公开(公告)号：CN116339069A

公开(公告)日：2023-06-27

申请号：CN202211615540.1

申请日：2022-12-15

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 权美珍 ,  梁承薰 ,  李荣烨

IPC: G03F1/70 ,  G03F1/76

Abstract: 一种校正图案布图错误的方法，包括：设计目标图案的布图；检查目标图案的布图与基于目标图案的布图制造的光掩模中的真实图案的布图之间的错误；生成分别在目标图案的布图的轮廓中的多个点处的EPE向量；计算每个生成的EPE向量分别在水平和垂直方向上的水平和垂直元素；基于所计算的EPE向量的水平和垂直元素，计算目标图案的布图在每个方向的偏移代表值；以及基于偏移代表值校正目标图案的布图。

公开(公告)号：CN113053930A

公开(公告)日：2021-06-29

申请号：CN202011037196.3

申请日：2020-09-27

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 赵容震 ,  郭恩儿 ,  权美珍 ,  李英美

IPC: H01L27/146

Abstract: 一种图像传感器包括第一像素行和第二像素行，第一像素行和第二像素行中的每一个像素行包括在第一方向上布置的像素，第一像素行和第二像素行在与第一方向交叉的第二方向上彼此相邻。图像传感器还包括：器件隔离图案，设置在第一像素行与第二像素行之间并在第一方向上彼此间隔开；以及支撑图案，设置在第一像素行与第二像素行之间并介于器件隔离图案之间。支撑图案中的每一个连接到像素中的对应像素。

公开(公告)号：CN116068841A

公开(公告)日：2023-05-05

申请号：CN202211356766.4

申请日：2022-11-01

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 权美珍 ,  吕尚哲

IPC: G03F1/36 ,  G03F7/20

Abstract: 提供了一种能够制造包括曲线图案的掩模的可靠的掩模布局校正方法以及包括该校正方法的掩模制造方法。基于机器学习的掩模布局校正方法可以包括：获取包括曲线图案的掩模的经光学邻近校正(OPC)的布局图像；从基于经OPC的布局图像制造的掩模的扫描电子显微镜(SEM)图像提取掩模轮廓图像；使用经OPC的布局图像和掩模轮廓图像执行机器学习以生成转换模型；以及使用转换模型校正经OPC的布局图像。