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公开(公告)号：CN101986205A
公开(公告)日：2011-03-16
申请号：CN201010232817.3
申请日：2010-07-16
Applicant: 信越化学工业株式会社
Inventor： 白崎享
IPC: G03F1/14
CPC classification number: G03F1/64
Abstract: 本发明的目的在于提供一种光刻用防尘薄膜组件，即使将该防尘薄膜组件贴合于曝光原版上，也能够尽可能降低因为该防尘薄膜组件框架的变形所导致的曝光原版的变形。为了达成上述目的，本发明提供一种光刻用防尘薄膜组件，其特征为：在防尘薄膜组件框架的一端面上设置防尘薄膜，在另一端面上设置粘合层，该粘合层的气泡的容量含有率为10～90％，且该粘合层所含有的气泡的数量平均直径宜为10～200μm。
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公开(公告)号：CN101581875A
公开(公告)日：2009-11-18
申请号：CN200910138592.2
申请日：2009-05-12
Applicant: 信越化学工业株式会社
Inventor： 白崎享
IPC: G03F1/14
Abstract: 本发明的目的在于提供一种防护薄膜组件框架，其不含有会产生累积性异物的因子。为达成上述目的，本发明的防护薄膜组件框架仅实施过成型加工，或是在成型加工之后仅实施过研磨加工，且是使用未着色的铝或是铝合金所制成的。
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公开(公告)号：CN101349874A
公开(公告)日：2009-01-21
申请号：CN200810129296.1
申请日：2008-06-30
Applicant: 信越化学工业株式会社
Inventor： 白崎享
Abstract: 本发明的目的在于提供一种优异的防护薄膜框架，其可藉由提高防护薄膜框架的平坦度，以减少框架变形，从而减少防护薄膜组件黏贴时光罩的变形。为达成上述目的，在半导体光刻使用的防护薄膜组件中，本发明的防护薄膜框架的剖面积在6mm2以下，又，防护薄膜框架的材料使用杨氏模量在50GPa以下的材料。
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公开(公告)号：CN106019818A
公开(公告)日：2016-10-12
申请号：CN201610169089.3
申请日：2016-03-23
Applicant: 信越化学工业株式会社
Inventor： 白崎享
Abstract: 本发明的目的为提供一种通气孔开口部以及过滤器的大小由于防尘薄膜组件的高度而被限制，但是即使在防尘薄膜组件的高度被限制为低的场合，也会使过滤器的有效面积充分大，防尘薄膜组件封闭空间的内外的压力差得以很快地缓和的防尘薄膜组件。本发明防尘薄膜组件具有防尘薄膜组件框架21，所述防尘薄膜组件框架21上设置的使防尘薄膜组件封闭空间的内外通气的通气孔25以及在所述通气孔25内设置的至少将该通气孔的一部分塞住的过滤器22，其特征在于：所述通气孔25的在防尘薄膜组件封闭空间内侧的开口部以及防尘薄膜组件封闭空间外侧的开口部的至少任一方为向着防尘薄膜组件上部或者防尘薄膜组件下部设置。再者，本发明的过滤器优选使向着防尘薄膜组件上部或者防尘薄膜组件下部设置的通气孔25的开口部被塞住。
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公开(公告)号：CN102096322B
公开(公告)日：2014-03-12
申请号：CN201010569594.X
申请日：2010-12-02
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G03F7/09 , C09J7/02 , C09J127/12 , C09J171/00
CPC classification number: G03F1/64
Abstract: 平版印刷胶片包括胶片膜(1)，胶片框(3)和PSA层(4)。胶片膜(1)横跨在胶片框(3)上拉伸并在其顶端处安装到胶片框(3)上。PSA层(4)置于框(3)的底端且能固定框(3)到基底(5)上。由含具有全氟结构主链的全氟化合物的可固化组合物制成的内部PSA层(8)置于框(3)的内壁上。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101930166B
公开(公告)日：2013-05-08
