成膜用材料、成膜用浆料、喷涂被膜和喷涂构件

    公开(公告)号:CN116867924A

    公开(公告)日:2023-10-10

    申请号:CN202180092120.7

    申请日:2021-12-22

    Abstract: 使用成膜用材料形成被膜,该成膜用材料含有包含稀土元素氟化物的晶相的粒子、包含稀土元素氧化物的晶相的粒子和包含稀土元素氟化铵复盐的晶相的粒子的成膜用材料,或者该成膜用材料含有包含稀土元素氟化物的晶相的粒子和包含稀土元素氧化物的晶相和稀土元素氟化铵复盐的晶相的粒子。就本发明的成膜用材料或成膜用浆料而言,特别是如果使用成膜用材料或成膜用浆料采用喷涂来形成喷涂被膜,则能够不需要过剩的热量地形成稀土元素氧氟化物喷涂被膜,因此即使在大气下也抑制喷涂热引起的氧化反应的进行,同时得到稀土元素氟化物和稀土元素氧化物少的稀土元素氧氟化物喷涂被膜,另外,能够抑制过剩的热量导致的被膜剥离。

    喷涂涂层、制造喷涂涂层的方法、喷涂的部件及喷涂材料

    公开(公告)号:CN110835720B

    公开(公告)日:2023-07-14

    申请号:CN201910748398.X

    申请日:2019-08-14

    Abstract: 本发明涉及一种喷涂涂层、制造喷涂涂层的方法、喷涂的部件及喷涂材料。具体涉及一种具有多层结构的喷涂涂层,其包含下层和表层,所述下层由含有稀土氧化物的喷涂涂层制成,所述表层由含有稀土氟化物和/或稀土氟氧化物的另外喷涂涂层制成,该多层的喷涂涂层具有23℃下的体积电阻率和200℃下的体积电阻率,23℃下的体积电阻率为1×109Ω·cm至1×1012Ω·cm,由200℃下的体积电阻率与23℃下的体积电阻率之比限定的体积电阻率的温度指数为0.1至10。

    喷涂涂层、制造喷涂涂层的方法、喷涂的部件及喷涂材料

    公开(公告)号:CN116445844A

    公开(公告)日:2023-07-18

    申请号:CN202310423299.0

    申请日:2019-08-14

    Abstract: 本发明涉及一种喷涂涂层、制造喷涂涂层的方法、喷涂的部件及喷涂材料。具体涉及一种具有多层结构的喷涂涂层,其包含下层和表层,所述下层由含有稀土氧化物的喷涂涂层制成,所述表层由含有稀土氟化物和/或稀土氟氧化物的另外喷涂涂层制成,该多层的喷涂涂层具有23℃下的体积电阻率和200℃下的体积电阻率,23℃下的体积电阻率为1×109Ω·cm至1×1012Ω·cm,由200℃下的体积电阻率与23℃下的体积电阻率之比限定的体积电阻率的温度指数为0.1至10。

    喷涂涂层、制造喷涂涂层的方法、喷涂的部件及喷涂材料

    公开(公告)号:CN113699476A

    公开(公告)日:2021-11-26

    申请号:CN202111009100.7

    申请日:2019-08-14

    Abstract: 本发明涉及一种喷涂涂层、制造喷涂涂层的方法、喷涂的部件及喷涂材料。具体涉及一种具有多层结构的喷涂涂层,其包含下层和表层,所述下层由含有稀土氧化物的喷涂涂层制成,所述表层由含有稀土氟化物和/或稀土氟氧化物的另外喷涂涂层制成,该多层的喷涂涂层具有23℃下的体积电阻率和200℃下的体积电阻率,23℃下的体积电阻率为1×109Ω·cm至1×1012Ω·cm,由200℃下的体积电阻率与23℃下的体积电阻率之比限定的体积电阻率的温度指数为0.1至10。

    氟化钇系喷涂被膜、喷涂构件及氟化钇系喷涂被膜的制造方法

    公开(公告)号:CN114829667A

    公开(公告)日:2022-07-29

    申请号:CN202080088163.3

    申请日:2020-12-09

    Abstract: 通过对包含斜方晶系的YF3晶相、不含斜方晶系以外的YF3晶相的喷涂粉进行等离子体喷涂,制造包含斜方晶系的YF3晶相、不含斜方晶系以外的YF3晶相、维氏硬度为350以上的氟化钇系喷涂被膜。能够提供被膜硬度高、暴露于卤素系气体等离子体时产生的粒子量少的氟化钇系喷涂被膜,这样的喷涂被膜作为半导体制造工序中使用的半导体制造装置用构件中所形成的喷涂被膜优异。另外,根据本发明,能够高效率地制造这样的氟化钇系喷涂被膜。

    喷涂材料及制备方法、喷涂浆料、喷涂涂层及形成方法、和喷涂构件

    公开(公告)号:CN111826601A

    公开(公告)日:2020-10-27

    申请号:CN202010277350.8

    申请日:2020-04-10

    Abstract: 本发明提供喷涂材料及制备方法、喷涂浆料、喷涂涂层及形成方法、和喷涂构件。包含稀土(R)、铝和氧的喷涂材料,该喷涂材料为粉末且包含单斜稀土(R)铝(R4Al2O9)结晶相和稀土氧化物(R2O3)结晶相,关于通过X射线衍射法使用Cu–Kα的特征X射线在10°至70°的衍射角2θ范围之内检测的衍射峰,该喷涂材料具有归属于稀土氧化物(R2O3)的衍射峰和归属于单斜稀土(R)铝(R4Al2O9)的衍射峰,归属于稀土氧化物(R2O3)的最大衍射峰的积分强度I(R)与归属于单斜稀土铝(R4Al2O9)的最大衍射峰的积分强度I(RAL)的强度比例I(R)/I(RAL)为至少1。

    喷涂涂层、制造喷涂涂层的方法、喷涂的部件及喷涂材料

    公开(公告)号:CN113699477A

    公开(公告)日:2021-11-26

    申请号:CN202111009097.9

    申请日:2019-08-14

    Abstract: 本发明涉及一种喷涂涂层、制造喷涂涂层的方法、喷涂的部件及喷涂材料。具体涉及一种具有多层结构的喷涂涂层,其包含下层和表层,所述下层由含有稀土氧化物的喷涂涂层制成,所述表层由含有稀土氟化物和/或稀土氟氧化物的另外喷涂涂层制成,该多层的喷涂涂层具有23℃下的体积电阻率和200℃下的体积电阻率,23℃下的体积电阻率为1×109Ω·cm至1×1012Ω·cm,由200℃下的体积电阻率与23℃下的体积电阻率之比限定的体积电阻率的温度指数为0.1至10。

Patent Agency Ranking