深亚微米X射线光刻装置
    3.
    实用新型

    公开(公告)号:CN2236665Y

    公开(公告)日:1996-10-02

    申请号:CN96203533.5

    申请日:1996-02-17

    Abstract: 一种用于微电子器件制造的深亚微米X射线光刻装置包括一个脉冲等离子体软X射线源、一个台上有掩模和样片的光刻工作台、真空设备、相关电源及控制系统等,其特点在于:在软X光源和光刻工作台之间加一整体准平行束软X光透镜,该透镜为一个单一的、没有支撑部件的多孔玻璃固体,内有多个从所述固体一端贯通到另一端的X光导孔,且该玻璃固体由X光导孔壁自身熔合而成。本实用新型具有X射线利用率高、光刻离位失真和半影模糊小的优点。

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