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    粒子射线照射装置及粒子射线治疗装置
    1.
    发明公开
    粒子射线照射装置及粒子射线治疗装置 有权 转让

    公开(公告)号：CN104023791A

    公开(公告)日：2014-09-03

    申请号：CN201180074600.7

    申请日：2011-11-03

    Applicant: 三菱电机株式会社

    Inventor： 池田昌广 ,  原田久 ,  花川和之 ,  大谷利宏 ,  片寄雅 ,  本田泰三 ,  山田由希子 ,  蒲越虎

    IPC: A61N5/10

    CPC classification number: A61N5/1081 ,  A61N5/1077 ,  A61N2005/1087 ,  A61N2005/1095

    Abstract: 本发明的目的在于，即使带电粒子束为低能量，也以较小的射束尺寸对照射对象进行照射。本发明的粒子射线照射装置(58)的特征在于，包括：形成供带电粒子束(1)通过的真空区域的真空管道(6、7)；从真空区域释放带电粒子束(1)的真空窗8；在与射束轴垂直的方向上扫描带电粒子束(1)的扫描电磁铁(2、3)；具有对带电粒子束(1)的通过位置以及射束尺寸进行检测的位置监视器(5)的监视器装置(67)；覆盖真空窗(8)、并在下游侧配置有监视器装置(67)的低散射气体填充室(39)；以及对带电粒子束(1)的照射进行控制的照射管理装置(20)，低散射气体填充室(39)配置成使得监视器装置(67)与真空窗(8)在射束轴向上的相对位置能变更为规定位置，在照射带电粒子束(1)时，填充有散射比空气小的低散射气体。

    切割电磁铁及粒子射线治疗装置
    3.
    发明公开
    切割电磁铁及粒子射线治疗装置 失效

    公开(公告)号：CN103370991A

    公开(公告)日：2013-10-23

    申请号：CN201280001031.8

    申请日：2012-02-13

    Applicant: 三菱电机株式会社

    Inventor： 菅原贤悟 ,  吉田克久 ,  大谷利宏 ,  益野真一 ,  加岛文彦

    IPC: H05H7/04

    CPC classification number: H05H7/04 ,  A61N5/1077 ,  A61N2005/1087 ,  H05H7/08 ,  H05H7/10 ,  H05H2007/046 ,  H05H2007/087

    Abstract: 切割电磁铁构成为包括：磁轭(1)，该磁轭(1)呈弧状，具有在外周侧形成开口并沿周向延伸的空隙部(1s)，并且该磁轭(1)构成为能在轴向上的大致中央部进行分割；切割线圈(3)，该切割线圈(3)设置在空隙部(1s)内的径向的外侧，且有电流沿周向的一个方向流过；回程线圈(4)，该回程线圈(4)以隔着规定间隔与切割线圈(3)相对的方式设置在空隙部(1s)内的径向的内侧，且有与切割线圈(3)反向的电流流过；以及真空管道(2)，该真空管道(2)设置在切割线圈(3)和回程线圈(4)之间，切割线圈(3)形成为能与磁轭(1)的分割相对应地分离成第一部分(3u)和第二部分(3d)，并且，在切割线圈(3)和真空管道(2)之间设有辅助线圈(5)，在该辅助线圈(5)的与切割线圈(3)的第一部分(3u)和第二部分(3d)对应的部分(5u、5d)中有周向上的彼此反向的电流流过。

    粒子射线治疗装置及粒子射线治疗装置的运转方法
    5.
    发明授权
    粒子射线治疗装置及粒子射线治疗装置的运转方法 失效

    公开(公告)号：CN104010694B

    公开(公告)日：2016-07-06

    申请号：CN201280064257.2

    申请日：2012-03-27

    Applicant: 三菱电机株式会社

    Inventor： 山田由希子 ,  原田久 ,  本田泰三 ,  池田昌广 ,  花川和之 ,  大谷利宏 ,  片寄雅

    IPC: A61N5/10

    CPC classification number: A61N5/1048 ,  A61N5/1043 ,  A61N5/1077 ,  A61N2005/1074 ,  A61N2005/1087 ,  H05H13/04 ,  H05H2277/11

    Abstract: 控制部(20)中设置有：运转模式保持部(25)，该运转模式保持部(25)中，作为加速器(10)周期反复的运转模式，保持有多个运转模式(OP-S,OP-L)，该多个运转模式(OP-S,OP-L)中，能够射出粒子射线(B)的时间(To)不同，且分别对操作条件进行了调整，以使得即使在存在磁滞的情况下，也能够使加速器(10)的偏转电磁铁(13)产生所希望的磁场强度；照射条件读取部(22)，该照射条件读取部(22)对于在深度方向分割照射对象后得到的多个切片，读取每个切片的照射条件；运转模式选择部(23)，该运转模式选择部(23)根据所读取出的照射条件，从多个运转模式中选择与该切片相适应的运转模式；以及主控制部(21)，该主控制部(21)对于每个切片，根据选择的运转模式来控制加速器(10)，并且根据照射条件来控制照射装置(40)。

