公开(公告)号：CN109295451B

公开(公告)日：2021-04-09

申请号：CN201811189778.6

申请日：2018-10-12

Applicant: 哈尔滨工业大学

Inventor： 王琮 ,  强天 ,  梁峻阁 ,  姚钊 ,  刘成才 ,  白冰

IPC: C23C24/04

Abstract: 等离子体辅助气溶胶沉积成膜方法及气溶胶沉积装置，本发明要解决现有技术高音速原始颗粒对基板碰撞而产生锚合层的局限性，增大沉积膜与基板接触表面的粗糙度的问题。成膜方法：原料气体在气溶胶生成室内与原始颗粒充分混合形成气溶胶，气溶胶通过连接管路经过分子筛过滤器输送到电晕放电器中，电晕放电器内气溶胶粒子与等离子体结合而带正电，沉积室中设置有带负电的基板，气溶胶通过喷嘴以亚音速碰撞在基板的表面实现沉积。本发明气溶胶沉积装置中连接管路的一端与气溶胶生成室相连通，连接管路的另一端与喷嘴相连，喷嘴位于沉积室中，在连接管路上依次设置有分子筛过滤器和电晕放电器。本发明有效改善了沉积膜界面和表面的粗糙度。

公开(公告)号：CN109295451A

公开(公告)日：2019-02-01

申请号：CN201811189778.6

申请日：2018-10-12

Applicant: 哈尔滨工业大学

Inventor： 王琮 ,  强天 ,  梁峻阁 ,  姚钊

IPC: C23C24/04

Abstract: 等离子体辅助气溶胶沉积成膜方法及气溶胶沉积装置，本发明要解决现有技术高音速原始颗粒对基板碰撞而产生锚合层的局限性，增大沉积膜与基板接触表面的粗糙度的问题。成膜方法：原料气体在气溶胶生成室内与原始颗粒充分混合形成气溶胶，气溶胶通过连接管路经过分子筛过滤器输送到电晕放电器中，电晕放电器内气溶胶粒子与等离子体结合而带正电，沉积室中设置有带负电的基板，气溶胶通过喷嘴以亚音速碰撞在基板的表面实现沉积。本发明气溶胶沉积装置中连接管路的一端与气溶胶生成室相连通，连接管路的另一端与喷嘴相连，喷嘴位于沉积室中，在连接管路上依次设置有分子筛过滤器和电晕放电器。本发明有效改善了沉积膜界面和表面的粗糙度。