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公开(公告)号：CN118489086A
公开(公告)日：2024-08-13
申请号：CN202280086771.X
申请日：2022-10-31
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明的目的在于提供一种防尘薄膜组件框架及使用所述防尘薄膜组件框架的防尘薄膜组件，能够防止在制作框架的加工时残存于框架上的灰尘、异物的排出、生成，并且也能够抑制在移动时、保管时、使用时等新形成的灰尘、异物的产生，另外，即使在灰尘、异物附着于框架的情况下，也能够容易地将其洗掉等。本发明提供一种防尘薄膜组件框架以及具有所述防尘薄膜组件框架的防尘薄膜组件，所述防尘薄膜组件框架具有：框架母材，包含Ti或Ti合金；以及金属层，层叠于所述框架母材的表面，且所述防尘薄膜组件框架中，所述金属层包含一层或多层，所述防尘薄膜组件框架的表面具有所述金属层的最表面层，当根据JIS B0601，使用激光显微镜以1200倍的倍率对所述最表面层的表面进行测定时，至少在内侧面具有算术平均表面粗糙度Ra为0.10μm以下的区域。
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公开(公告)号：CN118140178A
公开(公告)日：2024-06-04
申请号：CN202280071247.5
申请日：2022-08-23
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G03F1/62
Abstract: [问题]为了应对特别是在EUV曝光中所要求的严苛的使用条件，而实现与贯通防护膜框架而设置的通气口贴靠的过滤器的高性能化。[解决方案]本发明的防护膜包括：防护膜框架；极薄的防护膜片，设置于所述防护膜框架的上端面；通气口，设置于所述防护膜框架；以及过滤器，堵塞所述通气口，所述过滤器包含片材以及支撑体，所述片材的一部分或全部包含纳米纤维或碳纳米管中的至少一者，所述支撑体具有支撑所述片材的开口部。
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公开(公告)号：CN111258179B
公开(公告)日：2023-01-24
申请号：CN201911218263.9
申请日：2019-12-03
Applicant: 信越化学工业株式会社
Inventor： 簗瀬优
Abstract: 本发明的目的在于提供一种防尘薄膜组件，能够尽可能地减少从防尘薄膜组件整体产生的释放气体，可防止该释放气体成分吸附于曝光装置内的反射镜或掩膜的表面而使反射率降低的情形、释放气体成分吸附于装置内壁面而产生污染的情形。本发明的防尘薄膜组件，其在23℃、1×10‑3Pa以下的环境气体下搁置10分钟后，该防尘薄膜组件的真空时气体释出量为：就水系气体而言，每1个防尘薄膜组件的水系气体释出量为1×10‑3Pa·L/s以下；就测定质量数的范围为45～100amu的烃系气体而言，每1个防尘薄膜组件的烃系气体释出量为1×10‑5Pa·L/s以下，就测定质量数的范围为101～200amu的烃系气体而言，每1个防尘薄膜组件的烃系气体释出量为4×10‑7Pa·L/s以下。
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公开(公告)号：CN115023651A
公开(公告)日：2022-09-06
申请号：CN202180011703.2
申请日：2021-02-02
Applicant: 信越化学工业株式会社
Inventor： 簗瀬优
IPC: G03F1/64
Abstract: 本发明提供一种防护薄膜框架、防护薄膜组件、带防护薄膜组件的曝光原版及曝光方法、以及半导体装置或液晶显示板的制造方法，所述防护薄膜框架为具有设置防护膜的上端面以及面向光掩模的下端面的框状的防护薄膜框架，其特征在于：在所述防护薄膜框架的内侧面具有粗糙度曲线的峭度(Rku)为3.0以下的区域。本发明可提供一种防止源自框架的散射光、且附着于框架表面的异物检查容易的防护薄膜框架及使用所述防护薄膜框架的防护薄膜组件。
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公开(公告)号：CN111324005A
公开(公告)日：2020-06-23
申请号：CN201911292602.8
申请日：2019-12-16
Applicant: 信越化学工业株式会社
Inventor： 簗瀬优
IPC: G03F1/62
Abstract: 本发明涉及光蚀刻用防尘薄膜及具备该防尘薄膜的防尘薄膜组件。本发明的目的是提供即使不设支撑框亦具有足够的强度的防尘薄膜及具备该防尘薄膜的防尘薄膜组件。本发明是一种光蚀刻用防尘薄膜及一种光蚀刻用防尘薄膜组件，该光蚀刻用防尘薄膜是张设于防尘薄膜框架的一端面的防尘薄膜，由主层、及该主层的单面或两面具有的石墨烯构成，该光蚀刻用防尘薄膜组件由防尘薄膜及防尘薄膜框架构成，且该防尘薄膜通过接着剂或粘着剂设于该防尘薄膜框架的上端面，该防尘薄膜由主层、及该主层的单面或两面具有的石墨烯构成。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117980819A
