随机预测系统、提供其的方法和制造极紫外光掩模的方法

    公开(公告)号:CN115079507A

    公开(公告)日:2022-09-20

    申请号:CN202111650279.4

    申请日:2021-12-30

    Inventor: 曹宇镛 许建

    Abstract: 本发明构思提供了随机预测系统、提供该随机预测系统的方法和制造极紫外光掩模的方法。所述提供随机预测系统的方法包括:分别从多个扫描电子显微镜(SEM)图像提取与第一设计布局对应的图案的轮廓;基于所述轮廓生成第一轮廓直方图图像;以及通过使用所述第一轮廓直方图图像作为输出并且通过使用所述第一设计布局以及与所述第一设计布局对应的第一抗蚀剂图像、第一航摄图像、第一斜率图、第一密度图和/或第一光子图作为输入来训练随机预测模型,其中,所述随机预测模型包括循环生成对抗网络(GAN)。

    轮廓概率预测方法
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118629036A

    公开(公告)日:2024-09-10

    申请号:CN202410255103.6

    申请日:2024-03-06

    Inventor: 李赫 梁宰圆 许建

    Abstract: 提供了一种概率上预测轮廓的轮廓概率预测方法,该轮廓概率预测方法包括:获取针对已经根据设计图像对其执行了工艺的晶片的图像的多个轮廓图像;根据该多个轮廓图像确定轮廓平均和轮廓标准偏差;基于该轮廓平均和该轮廓标准偏差,生成利用概率分布计算的概率分布图像;以及通过将该设计图像和该概率分布图像输入到概率预测模型,来深度学习训练概率预测模型。

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