公开(公告)号：CN110408910A

公开(公告)日：2019-11-05

申请号：CN201910759403.7

申请日：2019-08-16

Applicant: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所

Inventor： 李卫民 ,  俞文杰 ,  朱雷 ,  王轶滢

IPC: C23C16/44 ,  C23C16/458

Abstract: 本发明提供一种高通量气相沉积设备及气相沉积方法，高通量气相沉积设备包括：反应腔室；旋转工作台，位于反应腔室内；气体导入装置，位于所述反应腔室内，且位于旋转工作台的上方；气体导入装置将反应腔室分割为上部腔室及下部腔室；气体导入装置上设有若干个通孔；气体隔离结构，位于上部腔室内，且将上部腔室分割为相互隔离的隔离气体腔室及反应气体腔室；隔离气体导入通道，位于反应腔室的腔壁上，且与隔离气体腔室相连通；反应气体导入通道，位于反应腔室的腔壁上，且与反应气体腔室相连通。本发明的高通量气相沉积设备只需要使用一套隔离气体供给系统及一套反应气体隔离系统共两套气体供给系统，结构简单，容易实现，且隔离度好。

公开(公告)号：CN110306160A

公开(公告)日：2019-10-08

申请号：CN201910734707.8

申请日：2019-08-09

Applicant: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所

Inventor： 李卫民 ,  俞文杰 ,  朱雷 ,  王轶滢

IPC: C23C14/34 ,  C23C14/50

Abstract: 本发明提供一种高通量薄膜沉积设备及薄膜沉积方法，高通量薄膜沉积设备包括：反应腔室；工作台，位于反应腔室内；挡板，位于反应腔室内，且位于工作台的上方，与工作台具有间距；挡板上设有沿挡板的厚度方向贯穿的通孔；驱动装置，与工作台及挡板二者中的至少一者相连接；材料源，位于反应腔室内，且位于挡板的上方，与挡板具有间距。本发明的高通量薄膜沉积设备结构简单、水平移动部件少、成本较低；位于工作平台上的衬底可以不水平移动，可以实现对衬底进行加热；易于集成在线测试装置及其他外部装备。

公开(公告)号：CN110408910B

公开(公告)日：2020-08-28

申请号：CN201910759403.7

申请日：2019-08-16

Applicant: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所

Inventor： 李卫民 ,  俞文杰 ,  朱雷 ,  王轶滢

IPC: C23C16/44 ,  C23C16/458

Abstract: 本发明提供一种高通量气相沉积设备及气相沉积方法，高通量气相沉积设备包括：反应腔室；旋转工作台，位于反应腔室内；气体导入装置，位于所述反应腔室内，且位于旋转工作台的上方；气体导入装置将反应腔室分割为上部腔室及下部腔室；气体导入装置上设有若干个通孔；气体隔离结构，位于上部腔室内，且将上部腔室分割为相互隔离的隔离气体腔室及反应气体腔室；隔离气体导入通道，位于反应腔室的腔壁上，且与隔离气体腔室相连通；反应气体导入通道，位于反应腔室的腔壁上，且与反应气体腔室相连通。本发明的高通量气相沉积设备只需要使用一套隔离气体供给系统及一套反应气体隔离系统共两套气体供给系统，结构简单，容易实现，且隔离度好。