公开(公告)日：2024-05-03
申请号：CN202280063585.4
申请日：2022-08-03
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: [课题]为了应对特别是在EUV曝光中所要求的最大容许异物尺寸的降低以及供防护膜片暴露的严酷的气压的变动，而实现与贯通防护膜框架而设置的通气孔贴靠的过滤器的高性能化。[解决手段]本发明的防护膜包括：防护膜框架3；防护膜片1，设置于所述防护膜框架的上端面；通气孔6，设置于所述防护膜框架；以及过滤器7，堵塞所述通气孔，所述过滤器的一部分或全部具有纳米纤维或碳纳米管中的至少一者所构成的不织布。
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公开(公告)号：CN115698852A
公开(公告)日：2023-02-03
申请号：CN202180037028.0
申请日：2021-05-20
Applicant: 信越化学工业株式会社
Inventor： 簗瀬优
Abstract: 本发明提供一种防护薄膜框架1，其为框状的防护薄膜框架1，其特征在于包括防护薄膜框架本体1a、及被覆所述防护薄膜框架本体的绝缘层1b；以及提供一种防护薄膜，其包括所述防护薄膜框架1、及经由粘着剂或接着剂而设置于所述防护薄膜框架的上端面13的防护薄膜膜片；且提供一种带防护薄膜的曝光原版、曝光方法、半导体的制造方法及液晶显示板的制造方法。所述防护薄膜框架减少附着于其表面的异物落下。
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公开(公告)号：CN115668055A
公开(公告)日：2023-01-31
申请号：CN202180036072.X
申请日：2021-05-27
Applicant: 信越化学工业株式会社
Inventor： 簗瀬优
IPC: G03F1/64
Abstract: 本发明提供一种防护薄膜框架(1)，其为具有设置防护薄膜膜片的上端面(13)及面向光掩模的下端面(14)的框状的防护薄膜框架(1)，其中，所述防护薄膜框架(1)为金属制，并且自外侧面朝向内侧面设置开放上端面(13)或下端面(14)的切口部(20)，每1mm3体积的防护薄膜的内空间中，内侧面的通气面积的合计为0.001mm2以上，且提供一种防护薄膜、带防护薄膜的曝光原版、曝光方法、半导体的制造方法及液晶显示板的制造方法。本发明可提供一种防护薄膜框架，其在真空下进行EUV曝光时，耐受自大气压到真空的压力变化而不会产生防护薄膜膜片的破损，框架的加工性良好且在剥离防护薄膜时框架不会破损。
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公开(公告)号：CN117203584A
公开(公告)日：2023-12-08
申请号：CN202280027786.9
申请日：2022-04-12
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G03F1/64
Abstract: 本发明提供一种防护膜框架层叠体10，其特征在于，在具有上端面及下端面的防护膜框架1的所述上端面1a具有第一粘接剂层11，以第一保护片21覆盖所述第一粘接剂层，并且在所述下端面1b具有第二粘接剂层12，以第二保护片22覆盖所述第二粘接剂层；以及一种防护膜的制造系统，将所述防护膜框架层叠体10的所述第一保护片21剥下，在露出的所述第一粘接剂层11设置另行准备的防护薄膜。根据本发明，通过使用在防护膜框架的上端面及下端面两者形成粘接剂层、且两者均由保护片保护的防护膜框架，即便在无法涂布防护薄膜用粘接剂的场所也可实现防护膜的组装。
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公开(公告)号：CN115485618A
公开(公告)日：2022-12-16
申请号：CN202180032763.2
申请日：2021-05-12
Applicant: 信越化学工业株式会社
Inventor： 簗瀬优
IPC: G03F1/64
Abstract: 本发明提供一种防护薄膜框架，其为EUV曝光用的防护薄膜框架，其特征在于在所述防护薄膜框架至少设置一个通气部，且在所述通气部内安装具有被树脂被覆的多孔质膜的过滤器；提供一种防护薄膜，其特征在于在所述防护薄膜框架张设防护薄膜膜片；提供一种带防护薄膜的曝光原版，其为EUV曝光用的带防护薄膜的曝光原版，其特征在于在曝光原版装设有所述防护薄膜；且提供一种半导体的制造方法、液晶显示板的制造方法及曝光方法。本发明的防护薄膜框架在EUV曝光中对氢自由基充分具有耐性。
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