所述树脂层硬化的工序(3),所述上层树脂包括含氟单体,所述模具的表面涂布有脱模剂,在涂布了所述脱模剂的所述模具的表面通过θ/2法测量的十六烷的接触角与通过X射线光电子能谱法测量的氟原子数相对于碳原子数、铝原子数、氧原子数以及氟原子数的总数的比例在规定范围内。

    光学构件的制造方法和光学构件

    公开(公告)号:CN109073786A

    公开(公告)日:2018-12-21

    申请号:CN201780025907.5

    申请日:2017-03-06

    Abstract: 本发明提供基材与聚合物层之间的紧贴性、防污性以及耐擦性优异的光学构件的制造方法。本发明的光学构件的制造方法包括:工序(1),将第一树脂涂敷到基材上;工序(2),将第二树脂涂敷到上述第一树脂和模具中的至少一方上;工序(3),在将上述第一树脂和上述第二树脂夹在中间的状态下,将上述基材按压到上述模具,形成在表面具有凹凸结构的树脂层;以及工序(4),使上述树脂层固化,形成聚合物层,上述模具的表面是用氟系脱模剂实施过脱模处理的,上述第一树脂包括树脂成分,上述树脂成分以规定的比例含有(甲基)丙烯酰胺类和6官能以上的氨基甲酸酯预聚物,上述第二树脂以规定的比例含有具有反应性基团的单体、氟系界面活性剂以及含氟单体。

    阳极氧化膜的制造方法
    10.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103154329B

    公开(公告)日:2015-09-16

    申请号:CN201180048346.3

    申请日:2011-10-06

    Inventor: 林秀和

    Abstract: 本发明的阳极氧化膜的制造方法包含:工序(a),准备层叠结构体(10),层叠结构体(10)具备:基材(12);牺牲层(16),其形成于基材(12)上,含有铝;以及铝层(18),其形成于牺牲层(16)的表面;工序(b),对铝层(18)部分地进行阳极氧化,由此形成具有多个微细的凹部(22a)的多孔氧化铝层(20a);以及工序(c),在工序(b)后将多孔氧化铝层(20a)从层叠结构体分离。根据本发明,能比以往更简便地制造具有多孔氧化铝层的自我支撑型的阳极氧化膜。

Patent Agency Ranking