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公开(公告)号:CN1293015C
公开(公告)日:2007-01-03
申请号:CN200510075767.1
申请日:2004-04-14
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: C04B35/01 , C04B35/622 , C03B32/02
Abstract: 一种高温结构陶瓷材料SiBONC的制备方法,涉及一种陶瓷材料的制备工艺。本发明按照下述步骤进行制备:a、将四氯化硅与苯甲醛混合后在紫外灯照射下反应得到硅氧聚合物;b、向硅氧聚合物中加入烷基胺,得到Si-O-N有机聚合物;c、向Si-O-N有机聚合物中通入硼化物,得到Si-B-O-N-C有机聚合物;d、在管式气氛保护炉中,对Si-B-O-N-C有机聚合物进行裂解得到Si-B-O-N-C粉末;e、将所制备的Si-B-O-N-C粉末在真空/气氛热压中烧结得到致密的Si-B-O-N-C陶瓷。本发明制备的Si-B-O-N-C陶瓷具有工艺简单、制备成本低的优点。
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公开(公告)号:CN1255353C
公开(公告)日:2006-05-10
申请号:CN200410013682.6
申请日:2004-04-14
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: C04B35/01 , C04B35/622 , C04B35/64
Abstract: 一种高温结构陶瓷材料SiBONC,它涉及一种陶瓷材料。本发明中涉及到的材料是由Si、B、O、N、C组成的非晶与微晶陶瓷,其中Si、B、O、N、C的摩尔比为(1~6)∶1∶(2~8)∶(1~2)∶(0.2~0.5)。本发明制备得到Si-B-O-N-C材料特征为:陶瓷粉末为粒径20~200nm的球型非晶态纳米粉末;Si-B-O-N-C陶瓷制品的抗弯强度为60~300MPa;断裂韧性为1.4~3.0MPa/m1/2、密度为2.0~2.5g/cm3,该陶瓷制品在1000~1800℃的温度下仍能保持非晶态,在1000℃时的高温力学性能损失率仅为10%~50%,而且抗蠕变温度提高到1500~1800℃。
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公开(公告)号:CN1721364A
公开(公告)日:2006-01-18
申请号:CN200510075767.1
申请日:2004-04-14
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: C04B35/01 , C04B35/622 , C03B32/02
Abstract: 一种高温结构陶瓷材料SiBONC的制备方法,涉及一种陶瓷材料的制备工艺。本发明按照下述步骤进行制备:a.将四氯化硅与苯甲醛混合后在紫外灯照射下反应得到硅氧聚合物;b.向硅氧聚合物中加入烷基胺,得到Si-O-N有机聚合物;c.向Si-O-N有机聚合物中通入硼化物,得到Si-B-O-N-C有机聚合物;d.在管式气氛保护炉中,对Si-B-O-N-C有机聚合物进行裂解得到Si-B-O-N-C粉末;e.将所制备的Si-B-O-N-C粉末在真空/气氛热压中烧结得到致密的Si-B-O-N-C陶瓷。本发明制备的Si-B-O-N-C陶瓷具有工艺简单、制备成本低的优点。
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公开(公告)号:CN1562866A
公开(公告)日:2005-01-12
申请号:CN200410013682.6
申请日:2004-04-14
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: C04B35/01 , C04B35/622 , C04B35/64
Abstract: 一种高温结构陶瓷材料SiBONC及其制备方法,涉及一种陶瓷材料及其制备工艺。本发明中涉及到的材料是由Si、B、O、N、C组成的非晶与微晶陶瓷,其中Si、B、O、N、C的摩尔比为(1~6)∶1∶(2~8)∶(1~2)∶(0.2~0.5)。它按照下述步骤进行制备:a.将四氯化硅与苯甲醛混合后在紫外灯照射下反应得到硅氧聚合物;b.向硅氧聚合物中加入烷基胺,得到Si-O-N有机聚合物;c.向Si-O-N有机聚合物中通入硼化物,得到Si-B-O-N-C有机聚合物;d.在管式气氛保护炉中,对Si-B-O-N-C有机聚合物进行裂解得到Si-B-O-N-C粉末:e.将所制备的Si-B-O-N-C粉末在真空/气氛热压中烧结得到致密的Si-B-O-N-C陶瓷。本发明制备的Si-B-O-N-C陶瓷具有工艺简单、制备成本低的优点。
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