半导体器件及其制造方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115700910A

    公开(公告)日:2023-02-07

    申请号:CN202210777377.2

    申请日:2022-07-01

    Abstract: 一种半导体器件包括衬底。导电层设置在衬底上并且沿第一方向延伸。绝缘层设置在导电层上并且通过通路孔暴露导电层的至少一部分。通路孔包括相对于导电层的顶面以第一坡度延伸的第一面。第二面相对于导电层的顶面以小于第一坡度的第二坡度延伸。再分布导电层包括设置在通路孔中的第一焊盘区域。线路区域至少部分地沿着第一面和第二面延伸。第一面直接接触导电层。第二面在垂直于衬底的顶面的第三方向上位于比第一面高的高度处。

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