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公开(公告)号：CN115719720A
公开(公告)日：2023-02-28
申请号：CN202211011661.5
申请日：2022-08-23
Applicant: 三星电子株式会社
Inventor： 许硕 , 高次元 , 金贤友 , 洪尚俊 , 姜景元 , 金东昱 , 徐璟源 , 张永日 , 崔容锡
IPC: H01L21/67
Abstract: 提供了一种基底处理设备，所述基底处理设备包括：光致抗蚀剂涂覆器，在基底上敷设光致抗蚀剂膜；加湿器，增大基底上的光致抗蚀剂膜暴露到的环境中的湿气的量；以及曝光器，用光照射暴露于具有增大的量的湿气的环境中的光致抗蚀剂膜。加湿器设置在光致抗蚀剂涂覆器与曝光器之间。
