公开(公告)号：CN1740396B

公开(公告)日：2011-04-06

申请号：CN200510088504.4

申请日：2005-08-02

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 金有京 ,  洪昌基 ,  崔相俊 ,  韩政男

IPC: C23F1/16

CPC classification number: C23F1/28 ,  B82Y25/00 ,  B82Y40/00 ,  C23F1/16 ,  C23F1/26 ,  C23F1/44 ,  H01F41/308 ,  H01F41/34 ,  H01L21/32134 ,  H01L43/12

Abstract: 本发明提供了一种包括去离子水和有机酸的蚀刻剂溶液，该有机酸具有羧基和氢氧基。还公开了用于形成磁存储器件的方法。

公开(公告)号：CN1740396A

公开(公告)日：2006-03-01

申请号：CN200510088504.4

申请日：2005-08-02

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 金有京 ,  洪昌基 ,  崔相俊 ,  韩政男

IPC: C23F1/16

CPC classification number: C23F1/28 ,  B82Y25/00 ,  B82Y40/00 ,  C23F1/16 ,  C23F1/26 ,  C23F1/44 ,  H01F41/308 ,  H01F41/34 ,  H01L21/32134 ,  H01L43/12

Abstract: 本发明提供了一种包括去离子水和有机酸的蚀刻剂溶液，该有机酸具有羧基和氢氧基。还公开了用于形成磁存储器件的方法。