公开(公告)号：CN112409824B

公开(公告)日：2022-04-05

申请号：CN202010771243.0

申请日：2020-08-04

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 裵镇希 ,  郭泽秀 ,  姜明镐 ,  张胜宇 ,  卢健培

IPC: C09D1/00 ,  H01L21/316

Abstract: 提供一种用于形成二氧化硅层的组成物、由其制造的二氧化硅层以及包含二氧化硅层的电子器件，组成物包含含硅聚合物和溶剂，其中当将70克的用于形成二氧化硅层的组成物添加到100毫升容器，在40℃下使其静置28天，且获得由组成物产生的1毫升的气体时，1毫升的气体包含氢气、硅烷气体SiH4以及氨气，且氢气、硅烷气体SiH4以及氨气满足等式1：[等式1](氢气量(ppm))/(硅烷气体SiH4的量(ppm)+氨气量(ppm))≥1.5本申请能使二氧化硅层内部的空隙的数目最小。

公开(公告)号：CN112409824A

公开(公告)日：2021-02-26

申请号：CN202010771243.0

申请日：2020-08-04

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 裵镇希 ,  郭泽秀 ,  姜明镐 ,  张胜宇 ,  卢健培

IPC: C09D1/00 ,  H01L21/316

Abstract: 提供一种用于形成二氧化硅层的组成物、由其制造的二氧化硅层以及包含二氧化硅层的电子器件，组成物包含含硅聚合物和溶剂，其中当将70克的用于形成二氧化硅层的组成物添加到100毫升容器，在40℃下使其静置28天，且获得由组成物产生的1毫升的气体时，1毫升的气体包含氢气、硅烷气体SiH4以及氨气，且氢气、硅烷气体SiH4以及氨气满足等式1：[等式1](氢气量(ppm))/(硅烷气体SiH4的量(ppm)+氨气量(ppm))≥1.5本申请能使二氧化硅层内部的空隙的数目最小。