公开(公告)号：CN118818898A

公开(公告)日：2024-10-22

申请号：CN202410472528.2

申请日：2024-04-19

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 山本靖之 ,  今多智大 ,  郡大佑

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/16

Abstract: 提供有机膜形成用组合物、有机膜形成方法和图案形成方法。[课题]提供基板(晶圆)上的成膜性(面内均匀性)和填埋特性优异且抑制了EBR工序时的隆起的有机膜形成用组合物、使用了该组合物的有机膜形成方法和图案形成方法。[解决手段]一种有机膜形成用组合物，其特征在于，其包含有机膜形成用树脂、聚合物和溶剂，所述聚合物包含下述通式(I)所示的结构单元，且包含下述通式(II)所示的结构单元和下述通式(III)所示的结构单元之中的至少一者，前述下述通式(I)所示的结构单元与下述通式(II)所示的结构单元和下述通式(III)所示的结构单元之中的至少一者形成无规共聚物，前述聚合物的氟含有率为5质量％～16质量％。#imgabs0#

公开(公告)号：CN119335814A

公开(公告)日：2025-01-21

申请号：CN202410957522.4

申请日：2024-07-17

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 畠山润 ,  山本靖之 ,  今多智大

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明涉及光学光刻用涂布材料、抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题是提供包含不具有全氟烷基结构的表面活性剂的光学光刻用涂布材料、涂布后膜的平坦性优良，不仅涂布后连显影后的缺陷产生亦少的抗蚀剂材料、及使用其的图案形成方法。本发明的解决手段是一种光学光刻用涂布材料，包含0.0001～3质量％由具有经氟原子取代的芳香族基、三氟甲氧基、二氟甲氧基、三氟甲硫基或二氟甲硫基的树脂构成的表面活性剂。

公开(公告)号：CN119165728A

公开(公告)日：2024-12-20

申请号：CN202410781636.8

申请日：2024-06-18

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 郡大佑 ,  山本靖之 ,  今多智大

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/00 ,  G03F7/11

Abstract: 本发明涉及有机膜形成用组成物、有机膜形成方法、及图案形成方法。本发明的课题为提供基板(晶圆)上的成膜性(面内均匀性)及填埋特性优良且抑制了EBR步骤时的隆起的有机膜形成用组成物、使用了该组成物的有机膜形成方法及图案形成方法。解决该课题的手段为一种有机膜形成用组成物，其特征为包含：(A)具有下列通式(1)表示的重复单元的聚合物，(B)有机膜形成用树脂，及(C)溶剂。[化1]#imgabs0#通式(1)中，R为碳数2～30的饱和或不饱和的2价有机基团。