    粒子射线治疗系统
    6.
    发明公开
    粒子射线治疗系统 有权 转让

    公开(公告)号：CN105517629A

    公开(公告)日：2016-04-20

    申请号：CN201380079237.7

    申请日：2013-08-29

    Applicant: 三菱电机株式会社

    Inventor： 大谷利宏 ,  小田原周平

    IPC: A61N5/10

    CPC classification number: A61N5/1079 ,  A61N5/1077 ,  A61N2005/1087 ,  A61N2005/1095 ,  H05H7/04 ,  H05H2007/048

    Abstract: 粒子射线传输部(5)具有：使粒子射线偏转至与圆形加速器(12)的加速器中间面平行的方向的水平偏转电磁体(501,502,503)；使被该水平偏转电磁体弯曲了前进方向的粒子射线偏转至与平行于加速器中间面的方向不同的方向的第一垂直偏转电磁体(551)；以及弯曲前进方向以使得被该第一垂直偏转电磁体弯曲了前进方向的粒子射线在与加速器中间面平行的方向上前进的第二垂直偏转电磁体(552)，水平偏转电磁体设置在与设置有粒子射线照射部(15)的层不同的层中。

    粒子射线治疗装置及粒子射线治疗装置的运行方法
    7.
    发明公开
    粒子射线治疗装置及粒子射线治疗装置的运行方法 失效

    公开(公告)号：CN104010694A

    公开(公告)日：2014-08-27

    申请号：CN201280064257.2

    申请日：2012-03-27

    Applicant: 三菱电机株式会社

    Inventor： 山田由希子 ,  原田久 ,  本田泰三 ,  池田昌广 ,  花川和之 ,  大谷利宏 ,  片寄雅

    IPC: A61N5/10

    CPC classification number: A61N5/1048 ,  A61N5/1043 ,  A61N5/1077 ,  A61N2005/1074 ,  A61N2005/1087 ,  H05H13/04 ,  H05H2277/11

    Abstract: 控制部(20)中设置有：运转模式保持部(25)，该运转模式保持部(25)中，作为加速器(10)周期反复的运转模式，保持有多个运转模式(OP-S,OP-L)，该多个运转模式(OP-S,OP-L)中，能够射出粒子射线(B)的时间(To)不同，且分别对操作条件进行了调整，以使得即使在存在磁滞的情况下，也能够使加速器(10)的偏转电磁铁(13)产生所希望的磁场强度；照射条件读取部(22)，该照射条件读取部(22)对于在深度方向分割照射对象后得到的多个切片，读取每个切片的照射条件；运转模式选择部(23)，该运转模式选择部(23)根据所读取出的照射条件，从多个运转模式中选择与该切片相适应的运转模式；以及主控制部(21)，该主控制部(21)对于每个切片，根据选择的运转模式来控制加速器(10)，并且根据照射条件来控制照射装置(40)。

    粒子束位置监视装置及粒子射线治疗装置
    9.
    发明授权
    粒子束位置监视装置及粒子射线治疗装置 有权 转让

    公开(公告)号：CN103339529B

    公开(公告)日：2015-08-12

    申请号：CN201280002289.X

    申请日：2012-01-20

    Applicant: 三菱电机株式会社

    Inventor： 本田泰三 ,  原田久 ,  蒲越虎 ,  池田昌广 ,  花川和之 ,  大谷利宏 ,  片寄雅 ,  山田由希子

    IPC: G01T1/29 ,  G21K5/04

    CPC classification number: A61N5/1048 ,  A61N5/1043 ,  A61N5/1071 ,  A61N2005/1074 ,  A61N2005/1087 ,  G01T1/29 ,  G21K5/00 ,  G21K5/02

    Abstract: 本发明的粒子束位置监视装置的目的在于即使是在受到伴随带电粒子束的照射而产生的放射线的影响的情况下，也能缩短带电粒子束的照射位置的取得间隔。粒子束位置监视装置(30)具备：多个位置监视器(4)；以及粒子束数据处理装置(11)，该粒子束数据处理装置(11)基于从多个位置监视器(4)输出的多个信号对带电粒子束(1)的状态进行运算处理，粒子束数据处理装置(11)具有：多个信道数据转换部(21)，该多个信道数据转换部(21)对于从位置监视器(4)输出的多个信号执行AD转换处理；对应于每个位置监视器(4)的位置尺寸处理部(23)，该位置尺寸处理部(23)基于进行了AD转换处理后的电压信息对粒子束(1)的粒子束位置进行计算；以及综合控制部(40)，该综合控制部(40)在粒子束(1)对照射对象(15)进行照射的期间对多个信道数据转换部(21)进行控制，使得对与多个信号对应的每个位置监视器(4)在错开的定时执行AD转换处理。

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