申请号：CN201010214029.1
申请日：2010-06-24
Applicant: 信越化学工业株式会社 , 英特尔公司
IPC: G03F1/64
CPC classification number: G03F1/64
Abstract: 本发明的目的在于提供一种防护膜框架，即使在将防护膜贴合于曝光底版上，仍可极力减轻因防护膜框架的变形所引起的曝光底版的变形；还提供一种具有此种防护膜框架的光刻用防护膜。本发明的防护膜框架的特征在于，防护膜框架杆的剖面，是在上边与下边平行且面积为20mm2以下的四边形的至少一侧边具有至少一个三角形的凹陷部的形状。另外，本发明的光刻用防护膜，其特征在于，借助防护胶膜粘接剂将防护胶膜贴设于该防护膜框架的一端面，且在另一端面设置曝光底版粘接剂。
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公开(公告)号：CN101349873B
公开(公告)日：2011-05-04
申请号：CN200810125314.9
申请日：2008-06-18
Applicant: 信越化学工业株式会社
Inventor： 白崎享
CPC classification number: G03F1/64
Abstract: 本发明提供一种光刻用防护薄膜组件，其目的在于达到即使在掩模上粘贴防护薄膜组件，掩模也不会产生应变的效果。在本发明的光刻用防护薄膜组件中，用来将防护薄膜组件粘贴于掩模上的掩模黏着剂具有平坦面，且该面的平坦度在15μm以下。
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公开(公告)号：CN101930165A
公开(公告)日：2010-12-29
申请号：CN201010214013.0
申请日：2010-06-24
Applicant: 信越化学工业株式会社 , 英特尔公司
IPC: G03F1/14
CPC classification number: G03F1/64
Abstract: 本发明的目的在于提供一种防护膜框架，即使在将防护膜贴合于曝光底版上，仍可极力减轻因防护膜框架的变形所引起的曝光底版的变形；还提供一种具有此种防护膜框架的光刻用防护膜。本发明的防护膜框架，其特征在于，防护膜框架杆的剖面，是在上边与下边平行的基本四边形的两侧边具有四边形形状的凹陷部的形状。另外，本发明的光刻用防护膜，其特征在于，借助防护胶膜粘接剂将防护胶膜贴设于该防护膜框架的一端面，且在另一端面设置曝光底版粘接剂。
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公开(公告)号：CN106019818B
公开(公告)日：2019-12-03
申请号：CN201610169089.3
申请日：2016-03-23
Applicant: 信越化学工业株式会社
Inventor： 白崎享
Abstract: 本发明的目的为提供一种通气孔开口部以及过滤器的大小由于防尘薄膜组件的高度而被限制，但是即使在防尘薄膜组件的高度被限制为低的场合，也会使过滤器的有效面积充分大，防尘薄膜组件封闭空间的内外的压力差得以很快地缓和的防尘薄膜组件。本发明防尘薄膜组件具有防尘薄膜组件框架21，所述防尘薄膜组件框架21上设置的使防尘薄膜组件封闭空间的内外通气的通气孔25以及在所述通气孔25内设置的至少将该通气孔的一部分塞住的过滤器22，其特征在于：所述通气孔25的在防尘薄膜组件封闭空间内侧的开口部以及防尘薄膜组件封闭空间外侧的开口部的至少任一方为向着防尘薄膜组件上部或者防尘薄膜组件下部设置。再者，本发明的过滤器优选使向着防尘薄膜组件上部或者防尘薄膜组件下部设置的通气孔25的开口部被塞住。
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公开(公告)号：CN102466964A
公开(公告)日：2012-05-23
申请号：CN201110365311.4
申请日：2011-11-17
Applicant: 信越化学工业株式会社
Inventor： 白崎享
Abstract: 本发明提供一种光刻技术用防尘薄膜组件，将其贴附于光掩模上，很少会使光掩模发生变形。本发明的防尘薄膜组件的特征在于：在防尘薄膜组件框架的一个端面，借助粘合剂层綳贴有防尘薄膜，而在防尘薄膜组件框架的另一端面设有粘着剂层，该粘着剂层的光掩模贴附面为平坦面，并且粘着剂层的粘着力在1N/m至100N/m的范围之内。优选让前述粘着剂层的光掩模贴附表面的平坦度为15μm以下，让贴附有防尘薄膜的前述粘合剂层表面的平坦度为15μm以下。
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