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公开(公告)号：CN108369331B
公开(公告)日：2020-09-29
申请号：CN201680072642.X
申请日：2016-12-07
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 一种显微镜系统，包括：观察光学系统，其包括物镜；摄像单元，用于拍摄所述观察光学系统所获得的观察对象的图像；以及台，其能够沿X轴方向、Y轴方向和Z轴方向移动，其中在所述台上放置所述观察对象的载玻片。所述显微镜系统获得由X轴方向、Y轴方向和Z轴方向所限定的位置信息，并且将所获得的位置信息和通过所述摄像单元拍摄所述观察对象而获得的所述观察对象的图像彼此相关联地存储在存储器中。
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公开(公告)号：CN108369331A
公开(公告)日：2018-08-03
申请号：CN201680072642.X
申请日：2016-12-07
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 一种显微镜系统，包括：观察光学系统，其包括物镜；摄像单元，用于拍摄所述观察光学系统所获得的观察对象的图像；以及台，其能够沿X轴方向、Y轴方向和Z轴方向移动，其中在所述台上放置所述观察对象的载玻片。所述显微镜系统获得由X轴方向、Y轴方向和Z轴方向所限定的位置信息，并且将所获得的位置信息和通过所述摄像单元拍摄所述观察对象而获得的所述观察对象的图像彼此相关联地存储在存储器中。
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公开(公告)号：CN104427447B
公开(公告)日：2018-07-20
申请号：CN201410418443.2
申请日：2014-08-22
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: A61B8/4494 , A61B5/0095 , B06B1/0292 , B81B2201/0271 , B81C1/00182 , H02N1/08
Abstract: 本发明涉及电容变换器及其制造方法。提供一种具有振动膜被支撑以能够振动的结构的电容变换器的制造方法。所述方法包括：在第一电极上形成牺牲层；在牺牲层上形成形成振动膜的至少一部分的层；去除牺牲层，包含形成与牺牲层连通的蚀刻孔；形成用于密封蚀刻孔的密封层；以及，蚀刻密封层的至少一部分。在形成密封层之前，在形成振动膜的至少一部分的层上形成蚀刻停止层。在蚀刻密封层的至少一部分的步骤中，去除密封层，直到到达蚀刻停止层。
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公开(公告)号：CN104427447A
公开(公告)日：2015-03-18
申请号：CN201410418443.2
申请日：2014-08-22
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: A61B8/4494 , A61B5/0095 , B06B1/0292 , B81B2201/0271 , B81C1/00182 , H02N1/08
Abstract: 本发明涉及电容变换器及其制造方法。提供一种具有振动膜被支撑以能够振动的结构的电容变换器的制造方法。所述方法包括：在第一电极上形成牺牲层；在牺牲层上形成形成振动膜的至少一部分的层；去除牺牲层，包含形成与牺牲层连通的蚀刻孔；形成用于密封蚀刻孔的密封层；以及，蚀刻密封层的至少一部分。在形成密封层之前，在形成振动膜的至少一部分的层上形成蚀刻停止层。在蚀刻密封层的至少一部分的步骤中，去除密封层，直到到达蚀刻停止层。
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