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发明公开
形成图案的方法审中-实审

公开(公告)号：CN119002174A

公开(公告)日：2024-11-22

申请号：CN202410572064.2

申请日：2024-05-10

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 朴庆熏 , 文炯朗 , 朴时均 , 郭泽秀 , 宋明洙 , 李东炯 , 范泰源 , 宋东训

IPC: G03F7/00 , G03F7/32

Abstract: 提供一种形成图案的方法，所述方法包括：在衬底上涂布含金属的抗蚀剂组合物以形成抗蚀剂层；沿着衬底的边缘涂布用于移除边缘珠粒的组合物；实行干燥和热处理；以及进行曝光和显影以形成抗蚀剂图案，其中在涂布用于移除边缘珠粒的组合物之后，在从衬底的边缘朝向衬底的中心约1mm到约30mm的区域中，抗蚀剂层的最大隆起高度小于或等于约300nm。

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