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公开(公告)号:CN105960683A
公开(公告)日:2016-09-21
申请号:CN201580007768.4
申请日:2015-02-05
Applicant: 东丽株式会社
Inventor: 田边美晴
CPC classification number: H01B1/22 , C09D5/24 , G03F7/0047 , G03F7/038 , G03F7/0388 , G03F7/20 , G03F7/2024 , G03F7/32 , G03F7/40 , G06F3/041 , G06F2203/04103 , H05K1/092 , H05K3/027 , H05K2201/0218 , H05K2203/0514 , H05K2203/0783
Abstract: [课题]本发明提供导电糊剂,所述导电糊剂不仅可以形成离子迁移现象的发生显著地受到抑制的导电图案,而且成本也低;提供导电糊剂,其含有用银覆盖导电性的核得到的覆银颗粒、和感光性有机化合物,银在所述覆银颗粒中所占的比例为10~45质量%。
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公开(公告)号:CN105793804A
公开(公告)日:2016-07-20
申请号:CN201480067563.0
申请日:2014-12-09
Applicant: 东丽株式会社
IPC: G06F3/041
CPC classification number: G06F3/047 , G03F7/0005 , G03F7/0047 , G03F7/027 , G03F7/038 , G03F7/20 , G03F7/2045 , G03F7/32 , G03F7/40 , G06F3/041 , G06F3/0416 , G06F3/0418 , G06F3/044 , G06F2203/04103
Abstract: 本发明的目的在于,提供形成有微细图案的接触式传感器用构件及其制造方法,所述微细图案作为ITO的替代而发挥功能,不会伴有敏感电极的透视、光反射之类的问题,且抑制了其与导电布线之间的断线、导通不良。本发明提供接触式传感器用构件的制造方法,其具备如下工序:导电涂布膜形成工序:对于被区分成显示区域和装饰区域的基板,在上述显示区域上和上述装饰区域上涂布感光性导电糊剂,从而得到导电涂布膜;以及,导电图案形成工序:对上述显示区域上的上述导电涂布膜和上述装饰区域上的上述导电涂布膜一并进行曝光和显影,进而以100~250℃进行加热或照射氙闪光管的光,从而得到导电图案,上述显示区域上的上述导电图案的线宽为2~6μm,上述装饰区域上的上述导电图案的线宽为7~100μm。
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公开(公告)号:CN102379011A
公开(公告)日:2012-03-14
申请号:CN201080014569.3
申请日:2010-03-03
Applicant: 东丽株式会社
CPC classification number: H01J9/02 , H01B1/16 , H01J11/22 , H01J2211/225
Abstract: 通过制成含有平均粒径为1~4μm的铝粉末30~45重量%、软化点为400~550℃的玻璃粉末5~15重量%、感光性有机成分15~30重量%、和溶剂20~40重量%的感光性导电糊料,来提供可低成本地形成导电性高的电极的感光性导电糊料、和使用该感光性导电糊料得到的显示器。
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公开(公告)号:CN105531626B
公开(公告)日:2020-01-14
申请号:CN201480052061.0
申请日:2014-09-18
Applicant: 东丽株式会社
Abstract: 本发明的目的在于,提供用于形成包含遮光层和导电层的微细层叠图案的感光性遮光糊剂,所述微细层叠图案作为ITO的替代而发挥功能,不会发生敏感电极的透视、光反射之类的问题。本发明提供感光性遮光糊剂,其为含有颜料、感光性有机化合物和热固化性化合物的感光性遮光糊剂,上述颜料占总固体成分的比例为5~50质量%。
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公开(公告)号:CN104685976B
公开(公告)日:2019-05-31
申请号:CN201380051742.0
申请日:2013-09-27
Applicant: 东丽株式会社
CPC classification number: G03F7/20 , G03F7/0043 , G03F7/028 , G03F7/2022 , G06F3/041 , G06F3/047 , G06F2203/04103 , G09G5/003 , G09G2300/0404 , H05K3/1283 , H05K2203/1131
Abstract: 本发明的目的在于提供如下导电图案的制造方法,该方法能够获得导电性良好的导电图案、能够显著提高生产效率而无需伴随高温且长时间的加热处理。本发明提供导电图案的制造方法,其具备如下曝光工序:用具有广谱的光对包含导电性颗粒A和有机化合物B的基板上的膜或图案进行曝光,从而得到导电膜或导电图案。
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公开(公告)号:CN105531626A
公开(公告)日:2016-04-27
申请号:CN201480052061.0
申请日:2014-09-18
Applicant: 东丽株式会社
Abstract: 本发明的目的在于,提供用于形成包含遮光层和导电层的微细层叠图案的感光性遮光糊剂,所述微细层叠图案作为ITO的替代而发挥功能,不会发生敏感电极的透视、光反射之类的问题。本发明提供感光性遮光糊剂,其为含有颜料、感光性有机化合物和热固化性化合物的感光性遮光糊剂,上述颜料占总固体成分的比例为5~50质量%。
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公开(公告)号:CN111665996A
公开(公告)日:2020-09-15
申请号:CN202010609414.X
申请日:2014-12-09
Applicant: 东丽株式会社
Abstract: 本发明涉及接触式传感器用构件的制造方法和接触式传感器用构件。本发明目的是提供形成微细图案的接触式传感器用构件及其制造方法,该微细图案作为ITO的替代发挥功能,不会伴有敏感电极的透视、光反射等的问题,且抑制了与导电布线间的断线、导通不良。本发明提供接触式传感器用构件的制造方法,其具备:导电涂布膜形成工序:对于被区分成显示区域和装饰区域的基板,在显示区域和装饰区域上涂布感光性导电糊剂,得到导电涂布膜;和导电图案形成工序:对显示区域上的导电涂布膜和装饰区域上的导电涂布膜一并曝光和显影,进而以100~250℃加热或照射氙闪光管的光,得到导电图案,显示区域上的导电图案线宽为2~6μm,装饰区域上的导电图案线宽为7~100μm。
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公开(公告)号:CN104685976A
公开(公告)日:2015-06-03
申请号:CN201380051742.0
申请日:2013-09-27
Applicant: 东丽株式会社
CPC classification number: G03F7/20 , G03F7/0043 , G03F7/028 , G03F7/2022 , G06F3/041 , G06F3/047 , G06F2203/04103 , G09G5/003 , G09G2300/0404 , H05K3/1283 , H05K2203/1131 , G03F7/2002
Abstract: 本发明的目的在于提供如下导电图案的制造方法,该方法能够获得导电性良好的导电图案、能够显著提高生产效率而无需伴随高温且长时间的加热处理。本发明提供导电图案的制造方法,其具备如下曝光工序:用具有广谱的光对包含导电性颗粒A和有机化合物B的基板上的膜或图案进行曝光,从而得到导电膜或导电图案。
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公开(公告)号:CN102379011B
公开(公告)日:2012-12-05
申请号:CN201080014569.3
申请日:2010-03-03
Applicant: 东丽株式会社
CPC classification number: H01J9/02 , H01B1/16 , H01J11/22 , H01J2211/225
Abstract: 通过制成含有平均粒径为1~4μm的铝粉末30~45重量%、软化点为400~550℃的玻璃粉末5~15重量%、感光性有机成分15~30重量%、和溶剂20~40重量%的感光性导电糊料,来提供可低成本地形成导电性高的电极的感光性导电糊料、和使用该感光性导电糊料得到的显示器。
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