公开(公告)号：CN109415598A

公开(公告)日：2019-03-01

申请号：CN201780039537.0

申请日：2017-06-08

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 朴京主 ,  俞龙植

IPC: C09G1/02 ,  C09K3/14

Abstract: 本发明的用于金属膜的CMP浆料组合物包含磨粒、溶剂、氧化剂、金属离子和还原剂。

公开(公告)号：CN106687553B

公开(公告)日：2019-01-11

申请号：CN201580049063.9

申请日：2015-06-10

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 俞龙植 ,  崔正敏 ,  姜东宪 ,  金泰完 ,  金古恩 ,  金容国

IPC: C09K3/14 ,  H01L21/304

Abstract: 本发明涉及用于抛光有机膜的用于有机膜的CMP浆料组合物以及使用其的有机膜抛光方法，所述CMP浆料组合物包含：极性溶剂和/或非极性溶剂；金属氧化物研磨剂；氧化剂；和杂环化合物，其中作为杂原子的杂环化合物包含氧(O)原子、硫(S)原子和氮(N)原子中的一种或两种并且具有50‑95原子％的碳含量。

公开(公告)号：CN106687553A

公开(公告)日：2017-05-17

申请号：CN201580049063.9

申请日：2015-06-10

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 俞龙植 ,  崔正敏 ,  姜东宪 ,  金泰完 ,  金古恩 ,  金容国

IPC: C09K3/14 ,  H01L21/304

CPC classification number: C09K3/14 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1472 ,  H01L21/31058

Abstract: 本发明涉及用于抛光有机膜的用于有机膜的CMP浆料组合物以及使用其的有机膜抛光方法，所述CMP浆料组合物包含：极性溶剂和/或非极性溶剂；金属氧化物研磨剂；氧化剂；和杂环化合物，其中作为杂原子的杂环化合物包含氧(O)原子、硫(S)原子和氮(N)原子中的一种或两种并且具有50‑95原子％的碳含量。

公开(公告)号：CN109415598B

公开(公告)日：2021-10-22

申请号：CN201780039537.0

申请日：2017-06-08

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 朴京主 ,  俞龙植

IPC: C09G1/02 ,  C09K3/14

Abstract: 本发明的用于金属膜的CMP浆料组合物包含磨粒、溶剂、氧化剂、金属离子和还原剂。

公开(公告)号：CN110023433B

公开(公告)日：2021-08-03

申请号：CN201780074614.6

申请日：2017-09-12

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 金廷熙 ,  姜东宪 ,  崔正敏 ,  俞龙植

IPC: C09G1/18 ,  B24B57/02 ,  H01L21/304 ,  H01L21/306

Abstract: 本发明的一种用于抛光有机膜的浆料组合物，其包括氧化剂、有机酸、包含衍生自马来酸或马来酸酐的重复单元的抛光促进剂和水，其中该抛光促进剂以低于有机酸的重量被包括。

公开(公告)号：CN110023433A

公开(公告)日：2019-07-16

申请号：CN201780074614.6

申请日：2017-09-12

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 金廷熙 ,  姜东宪 ,  崔正敏 ,  俞龙植

IPC: C09G1/18 ,  B24B57/02 ,  H01L21/304 ,  H01L21/306

Abstract: 本发明的一种用于抛光有机膜的浆料组合物，其包括氧化剂、有机酸、包含衍生自马来酸或马来酸酐的重复单元的抛光促进剂和水，其中该抛光促进剂以低于有机酸的重量被包括。